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1. 发明申请

US20090107952A1 Sacrificial Compositions And Methods Of Fabricating A Structure Using Sacrificial Compositions 有权
公开(公告)号：US20090107952A1
公开(公告)日：2009-04-30
申请号：US12273114
申请日：2008-11-18
申请人： Paul A. Kohl , Paul Jayachandran Joseph , Hollie Reed , Sue Bidstrup-Allen , Celesta E. White , Clifford Henderson
发明人： Paul A. Kohl , Paul Jayachandran Joseph , Hollie Reed , Sue Bidstrup-Allen , Celesta E. White , Clifford Henderson
IPC分类号： B44C1/22
CPC分类号： B81C1/00476 , B81C2201/0108 , H01L21/7682 , Y10S430/114
摘要： Compositions, methods of use thereof, and methods of decomposition thereof, are provided. One exemplary composition, among others, includes a polymer and a catalytic amount of a negative tone photoinitiator.

2. 发明授权

US07052821B2 Sacrificial compositions, methods of use thereof, and methods of decomposition thereof 有权
标题翻译：牺牲组合物，使用方法及其分解方法
公开(公告)号：US07052821B2
公开(公告)日：2006-05-30
申请号：US10699330
申请日：2003-10-31
申请人： Paul A. Kohl , Paul Jayachandran Joseph , Hollie Reed , Sue Bidstrup-Allen , Celesta E. White , Clifford Henderson
发明人： Paul A. Kohl , Paul Jayachandran Joseph , Hollie Reed , Sue Bidstrup-Allen , Celesta E. White , Clifford Henderson
IPC分类号： G03F1/14 , G03F7/039
CPC分类号： B81C1/00476 , B81C2201/0108 , H01L21/7682 , Y10S430/114
摘要： Polymers, methods of use thereof, and methods of decomposition thereof, are provided. One exemplary polymer, among others, includes, a composition having a sacrificial polymer and a photoacid generator.
摘要翻译：提供聚合物，其使用方法及其分解方法。一个示例性聚合物，其中包括具有牺牲聚合物和光致酸产生剂的组合物。

3. 发明申请

US20090120905A1 Sacrificial Compositions And Methods Of Fabricating A Structure Using Sacrificial Compositions 失效
标题翻译：牺牲组合物和使用牺牲组合物制造结构的方法
公开(公告)号：US20090120905A1
公开(公告)日：2009-05-14
申请号：US12272978
申请日：2008-11-18
申请人： Paul A. Kohl , Paul Jayachandran Joseph , Hollie Reed , Sue Bidstrup-Allen , Celesta E. White , Clifford Henderson
发明人： Paul A. Kohl , Paul Jayachandran Joseph , Hollie Reed , Sue Bidstrup-Allen , Celesta E. White , Clifford Henderson
IPC分类号： B44C1/22
CPC分类号： B81C1/00476 , B81C2201/0108 , H01L21/7682 , Y10S430/114
摘要： Compositions, methods of use thereof, and methods of decomposition thereof, are provided. One exemplary composition, among others, includes a polymer and a catalytic amount of a negative tone photoinitiator.
摘要翻译：提供了组合物，其使用方法及其分解方法。一个示例性组合物，其中包括聚合物和催化量的负色调光引发剂。

4. 发明授权

US07459267B2 Sacrificial compositions and methods of fabricating a structure using sacrificial compositions 有权
标题翻译：牺牲组合物和使用牺牲组合物制造结构的方法
公开(公告)号：US07459267B2
公开(公告)日：2008-12-02
申请号：US11398183
申请日：2006-04-05
申请人： Paul A. Kohl , Paul Jayachandran Joseph , Hollie Reed , Sue Bidstrup-Allen , Celesta E. White , Clifford Henderson
发明人： Paul A. Kohl , Paul Jayachandran Joseph , Hollie Reed , Sue Bidstrup-Allen , Celesta E. White , Clifford Henderson
IPC分类号： G03F7/36
CPC分类号： B81C1/00476 , B81C2201/0108 , H01L21/7682 , Y10S430/114
摘要： Compositions, methods of use thereof, and methods of decomposition thereof, are provided. One exemplary composition, among others, includes a polymer and a catalytic amount of a negative tone photoinitiator.
摘要翻译：提供了组合物，其使用方法及其分解方法。一个示例性组合物，其中包括聚合物和催化量的负色调光引发剂。

5. 发明申请

US20060263718A1 Sacrificial compositions and methods of fabricating a structure using sacrificial compositions 有权
标题翻译：牺牲组合物和使用牺牲组合物制造结构的方法
公开(公告)号：US20060263718A1
公开(公告)日：2006-11-23
申请号：US11398183
申请日：2006-04-05
申请人： Paul Kohl , Paul Joseph , Hollie Reed , Sue Bidstrup-Allen , Celesta White , Clifford Henderson
发明人： Paul Kohl , Paul Joseph , Hollie Reed , Sue Bidstrup-Allen , Celesta White , Clifford Henderson
IPC分类号： G03C1/00
CPC分类号： B81C1/00476 , B81C2201/0108 , H01L21/7682 , Y10S430/114
摘要： Compositions, methods of use thereof, and methods of decomposition thereof, are provided. One exemplary composition, among others, includes a polymer and a catalytic amount of a negative tone photoinitiator.
摘要翻译：提供了组合物，其使用方法及其分解方法。一个示例性组合物，其中包括聚合物和催化量的负色调光引发剂。

6. 发明授权

US07923194B2 Sacrificial compositions and methods of fabricating a structure using sacrificial compositions 有权
标题翻译：牺牲组合物和使用牺牲组合物制造结构的方法
公开(公告)号：US07923194B2
公开(公告)日：2011-04-12
申请号：US12273114
申请日：2008-11-18
申请人： Paul A. Kohl , Paul J. Joseph , Hollie K. Reed , Sue Ann Bidstrup-Allen , Celesta E. White , Clifford Henderson
发明人： Paul A. Kohl , Paul J. Joseph , Hollie K. Reed , Sue Ann Bidstrup-Allen , Celesta E. White , Clifford Henderson
IPC分类号： G03F7/00 , G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/26
CPC分类号： B81C1/00476 , B81C2201/0108 , H01L21/7682 , Y10S430/114
摘要： Compositions, methods of use thereof, and methods of decomposition thereof, are provided. One exemplary composition, among others, includes a polymer and a catalytic amount of a negative tone photoinitiator.
摘要翻译：提供了组合物，其使用方法及其分解方法。一个示例性组合物，其中包括聚合物和催化量的负色调光引发剂。

7. 发明授权

US07695894B2 Sacrificial compositions and methods of fabricating a structure using sacrificial compositions 失效
标题翻译：牺牲组合物和使用牺牲组合物制造结构的方法
公开(公告)号：US07695894B2
公开(公告)日：2010-04-13
申请号：US12272978
申请日：2008-11-18
申请人： Paul A. Kohl , Paul J. Joseph , Hollie K. Reed , Sue Ann Bidstrup-Allen , Celesta E. White , Clifford Henderson
发明人： Paul A. Kohl , Paul J. Joseph , Hollie K. Reed , Sue Ann Bidstrup-Allen , Celesta E. White , Clifford Henderson
IPC分类号： G03F7/00 , G03F7/004
CPC分类号： B81C1/00476 , B81C2201/0108 , H01L21/7682 , Y10S430/114
摘要： Compositions, methods of use thereof, and methods of decomposition thereof, are provided. One exemplary composition, among others, includes a polymer and a catalytic amount of a negative tone photoinitiator.
摘要翻译：提供了组合物，其使用方法及其分解方法。一个示例性组合物，其中包括聚合物和催化量的负色调光引发剂。

8. 发明申请

US20100216070A1 Photosensitive Polyimides and Methods of Making the Same 审中-公开
标题翻译：光敏聚酰亚胺及其制备方法
公开(公告)号：US20100216070A1
公开(公告)日：2010-08-26
申请号：US12517501
申请日：2006-12-04
申请人： Kazuhiro Yamanaka , Clifford Henderson , Michael Romeo , Kazuhiko Maeda
发明人： Kazuhiro Yamanaka , Clifford Henderson , Michael Romeo , Kazuhiko Maeda
IPC分类号： G03F7/004 , C08G73/10
CPC分类号： C07C233/75 , C08G73/06 , C08G73/1039 , C08L79/08 , G03F7/0046 , G03F7/0233 , G03F7/0382 , G03F7/0387 , G03F7/0392
摘要： Photosensitive polyimide compositions include a photosensitive additive and a polymer comprising a repeating unit represented by the following formula (I): wherein R1 comprises an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, a heterocyclic group, or combinations thereof, R2 comprises an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, a heterocyclic group, or combinations thereof, R3 represents hydrogen or an organic group comprising a hydrophilic group, an acid-cleavable group, a base-cleavable group, a cross-linkable group, or combinations thereof, and h represents an integer of 1 or more. The photosensitive compositions may be formed by combining a precursor polymer with a processing solvent, followed by a relatively low-temperature cyclization process in which the precursor polymer is converted to the final polymer. The resulting polyimide may be separated from the solution and purified. It may then be combined with a casting solvent and a photosensitive additive.
摘要翻译：感光性聚酰亚胺组合物包括光敏添加剂和包含由下式（I）表示的重复单元的聚合物：其中R1包括脂族基团，脂环族基团，芳族基团，杂环基团或其组合，R 2包括脂肪族基团，脂环族基团，芳族基团，杂环基团或其组合，R 3表示氢或包含亲水基团，酸可裂解基团，碱基可裂解基团，可交联基团或组合的有机基团 h表示1以上的整数。光敏组合物可以通过将前体聚合物与加工溶剂组合，然后将前体聚合物转化为最终聚合物的相对低温环化过程来形成。所得聚酰亚胺可以与溶液分离并纯化。然后可将其与铸造溶剂和光敏添加剂组合。

9. 发明申请

US20070114401A1 DIRECT WRITE NANOLITHOGRAPHY USING HEATED TIP 失效
标题翻译：使用加热提示的直接写入纳米尺度
公开(公告)号：US20070114401A1
公开(公告)日：2007-05-24
申请号：US11468409
申请日：2006-08-30
申请人： William King , Clifford Henderson
发明人： William King , Clifford Henderson
IPC分类号： G21K7/00
CPC分类号： G03F7/0002 , G01Q80/00
摘要： A device for sculpting a substrate includes a vertically displaceable probe having a nano-scale dimensioned probe tip. A displacement mechanism is configured to adjust a vertical displacement between the probe tip and the substrate. A heating mechanism selectively heats the probe tip to a preselected temperature that is sufficient to cause a portion of the substrate in contact with the probe tip to decompose.
摘要翻译：用于雕刻衬底的装置包括具有纳米级尺寸的探针尖端的可垂直移位的探针。位移机构构造成调节探针尖端和基底之间的垂直位移。加热机构将探针尖端选择性地加热到足以使基底的一部分与探针尖端接触的预选温度分解。

10. 发明授权

US06696363B2 Method of and apparatus for substrate pre-treatment 失效
标题翻译：底物预处理的方法和装置
公开(公告)号：US06696363B2
公开(公告)日：2004-02-24
申请号：US09874330
申请日：2001-06-06
申请人： Wai M. Lee , David J. Maloney , Paul J. Roman , Michael A. Fury , Ross H. Hill , Clifford Henderson , Sean Barstow
发明人： Wai M. Lee , David J. Maloney , Paul J. Roman , Michael A. Fury , Ross H. Hill , Clifford Henderson , Sean Barstow
IPC分类号： H01L2144
CPC分类号： H01L21/0337 , H01L21/0332 , H01L21/3081 , H01L21/3086 , H01L21/31144 , H01L21/316 , H01L21/31691
摘要： The present invention relates generally to a method and apparatus for converting a precursor material, preferably organometallic, to a film, preferably metal-containing, that is adherent to at least a portion of a substrate. Both method and apparatus include a pre-conversion step or section, and a step or section for substantial conversion of a portion of material from the pre-conversion step or section into the form of a predetermined pattern, wherein this substantial conversion results in a metal-containing patterned layer on the substrate.
摘要翻译：本发明一般涉及用于将前体材料（优选有机金属的）转化成粘附至基底的至少一部分的优选含金属的膜的方法和装置。方法和装置都包括预转换步骤或部分，以及将部分材料从预转换步骤或部分实质转化为预定图案形式的步骤或部分，其中该实质转化产生金属在基板上形成图案层。

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