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    • 10. 发明授权
    • Substrate release methods and apparatuses
    • 底物释放方法和装置
    • US07745313B2
    • 2010-06-29
    • US12473811
    • 2009-05-28
    • David Xuan-Qi WangMehrdad M. Moslehi
    • David Xuan-Qi WangMehrdad M. Moslehi
    • H01L21/762H01L21/20
    • H01L31/18H01L21/76259
    • The present disclosure relates to methods and apparatuses for fracturing or breaking a buried porous semiconductor layer to separate a 3-D thin-film semiconductor semiconductor (TFSS) substrate from a 3-D crystalline semiconductor template. The method involves forming a sacrificial porous semiconductor layer on the 3-D features of the template. A variety of techniques may be used to fracture and release the mechanically weak porous semiconductor layer without damaging the TFSS substrate layer or the template layer such as pressure variations, thermal stress generation, and mechanical bending. The methods also allow for processing three dimensional features not possible with current separation processes. Optional cleaning and final lift-off steps may be performed as part of the release step or after the release step.
    • 本公开内容涉及用于将埋入的多孔半导体层断裂或断裂以从3-D晶体半导体模板分离3-D薄膜半导体(TFSS)衬底的方法和装置。 该方法包括在模板的3-D特征上形成牺牲多孔半导体层。 可以使用各种技术来破坏和释放机械上的弱多孔半导体层,而不会损坏TFSS衬底层或模板层,例如压力变化,热应力产生和机械弯曲。 这些方法还允许处理当前分离过程不可能的三维特征。 可以在释放步骤的一部分或释放步骤之后执行可选的清洁和最终剥离步骤。