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1. 发明申请

US20120099781A1 METHOD AND APPARATUS OF PATTERN INSPECTION AND SEMICONDUCTOR INSPECTION SYSTEM USING THE SAME 有权
标题翻译：使用该图案的图案检查和半导体检测系统的方法和装置
公开(公告)号：US20120099781A1
公开(公告)日：2012-04-26
申请号：US13344409
申请日：2012-01-05
申请人： Yasutaka TOYODA , Akiyuki SUGIYAMA , Ryoichi MATSUOKA , Takumichi SUTANI , Hidemitsu NAYA
发明人： Yasutaka TOYODA , Akiyuki SUGIYAMA , Ryoichi MATSUOKA , Takumichi SUTANI , Hidemitsu NAYA
IPC分类号： G06K9/00
CPC分类号： G06T7/0006 , G06T2207/30148 , H01J2237/221 , H01J2237/2817
摘要： A pattern inspection apparatus can be provided, for example, in a scanning electron microscope system. When patterns of a plurality of layers are included in a SEM image, the apparatus separates the patterns according to each layer by using design data of the plurality of layers corresponding to the patterns. Consequently, the apparatus can realize inspection with use of only the pattern of a target layer to be inspected, pattern inspection differently for different layers, or detection of a positional offset between the layers.
摘要翻译：例如，可以在扫描型电子显微镜系统中设置图案检查装置。当在SEM图像中包含多层图案时，该装置通过使用与图案相对应的多个层的设计数据，根据每层分离图案。因此，该装置可以仅使用要检查的目标层的图案，不同层的图案检查或层之间的位置偏移的检测来实现检查。

2. 发明申请

US20090200465A1 PATTERN MEASURING METHOD AND PATTERN MEASURING DEVICE 审中-公开
标题翻译：图形测量方法和图案测量装置
公开(公告)号：US20090200465A1
公开(公告)日：2009-08-13
申请号：US12423197
申请日：2009-04-14
申请人： Takumichi SUTANI , Ryoichi MATSUOKA , Hidetoshi MOROKUMA , Hitoshi KOMURO , Akiyuki SUGIYAMA
发明人： Takumichi SUTANI , Ryoichi MATSUOKA , Hidetoshi MOROKUMA , Hitoshi KOMURO , Akiyuki SUGIYAMA
IPC分类号： G21K7/00
CPC分类号： H01J37/265 , H01J37/28 , H01J2237/2817
摘要： A pattern measuring method and device are provided which set a reference position for a measuring point to be measured by a scanning electron microscope and the like, based on position information of a reference pattern on an image acquired from the scanning electron microscope and based on a positional relation, detected by using design data, between the measuring point and the reference pattern formed at a position isolated from the measuring point.
摘要翻译：提供了一种图案测量方法和装置，其基于通过扫描电子显微镜等测量的测量点的基准位置，基于从扫描电子显微镜获取的图像上的参考图案的位置信息，并基于通过使用设计数据检测的位置关系，在测量点和形成在与测量点隔离的位置处形成的参考图案之间。

3. 发明申请

US20100140472A1 PATTERN DISPLACEMENT MEASURING METHOD AND PATTERN MEASURING DEVICE 有权
标题翻译：图案位移测量方法和图案测量装置
公开(公告)号：US20100140472A1
公开(公告)日：2010-06-10
申请号：US12708148
申请日：2010-02-18
申请人： Takumichi SUTANI , Ryoichi MATSUOKA , Hidetoshi MOROKUMA , Akiyuki SUGIYAMA , Hiroyuki SHINDO
发明人： Takumichi SUTANI , Ryoichi MATSUOKA , Hidetoshi MOROKUMA , Akiyuki SUGIYAMA , Hiroyuki SHINDO
IPC分类号： G06K9/48 , G01N23/00
CPC分类号： G06T7/001 , G06T7/33 , G06T2207/10056 , G06T2207/30148
摘要： An evaluation method and apparatus is provided for evaluating a displacement between patterns of a pattern image by using design data representative of a plurality of patterns superimposed ideally. A first distance is measured for an upper layer pattern between a line segment of the design data and an edge of the charged particle radiation image, a second distance is measured for a lower layer pattern between a line segment of the design data and an edge of the charged particle radiation image; and an superimposition displacement is detected between the upper layer pattern and lower layer pattern in accordance with the first distance and second distance.
摘要翻译：提供了一种评估方法和装置，用于通过使用表示叠加的多个图案的设计数据来理想地评估图案图案的图案之间的位移。对于设计数据的线段和带电粒子辐射图像的边缘之间的上层图案测量第一距离，测量设计数据的线段与设计数据的边缘之间的较低层图案的第二距离带电粒子辐射图像; 并且根据第一距离和第二距离在上层图案和下层图案之间检测叠加位移。

4. 发明申请

US20090052765A1 PATTERN SHAPE EVALUATION METHOD, PATTERN SHAPE EVALUATION DEVICE, PATTERN SHAPE EVALUATING DATA GENERATION DEVICE AND SEMICONDUCTOR SHAPE EVALUATION SYSTEM USING THE SAME 有权
标题翻译：图案形状评估方法，图案形状评估装置，图案形状评估数据生成装置和使用其的半导体形状评估系统
公开(公告)号：US20090052765A1
公开(公告)日：2009-02-26
申请号：US12192317
申请日：2008-08-15
申请人： Yasutaka TOYODA , Ryoichi MATSUOKA , Akiyuki SUGIYAMA
发明人： Yasutaka TOYODA , Ryoichi MATSUOKA , Akiyuki SUGIYAMA
IPC分类号： G06K9/00
CPC分类号： G06F17/5081 , G06K9/00 , G06K2209/19 , G06T7/0004
摘要： A pattern shape evaluation method and semiconductor inspection system having a unit for extracting contour data of a pattern from an image obtained by photographing a semiconductor pattern, a unit for generating pattern direction data from design data of the semiconductor pattern, and a unit for detecting a defect of a pattern, through comparison between pattern direction data obtained from the contour data and pattern direction data generated from the design data corresponding to a pattern position of the contour data.
摘要翻译：一种图案形状评估方法和半导体检查系统，具有从通过拍摄半导体图案获得的图像中提取图案的轮廓数据的单元，用于从半导体图案的设计数据生成图案方向数据的单元和用于检测半导体图案的单元通过比较从轮廓数据获得的图案方向数据和从对应于轮廓数据的图案位置的设计数据生成的图案方向数据，来对图案的缺陷进行比较。

5. 发明申请

US20110150345A1 PATTERN MATCHING METHOD AND COMPUTER PROGRAM FOR EXECUTING PATTERN MATCHING 有权
标题翻译：图案匹配方法和计算机程序执行模式匹配
公开(公告)号：US20110150345A1
公开(公告)日：2011-06-23
申请号：US13034237
申请日：2011-02-24
申请人： Akiyuki SUGIYAMA , Hiroyuki Shindo , Hitoshi Komuro , Takumichi Sutani , Hidetoshi Morokuma
发明人： Akiyuki SUGIYAMA , Hiroyuki Shindo , Hitoshi Komuro , Takumichi Sutani , Hidetoshi Morokuma
IPC分类号： G06K9/62
CPC分类号： G06K9/6204 , G06K9/4633
摘要： A pattern matching method which is capable of selecting a suitable measurement object pattern, even on a sample containing a periodic structure, and a computer program for making a computer execute the pattern matching. In a pattern matching method which executes matching between the design data-based first image of an object sample, and a second image, whether or not a periodic structure is included in a region to execute the matching is determined, so as to select a pattern, based on distance between an original point which is set in said image, and the pattern configuring said periodic structure, in the case where the periodic structure is included in said region, and to select a pattern based on coincidence of the pattern in said image, in the case where the periodic structure is not included in said region, and a computer program product.
摘要翻译：能够选择合适的测量对象图案的模式匹配方法，即使在包含周期性结构的样本上，也可以使计算机程序使计算机执行模式匹配。在执行对象样本的基于设计数据的第一图像与第二图像之间的匹配的图案匹配方法中，确定在区域中是否包括周期性结构以执行匹配，以便选择图案基于在所述图像中设置的原始点与构成所述周期性结构的图案之间的距离，在所述区域中包括周期性结构的情况下，以及基于所述图像中的图案的一致性来选择图案在周期性结构不包括在所述区域中的情况下，以及计算机程序产品。

6. 发明申请

US20120092483A1 SYSTEM AND METHOD OF IMAGE PROCESSING, AND SCANNING ELECTRON MICROSCOPE 有权
标题翻译：图像处理系统与方法，扫描电子显微镜
公开(公告)号：US20120092483A1
公开(公告)日：2012-04-19
申请号：US13333638
申请日：2011-12-21
申请人： Akiyuki SUGIYAMA , Hiroyuki Shindo
发明人： Akiyuki SUGIYAMA , Hiroyuki Shindo
IPC分类号： H04N7/18 , G06K9/62
CPC分类号： G06T7/001 , G06K9/6203 , G06T2207/30148 , H01J37/222 , H01J37/28 , H01J2237/2817
摘要： A scanning electron microscope comprises an image processing system for carrying out a pattern matching between a first image and a second image. The image processing system comprises: a paint-divided image generator for generating a paint divided image based on the first image; a gravity point distribution image generator for carrying out a smoothing process of the paint divided image and generating a gravity point distribution image; an edge line segment group generation unit for generating a group of edge line segments based on the second image; a matching score calculation unit for calculating a matching score based on the gravity point distribution image and the group of edge line segments; and a maximum score position detection unit for detecting a position where the matching score becomes the maximum.
摘要翻译：扫描电子显微镜包括用于执行第一图像和第二图像之间的图案匹配的图像处理系统。图像处理系统包括：油漆分割图像生成器，用于基于第一图像生成油漆分割图像; 重力点分布图像发生器，用于执行油漆分割图像的平滑处理并产生重力点分布图像; 边缘线段组生成单元，用于基于第二图像生成一组边缘线段; 匹配分数计算单元，用于基于重力点分布图像和边缘线段组来计算匹配分数; 以及最大得分位置检测单元，用于检测匹配得分变为最大值的位置。

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