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    • 121. 发明申请
    • 撮像パネル及び当該撮像パネルを備えるX線撮像システム
    • 成像面板和X射线成像系统提供与成像面板
    • WO2016002612A1
    • 2016-01-07
    • PCT/JP2015/068305
    • 2015-06-25
    • シャープ株式会社
    • 森 重恭冨安 一秀
    • H01L27/144A61B6/00G01T1/20H01L27/146H01L31/10H04N5/32H04N5/369
    • H01L27/14663A61B6/4216A61B6/4233G01T1/20H01L27/14614H01L27/14632H01L27/14687H01L31/10H04N5/32H04N5/359
    •  間接変換方式のX線撮像システムに用いられる撮像パネルにおいて、薄膜トランジスタの安定した動作を実現できるようにする。撮像パネル(12)は、基板(20)と、薄膜トランジスタ(24)と、光電変換素子(26)と、バイアス配線)46)とを含む。薄膜トランジスタは、基板上に形成される。光電変換素子は、薄膜トランジスタに接続され、シンチレーション光が照射される。バイアス配線は、光電変換素子に接続され、光電変換素子に対して逆バイアスとなる電圧を印加する。薄膜トランジスタは、半導体活性層(32)と、ゲート電極(28)とを含む。ゲート電極は、基板と半導体活性層との間に形成される。バイアス配線は、シンチレーション光の照射方向から見て、ゲート電極及び半導体活性層に重なる部分を含む。
    • 本发明使得间接转换X射线成像系统中使用的成像面板中的薄膜晶体管的稳定运行成为可能。 所述成像面板(12)设置有基板(20),上述薄膜晶体管(24),光电转换元件(26)和偏置导线(46)。 薄膜晶体管形成在基板上。 光电转换元件连接到薄膜晶体管并暴露于闪烁光。 偏置线连接到光电转换元件,并向光电转换元件施加相反偏压的电压。 薄膜晶体管设置有半导体有源层(32)和栅电极(28)。 所述栅电极形成在上述衬底和半导体有源层之间。 从闪烁光入射的方向看,偏置线具有与栅电极和半导体活性层重叠的部分。
    • 122. 发明申请
    • DEVICE AND METHOD
    • 装置和方法
    • WO2015166238A1
    • 2015-11-05
    • PCT/GB2015/051245
    • 2015-04-29
    • ISDI LIMITED
    • ANAXAGORAS, Thalis
    • H04N5/3745H04N5/355H04N5/32
    • H04N5/3559H04N5/32H04N5/37452H04N5/378
    • Embodiments of the present invention provide a detector comprising at least one detector element, the at least one detector element comprising: a photodiode element operable to generate charge carriers, the detector being configured to generate a signal indicative of a cumulative amount of charge carriers generated by the photodiode element during the integration period; a reset switch element configured to couple the photodiode element to a reset potential; at least one charge storage reservoir; and at least one gain control switch element configured to couple at least one said at least one charge storage reservoir to the photodiode element, wherein the detector is configured to perform a reset operation in which the reset switch element and at least one said at least one gain control switch element are closed in order to couple at least one said at least one charge storage reservoir and the photodiode element to the reset potential, the detector being configured to open at least one gain control switch element following a reset operation in dependence on whether at least one charge storage reservoir is to remain connected to the photodiode element during the integration period.
    • 本发明的实施例提供了一种包括至少一个检测器元件的检测器,所述至少一个检测器元件包括:可操作以产生电荷载流子的光电二极管元件,所述检测器被配置为产生指示由 在积分期间的光电二极管元件; 复位开关元件,其被配置为将所述光电二极管元件耦合到复位电位; 至少一个蓄电池; 以及至少一个增益控制开关元件,其被配置为将至少一个所述至少一个电荷存储容器耦合到所述光电二极管元件,其中所述检测器被配置为执行复位操作,其中所述复位开关元件和至少一个所述至少一个 增益控制开关元件被关闭以将至少一个所述至少一个电荷存储容器和光电二极管元件耦合到复位电位,所述检测器被配置为根据复位操作来打开至少一个增益控制开关元件,这取决于是否 至少一个电荷存储容器在积分期间保持连接到光电二极管元件。
    • 123. 发明申请
    • 光検出装置
    • 光检测装置
    • WO2015163288A1
    • 2015-10-29
    • PCT/JP2015/061998
    • 2015-04-20
    • シャープ株式会社
    • 冨安 一秀
    • H01L27/146G01T1/20G01T7/00H01L21/336H01L29/786H01L31/10H04N5/32H04N5/369
    • G01T1/20G01T7/00H01L27/146H01L29/786H01L31/10H04N5/32H04N5/369
    •  本発明は、フォトダイオードとTFTとを有する光検出装置の開口率が制限されることを抑制し、かつ、製造歩留まりを向上させることを目的とする。 光検出装置(100)は、基板(10)と、基板に支持された、半導体層(24)、ソース電極(26)、ドレイン電極(28)およびゲート電極(22)を有するTFT(20)と、TFTを覆う絶縁層(32)と、絶縁層上に配置された、半導体積層構造(42)および上部電極(44)を有するフォトダイオード(40)とを有し、絶縁層は、ドレイン電極に至る開口部(32c)を有し、半導体積層構造は、開口部内でドレイン電極と直接接触し、ドレイン電極に電気的に接続され、基板の法線方向から見たとき、開口部は半導体積層構造の内側にあり、半導体積層構造は半導体層と重ならない。
    • 本发明的目的是抑制具有光电二极管和TFT的光检测装置的开口率的限制,并提高制造成品率。 光检测装置(100)包括:基板(10); 由所述基板支撑并具有半导体层(24),源极(26),漏极(28)和栅电极(22)的TFT(20)。 覆盖TFT的绝缘层(32); 和设置在所述绝缘层上且具有半导体层叠结构(42)和上部电极(44)的光电二极管(40),所述绝缘层具有通向所述漏极的开口(32c),所述半导体层叠结构直接 与开口内的漏电极接触并与漏电极电连接,当从基板的法线方向观察时,开口位于半导体层叠结构内部,半导体层叠结构不与半导体层叠 层。
    • 125. 发明申请
    • 二次元フォトンカウンティング素子
    • 二维光子计数元件
    • WO2015087663A1
    • 2015-06-18
    • PCT/JP2014/080484
    • 2014-11-18
    • 浜松ホトニクス株式会社
    • 市河 実藤田 一樹森 治通
    • H04N5/32G01T1/24H01L27/144H01L27/146H04N5/378
    • G01J1/4228G01T1/16G01T1/2928H04N5/32H04N5/347H04N5/37455
    •  加算部53は、或る画素電極部の周囲に配置された画素電極部のうち特定の画素電極部に接続された信号生成部51において生成された入力信号と、上記或る画素電極部に接続された信号生成部51において生成された入力信号と、を加算する。キャリア入力パターン判別部56は、上記或る画素電極部及び当該或る画素電極部の周囲に配置された上記画素電極部へのキャリアの入力の有無を画素電極部毎に表すキャリア入力パターンが、複数の判別パターンの何れかに合致するか否かの判別を行う。計数部57は、キャリア入力パターン判別部56においてキャリア入力パターンが複数の判別パターンの何れかと合致すると判別され、且つ加算部53から出力された加算後の入力信号の大きさが所定の閾値を超えた場合に、光子数を加算する。
    • 加法单元(53)添加:在设置在一个像素电极单元周围的像素电极单元中的与特定像素电极单元连接的信号生成单元(51)中生成的输入信号; 以及在与一个像素电极单元连接的信号生成单元(51)中生成的输入信号。 载波输入图案确定单元(56)确定对于每个像素电极单元是否存在输入到一个像素电极单元的载体和设置在周边的像素电极单元的载体输入图案 所述一个像素电极单元对应于多个确定模式中的任何一个。 当载波输入图形确定单元(56)确定载波输入模式对应于多个确定模式中的任何一个时,并且从加法单元(53)输出的相加输入信号的大小超过规定的 阈值计数单元(57)计算光子数。
    • 129. 发明申请
    • 固体撮像装置
    • 固态成像装置
    • WO2014199838A1
    • 2014-12-18
    • PCT/JP2014/064319
    • 2014-05-29
    • 浜松ホトニクス株式会社
    • 藤田 一樹久嶋 竜次森 治通
    • H04N5/365H01L27/146H04N5/32
    • H01L27/14603H01L27/14609H01L27/14663H04N5/32H04N5/359
    •  固体撮像装置1Aは、受光部20、不要キャリア捕獲部30、及び垂直シフトレジスタ60を備える。不要キャリア捕獲部30は、受光部20と垂直シフトレジスタ60との間の領域において各行毎に配置されたキャリア捕獲領域DA 1 ~DA M を有する。キャリア捕獲領域DA 1 ~DA M は、トランジスタ及びフォトダイオードを含む。トランジスタの一端はフォトダイオードに接続されており、他端は電荷排出用配線R d に接続されている。電荷排出用配線R d は、基準電位線GNDに短絡されている。これにより、ダミーフォトダイオードに隣接する画素の出力特性やノイズの大きさを、他の画素に近づけることができる固体撮像装置が実現される。
    • 该固态成像装置(1A)具有光接收部(20),不需要的载体捕获部(30)和垂直移位寄存器(60)。 在光接收部分(20)和垂直移位寄存器(60)之间的区域中,不需要的载波捕获部分(30)对于每一行都具有载波捕获区域(DA1至DAM)。 所述载流子捕获区域(DA1至DAM)中的每一个包含晶体管和光电二极管,晶体管的一端连接到光电二极管,晶体管的另一端连接到电荷消除线(Rd)。 所述电荷消除线(Rd)与基准电位线(GND)短路。 这导致固态成像装置,其中与虚拟光电二极管相邻的像素的输出特性和所述像素中的噪声的幅度可以接近于其他像素的输出特性。
    • 130. 发明申请
    • CHARGE INJECTION COMPENSATION FOR DIGITAL RADIOGRAPHIC DETECTORS
    • 数字放射性检测器的电荷注入补偿
    • WO2014070719A1
    • 2014-05-08
    • PCT/US2013/067234
    • 2013-10-29
    • CARESTREAM HEALTH, INC.
    • SHAFER, Mark, E.HEILER, Gregory, N.GEISBUESCH, GordonTREDWELL, Timothy, J.
    • H04N5/3745H04N5/32H04N5/357H04N5/365
    • H04N5/32G01T1/247H04N5/357H04N5/365H04N5/3745
    • Embodiments of DR detector methods and/or apparatus for charge compensation can provide charge injection and/or at least one charge injection circuit that can temporally cancel charge injection to readout circuits resulting from positive (and/or negative) transitions of gate lines for pixel signal readout. In certain exemplary embodiments, DR detector imaging array methods and/or apparatus can provide variable charge injection levels (e.g., voltage or capacitance), variable Tau (e.g., resistance or capacitance), and/or multi-charge injection with staggered timing (e.g., using voltage and/or capacitance steps). In certain exemplary embodiments, DR detector imaging array methods and/or apparatus can provide charge injection compensation on ROIC on mask block basis. In exemplary embodiments, DR detector imaging array methods and/or apparatus can provide voltage reset offset in readout circuits (e.g., ROICs).
    • 用于电荷补偿的DR检测器方法和/或装置的实施例可以提供电荷注入和/或至少一个电荷注入电路,其可以暂时地抵消由用于像素信号的栅极线的正(和/或负)跃迁导致的读出电路的电荷注入 读出。 在某些示例性实施例中,DR检测器成像阵列方法和/或装置可以提供可变电荷注入水平(例如,电压或电容),可变Tau(例如,电阻或电容)和/或具有交错定时的多电荷注入(例如, ,使用电压和/或电容步骤)。 在某些示例性实施例中,DR检测器成像阵列方法和/或装置可以基于掩码块在ROIC上提供电荷注入补偿。 在示例性实施例中,DR检测器成像阵列方法和/或设备可以在读出电路(例如,ROIC)中提供电压复位偏移。