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1. 发明申请

US20110117491A1 RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN 有权
标题翻译：耐蚀组合物和形成耐力图案的方法
公开(公告)号：US20110117491A1
公开(公告)日：2011-05-19
申请号：US12861474
申请日：2010-08-23
申请人： Yoshiyuki UTSUMI , Takehiro SESHIMO , Hiroaki SHIMIZU , Naoto MOTOIKE
发明人： Yoshiyuki UTSUMI , Takehiro SESHIMO , Hiroaki SHIMIZU , Naoto MOTOIKE
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/20
CPC分类号： C08F20/18 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要： A resist composition including a base material component (A) that exhibits changed solubility in an alkali developing solution under the action of acid, an acid generator component (B) that generates acid upon exposure, and an nitrogen-containing organic compound (D), wherein the nitrogen-containing organic compound (D) includes a compound represented by general formula (d1) shown below: wherein R20 represents a methylene group, an ethylene group, an oxygen atom or —C(CH3)2—; R21 represents a hydrogen atom or an organic group; and R22 represents an alkoxy group, an alkoxycarbonyloxy group, a hydroxyl group, a halogen atom, —C(═O)—O—R23, —C(═O)—NH—R23 or a carboxyl group, wherein R23 represents a linear or branched alkyl group of 1 to 15 carbon atoms, an unsaturated hydrocarbon group, an aliphatic cyclic group, or an aromatic hydrocarbon group, and a represents an integer of 0 to 2.
摘要翻译：一种抗蚀剂组合物，其包含在酸作用下在碱显影液中溶解度变化的基材成分（A），曝光时产生酸的酸产生剂成分（B）和含氮有机化合物（D），其中所述含氮有机化合物（D）包括由下述通式（d1）表示的化合物：其中R 20表示亚甲基，亚乙基，氧原子或-C（CH 3）2 - ; R 21表示氢原子或有机基团; R 22表示烷氧基，烷氧基羰基氧基，羟基，卤素原子，-C（= O）-O-R 23，-C（= O）-NH-R 23或羧基，其中R 23表示直链状或具有1至15个碳原子的支链烷基，不饱和烃基，脂族环基或芳族烃基，并且表示0至2的整数。

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