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91. 发明申请

WO2022026980A1 SYSTEM FOR THERMAL DEVELOPMENT OF FLEXOGRAPHIC PRINTING PLATES 审中-公开
公开(公告)号：WO2022026980A1
公开(公告)日：2022-02-03
申请号：PCT/US2021/070906
申请日：2021-07-20
申请人： MACDERMID GRAPHICS SOLUTIONS, LLC
发明人： MARKHART, Gary T. , VEST, Ryan, W.
IPC分类号： G03F7/26 , G03F7/34 , G03F7/36
摘要： The present disclosure is directed to a thermal developing assembly that is configured to reduce (or eliminate) the reactivity of contaminants and/or unreacted photosensitive material associated with forming a relief image on a photosensitive printing element during thermal development. The thermal developing assembly is configured to reduce (or eliminate) the reactivity of a byproduct associated with forming a relief image on a photosensitive printing element, the byproduct including but not limited to, contaminants within vapors (e.g., fumes), contaminants within condensate, unreacted photosensitive material, and combinations thereof.

92. 发明申请

WO2022010809A1 INTEGRATED DRY PROCESSES FOR PATTERNING RADIATION PHOTORESIST PATTERNING 审中-公开
公开(公告)号：WO2022010809A1
公开(公告)日：2022-01-13
申请号：PCT/US2021/040381
申请日：2021-07-02
申请人： LAM RESEARCH CORPORATION
发明人： YU, Jengyi , TAN, Samantha S.H. , ALVI, Mohammed Haroon , WISE, Richard , PAN, Yang , GOTTSCHO, Richard A. , LAVOIE, Adrien , KANAKASABAPATHY, Sivananda Krishnan , WEIDMAN, Timothy William , LIN, Qinghuang , HUBACEK, Jerome
IPC分类号： G03F7/16 , G03F7/38 , G03F7/36 , G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/11 , H01L21/67 , C23C16/00 , G03F7/0042 , G03F7/167 , G03F7/168 , H01L21/67167 , H01L21/67207
摘要： Methods for making thin-films on semiconductor substrates, which may be patterned using EUV, include: depositing the organometallic polymer-like material onto the surface of the semiconductor substrate, exposing the surface to EUV to form a pattern, and developing the pattern for later transfer to underlying layers. The depositing operations may be performed by chemical vapor deposition (CVD), atomic layer deposition (ALD), and ALD with a CVD component, such as a discontinuous, ALD-like process in which metal precursors and counter-reactants are separated in either time or space.

93. 发明申请

WO2022005855A1 DRY DEVELOP PROCESS OF PHOTORESIST 审中-公开
公开(公告)号：WO2022005855A1
公开(公告)日：2022-01-06
申请号：PCT/US2021/038758
申请日：2021-06-23
申请人： APPLIED MATERIALS, INC.
发明人： DAI, Yuqiong , SACHAN, Madhur , FREED, Regina , HWANG, Hoyung, David
IPC分类号： G03F7/36 , G03F7/004 , G03F7/20 , C23C16/06 , G03F7/0042 , G03F7/0043 , G03F7/0047 , G03F7/162 , G03F7/40
摘要： Embodiments disclosed herein include a method of developing a metal oxo photoresist with a non-wet process. In an embodiment, the method comprises providing a substrate with the metal oxo photoresist into a chamber. In an embodiment, the metal oxo photoresist comprises exposed regions and unexposed regions, and the unexposed regions comprise a higher carbon concentration than the exposed regions. In an embodiment, the method further comprises flowing a gas into the chamber, wherein the gas reacts with the unexposed regions to produce a volatile byproduct.

94. 发明申请

WO2021175589A1 METHOD AND APPARATUS FOR FORMING A PATTERNED LAYER OF MATERIAL 审中-公开
公开(公告)号：WO2021175589A1
公开(公告)日：2021-09-10
申请号：PCT/EP2021/053852
申请日：2021-02-17
申请人： STICHTING NEDERLANDSE WETENSCHAPPELIJK ONDERZOEK INSTITUTEN , UNIVERSITEIT VAN AMSTERDAM , STICHTING VU , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： KURGANOVA, Evgenia , DE VRIES, Gosse, Charles , POLYAKOV, Alexey, Olegovich , OVERKAMP, Jim, Vincent , COENEN, Teis, Johan , DRUZHININA, Tamara , CASTELLANOS ORTEGA, Sonia , LUGIER, Olivier, Christian, Maurice
IPC分类号： C23C16/04 , C23C16/26 , C23C16/455 , C23C16/46 , C23C16/48 , C23C16/56 , C23C14/04 , H01L21/02 , G03F7/004 , G03F7/16 , G03F7/36
摘要： Methods and apparatus for forming a patterned layer of material are disclosed. In one arrangement, a deposition-process material is provided in gaseous form. A layer of the deposition-process material is formed on the substrate by causing condensation or deposition of the gaseous deposition-process material. A selected portion of the layer of deposition-process material is irradiated to modify the deposition-process material in the selected portion.

95. 发明申请

WO2021087178A1 PLASMA ASHING FOR COATED DEVICES 审中-公开
公开(公告)号：WO2021087178A1
公开(公告)日：2021-05-06
申请号：PCT/US2020/058068
申请日：2020-10-29
申请人： HZO, INC.
发明人： CLANCY, Sean , LAWRENCE, Benjamin , NIEBROSKI, Alexander
IPC分类号： B08B7/00 , G03F7/36 , G03F7/42 , H01J37/32 , H05K3/22 , H05K3/28
摘要： A plasma ashing system includes a plasma generator configured to generate a plasma from a gas source. The system further includes a plasma reaction chamber configured to house a substrate comprising a Parylene coating, wherein the plasma reaction chamber is configured to expose surfaces of the Parylene coating on the substrate to the plasma, wherein the plasma is configured to remove portions of the Parylene coating on the substrate.

96. 发明申请

WO2017011245A3 SYSTEM AND METHOD FOR GENERATING IMAGES AND OBJECTS VIA DISPLAY-AS-PRINT 审中-公开
标题翻译：通过显示打印来生成图像和对象的系统和方法
公开(公告)号：WO2017011245A3
公开(公告)日：2017-03-09
申请号：PCT/US2016041164
申请日：2016-07-06
申请人： ZADIANCE LLC
发明人： WESTLIND SAMUEL , O'LOUGHLIN DANIEL , STEWART FRANK M
IPC分类号： G03F7/00 , G03F7/095 , G03F7/20 , G03F7/36
CPC分类号： G03F7/2022 , G03F7/002 , G03F7/0035 , G03F7/0037 , G03F7/095
摘要： A method for depositing onto a surface building material that is in powder, slurry or liquid form. The building material is comprised at least in part of a photosensitive material. The method involves exposing the building material to a first specific wavelength of radiation to process the building material to form a first object layer, depositing onto the first object layer additional building material in powder, slurry or liquid form, exposing the additional building material that is deposited onto the first object layer to a second specific wavelength of radiation to process the additional building material to form a second object layer, and repeating the deposition and exposure steps to create as many layers as are necessary to complete the object. A computer-implemented system for generating a two-dimensional image comprising a pixel output device, a camera, a sending program and a receiving program.
摘要翻译：一种沉积在粉末，浆液或液体形式的表面建筑材料上的方法。建筑材料至少部分地由感光材料构成。该方法包括将建筑材料暴露于第一特定波长的辐射以处理建筑材料以形成第一物体层，在粉末，浆液或液体形式的第一物体层上沉积额外的建筑材料，暴露另外的建筑材料沉积到第一物体层上以达到第二特定波长的辐射，以处理附加建筑材料以形成第二物体层，并且重复沉积和曝光步骤以产生完成物体所需的尽可能多的层。一种用于生成包括像素输出装置，相机，发送程序和接收程序的二维图像的计算机实现的系统。

97. 发明申请

WO2016132784A1 絶縁膜の製造方法および絶縁膜、レーザーアブレーション用樹脂組成物、ならびに電子部品审中-公开
标题翻译：绝缘膜绝缘方法，绝缘膜，激光烧结用树脂组合物及电子元件
公开(公告)号：WO2016132784A1
公开(公告)日：2016-08-25
申请号：PCT/JP2016/050972
申请日：2016-01-14
申请人： JSR株式会社
发明人：土井　貴史 , 西村　功
IPC分类号： G03F7/36 , G03F7/039 , H01L21/312 , H05K1/03 , H05K3/00
CPC分类号： G03F7/039 , G03F7/36 , H05K1/03 , H05K3/00
摘要：　本発明の課題は、レーザー光に対する樹脂膜の感度が高い、レーザーアブレーション法を用いた絶縁膜の製造方法を提供することにある。本発明の絶縁膜の製造方法は、式（Ａ１）で表される繰り返し構造単位を有するポリアリーレン（Ａ）および溶剤（Ｂ）を含有する樹脂組成物の樹脂膜を基板上に形成する工程１と、樹脂膜を加熱処理する工程２と、レーザーアブレーション法により、加熱後の樹脂膜にパターンを形成する工程３とを有する。［式（Ａ１）中、Ａｒは芳香族環であり；水酸基は前記芳香族環に結合する置換基であり；Ｒ 1 は前記芳香族環に結合する置換基であり、ハロゲン原子または炭素数１～１０のアルキル基であり、Ｒ 1 は、複数存在する場合、互いに同一でもよく異なっていてもよく；ａは１以上の整数であり、ｂは０以上の整数である。］
摘要翻译：本发明的目的是提供一种使用激光磨损方法制造绝缘膜的方法，其中树脂膜对激光具有高灵敏度。根据本发明的绝缘膜的制造方法包括：步骤1，其中含有具有式（A1）表示的重复结构单元的聚亚芳基（A）和溶剂（B）的树脂组合物的树脂膜为形成在基板上; 步骤2，其中对树脂膜进行热处理; 以及通过激光磨损法对加热后的树脂膜进行图案化的工序3。（式（A1）中，Ar表示芳香环，羟基是与芳香环结合的取代基; R1表示与芳香环键合的取代基，该取代基为卤原子或碳原子数1〜10的烷基，如果有多个R1部分，则R1部分可以相同或不同，a表示1以上的整数，b表示0以上的整数。）

98. 发明申请

WO2013154180A1 水なし平版印刷版原版の現像装置および現像方法ならびに水なし平版印刷版の製造方法审中-公开
标题翻译：无水平面印刷板原始板的开发设备和开发方法及无水平板印刷板的制造方法
公开(公告)号：WO2013154180A1
公开(公告)日：2013-10-17
申请号：PCT/JP2013/061054
申请日：2013-04-12
申请人：東レ株式会社
发明人：久世康典 , 末沢満 , 吉田智之
IPC分类号： G03F7/00 , G03F7/36
CPC分类号： G03F7/343
摘要：　露光後の水なし平版印刷版原版を現像するための現像装置であって、該現像装置は、水なし平版印刷版原版の表面を摩擦する回転可能な現像ロール、水なし平版印刷版原版を支える受け台、および水なし平版印刷版原版を搬送する搬送装置で構成される現像部を有し、該現像ロールは支持体上に布材を固定したものであり、該現像ロールは該受け台の上部に、水なし平版印刷版原版が通過できるクリアランスを持って設置され、前記搬送装置は、該現像部に供給された水なし平版印刷版原版を、該受け台と該現像ロールの間のクリアランスを通して搬送する機能を有し、かつ、前記現像部は、供給された水なし平版印刷版原版の表面を、前記現像ロールによって摩擦する機能を有する水なし平版印刷版原版の現像装置。本発明は、現像面積が大きい場合や処理枚数が大きい場合にも、版面傷や現像ムラを抑制することのできる直描型水なし平版印刷版原版の現像方法を提供する。
摘要翻译：用于显影露出的无水平版印刷版原版的显影装置包括由用于摩擦无水平版印刷版原版的表面的可旋转显影辊构成的显影单元，用于支撑无水平版印刷版原版的支架，以及用于输送无水平版印刷版原版的输送单元，显影辊通过将布料附着在支架上并以一定间隙安装在支架上方而构成，无间隙平版印刷版原版可通过该间隙传送具有通过支架和显影辊之间的间隙输送供给到显影单元的无水平版印刷版原版的功能的单元，以及具有摩擦供给的无水平版印刷版原版的表面的功能的显影单元通过显影辊。本发明提供了一种直接拉伸型无水平版印刷版原版的显影方法，该显影方法即使在显影区域大的情况下也能够防止板表面缺陷和不均匀显影，即使待处理的板数为大。

99. 发明申请

WO2010113513A1 レーザーを用いたパターン形成方法审中-公开
标题翻译：使用激光的图案形成方法
公开(公告)号：WO2010113513A1
公开(公告)日：2010-10-07
申请号：PCT/JP2010/002393
申请日：2010-03-31
申请人：太陽インキ製造株式会社 , 国立大学法人埼玉大学 , 米田直樹 , 鈴木信之 , 柿沼正久 , 池野順一
发明人：米田　直樹 , 鈴木　信之 , 柿沼　正久 , 池野　順一
IPC分类号： G03F7/36 , G03F7/004 , G03F7/038 , H01J9/02 , H01J9/20 , H01J11/02
CPC分类号： H01J9/02 , G03F7/0047 , G03F7/0388 , H01J11/10 , H01J11/24
摘要：　パターン形成のタクトタイムの短縮を可能とし、またパターン層と誘電体層の一括焼成を可能にし、パターン形成のトータル的低コスト化が可能なパターニング方法を提供する。本発明のパターン形成方法によれば、無機粉末と、カルボキシル基含有樹脂と、ガラスフリットと、溶剤からなるペーストを基板上に塗布する塗布工程と、塗布された前記ペーストを乾燥し、乾燥塗膜を形成する乾燥工程と、レーザー照射により、前記乾燥塗膜にパターンを描画するレーザー照射工程と、アルカリ溶液を用いて、前記パターンを現像する現像工程とを含む。
摘要翻译：提供了允许图案形成的节拍时间减少的图案化方法，允许图案层和电介质层一起烧制，并且能够降低图案形成的总成本。该图案形成方法包括：涂布工序，其中使用包含无机粉末的糊剂，含有羧基的树脂，玻璃料和溶剂涂布基材; 其中已经施加到基底上的糊料被干燥，形成干膜的干燥过程; 激光照射方法，其中使用激光来在干膜上绘制图案; 以及其中使用碱性溶液来显影图案的显影方法。

100. 发明申请

WO2008144923A1 NC-SI/SIO2 COATINGS AND DIRECT LITHOGRAPHIC PATTERNING THEREOF 审中-公开
标题翻译： NC-SI / SIO2涂层和直接光刻图案
公开(公告)号：WO2008144923A1
公开(公告)日：2008-12-04
申请号：PCT/CA2008/001037
申请日：2008-06-02
申请人： THE GOVERNORS OF THE UNIVERSITY OF ALBERTA , VEINOT, Jonathan Gordon Conn , HESSEL, Colin Michael , MELDRUM, Al
发明人： VEINOT, Jonathan Gordon Conn , HESSEL, Colin Michael , MELDRUM, Al
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/36 , H01L29/12
CPC分类号： G03F7/0757 , G03F7/2059 , G03F7/40 , H01L21/0277
摘要： Methods for the direcet lithographic patterning of nanocrystalline-Si/SiO2 films under reductive thermal curing conditions are described. Also described are methods for coating non-planar substrates with nanocrystalline-Si/SiO2 films and the erbium doping of nanocrystalline-Si/SiO2 films.
摘要翻译：描述了在还原热固化条件下对纳米晶体Si / SiO 2膜进行光刻图形化的方法。还描述了用纳米晶-Si / SiO 2膜涂覆非平面衬底和纳米晶-Si / SiO 2膜的掺铒的方法。

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