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1. 发明申请

US20090250182A1 Papermaking Method and Papermaking System 审中-公开
标题翻译：造纸方法和造纸系统
公开(公告)号：US20090250182A1
公开(公告)日：2009-10-08
申请号：US12084087
申请日：2006-10-23
申请人： Masaki Teramoto , Shinji Kobayashi , Kenji Wada
发明人： Masaki Teramoto , Shinji Kobayashi , Kenji Wada
IPC分类号： D21H23/04
CPC分类号： D21H17/53 , D21H21/06 , D21H23/04
摘要： A papermaking method according to this invention is carried out using a paper machine provided with a head box (3) including a cell-structure manifold (30). An aqueous solution (M) containing 0.03 to 0.4 wt % of viscous agent is added to a material pulp slurry (S), and the obtained mixed pulp slurry (MS) is introduced into the manifold (30).
摘要翻译：根据本发明的造纸方法使用具有包括电池结构歧管（30）的头箱（3）的造纸机进行。将含有0.03〜0.4重量％的粘性剂的水溶液（M）加入到浆料浆料（S）中，将得到的混合纸浆（MS）引入歧管30。

2. 发明授权

US08404427B2 Photosensitive composition, and pattern-forming method and resist film using the photosensitive composition 有权
标题翻译：光敏组合物，图案形成方法和使用光敏组合物的抗蚀剂膜
公开(公告)号：US08404427B2
公开(公告)日：2013-03-26
申请号：US12786127
申请日：2010-05-24
申请人： Kenji Wada , Kunihiko Kodama
发明人： Kenji Wada , Kunihiko Kodama
IPC分类号： G03F7/028 , G03F7/039 , G03F7/26
CPC分类号： C07D307/33 , C07C381/12 , C07D307/20 , C07D307/32 , C07D307/77 , C07D309/30 , C07D409/12 , C07D409/14 , C07D493/08 , C07D493/14 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/0758
摘要： A photosensitive composition containing a compound having a specific structure, a pattern-forming method using the photosensitive composition, and a compound having a specific structure used in the photosensitive composition.
摘要翻译：含有具有特定结构的化合物的光敏组合物，使用该感光性组合物的图案形成方法和在感光性组合物中使用的具有特定结构的化合物。

3. 发明授权

US08241840B2 Pattern forming method, resist composition to be used in the pattern forming method, negative developing solution to be used in the pattern forming method and rinsing solution for negative development to be used in the pattern forming method 有权
标题翻译：图案形成方法，图案形成方法中使用的抗蚀剂组合物，图案形成方法中使用的负显影液和用于图案形成方法的负显影用漂洗溶液
公开(公告)号：US08241840B2
公开(公告)日：2012-08-14
申请号：US12825088
申请日：2010-06-28
申请人： Hideaki Tsubaki , Shinji Tarutani , Kazuyoshi Mizuyoshi , Kenji Wada , Wataru Hoshino
发明人： Hideaki Tsubaki , Shinji Tarutani , Kazuyoshi Mizuyoshi , Kenji Wada , Wataru Hoshino
IPC分类号： G03F7/30 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/325 , Y10S430/106 , Y10S430/111
摘要： A pattern forming method includes (a) coating a substrate with a resist composition including a resin that includes a repeating unit represented by a following general formula (NGH-1), and, by the action of an acid, increases the polarity and decreases the solubility in a negative developing solution; (b) exposing; and (d) developing with a negative developing solution: wherein RNGH1 represents a hydrogen atom or an alkyl group; and RNGH2 to RNGH4 each independently represents a hydrogen atom or a hydroxyl group, provided that at least one of RNGH2 to RNGH4 represents a hydroxyl group.
摘要翻译：图案形成方法包括：（a）用包含由以下通式（NGH-1）表示的重复单元的树脂的抗蚀剂组合物涂布基材，并且通过酸的作用增加极性，并降低在负显影液中的溶解度; （b）曝光; 和（d）用负显影液显影：其中RNGH1表示氢原子或烷基; 并且RNGH 2至RNGH 4各自独立地表示氢原子或羟基，条件是RNGH 2至RNGH 4中的至少一个表示羟基。

4. 发明授权

US08110333B2 Resist composition containing novel sulfonium compound, pattern-forming method using the resist composition, and novel sulfonium compound 有权
标题翻译：含有新型锍化合物的抗蚀剂组合物，使用抗蚀剂组合物的图案形成方法和新型锍化合物
公开(公告)号：US08110333B2
公开(公告)日：2012-02-07
申请号：US12184780
申请日：2008-08-01
申请人： Sou Kamimura , Yasutomo Kawanishi , Kenji Wada , Tomotaka Tsuchimura
发明人： Sou Kamimura , Yasutomo Kawanishi , Kenji Wada , Tomotaka Tsuchimura
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/30
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045 , Y10S430/106
摘要： A resist composition includes (A) a compound represented by the following formula (I): wherein each of R1 to R13 independently represents a hydrogen atom or a substituent, provided that at least one of R1 to R13 is a substituent containing an alcoholic hydroxyl group; Z represents a single bond or a divalent linking group; and X− represents an anion containing a proton acceptor functional group.
摘要翻译：抗蚀剂组合物包括（A）由下式（I）表示的化合物：其中R 1至R 13各自独立地表示氢原子或取代基，条件是R 1至R 13中的至少一个为含有醇羟基的取代基 ; Z表示单键或二价连接基团; X表示含有质子受体官能团的阴离子。

5. 发明授权

US08088550B2 Positive resist composition and pattern forming method 失效
标题翻译：正抗蚀剂组成和图案形成方法
公开(公告)号：US08088550B2
公开(公告)日：2012-01-03
申请号：US12181757
申请日：2008-07-29
申请人： Shinji Tarutani , Hideaki Tsubaki , Kenji Wada
发明人： Shinji Tarutani , Hideaki Tsubaki , Kenji Wada
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/30
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/2022 , G03F7/2041 , Y10S430/111
摘要： A positive resist composition, includes: (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; (B) a resin of which solubility in an alkali developer increases under an action of an acid; (C) a compound capable of decomposing under an action of an acid to generate an acid; and (D) a compound which itself acts as a base for the acids generated from the component (A) and the component (C) but decomposes upon irradiation with actinic rays or radiation to lose a basicity for the acids generated from the component (A) and the component (C).
摘要翻译：正型抗蚀剂组合物包括：（A）在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; （B）在碱性显影剂中的溶解度在酸的作用下增加的树脂; （C）能够在酸的作用下分解以产生酸的化合物; 和（D）本身作为由组分（A）和组分（C）产生的酸的碱的化合物，但是在用光化射线或辐射照射时分解，以失去由组分（A）产生的酸的碱度）和组分（C）。

6. 发明申请

US20110089385A1 COMPOSITION FOR OPTICAL MATERIALS 有权
标题翻译：光学材料组成
公开(公告)号：US20110089385A1
公开(公告)日：2011-04-21
申请号：US12904252
申请日：2010-10-14
申请人： Kenji Wada , Kyohei Arayama , Akiyoshi Goto
发明人： Kenji Wada , Kyohei Arayama , Akiyoshi Goto
IPC分类号： G02B5/22 , C07F7/18 , C07F7/10
CPC分类号： C07F7/21 , C08G77/045 , C08L83/04 , G02B1/111
摘要： The composition for optical materials includes a polymer obtained from silsesquioxanes which are represented by average composition formula (1): (R1SiO1.5)x(R2SiO1.5)y (wherein R1 is a polymerizable group, R2 is a non-polymerizable group, x is a number of 2.0 to 14.0, y is a number of 2.0 to 14.0, provided that x+y=8.0 to 16.0, and R1 groups and R2 groups may be the same or different) and include at least one cage silsesquioxane compound. This composition is suitable for use as the antireflective film in optical devices, has less film shrinkage in the curing step, has good coated surface state and excellent moisture resistance and adhesion, has small changes in the refractive index under high temperature conditions, and is capable of forming a low-refractive-index film.
摘要翻译：用于光学材料的组合物包括由平均组成式（1）表示的倍半硅氧烷获得的聚合物：（R1SiO1.5）x（R2SiO1.5）y（其中R1是可聚合基团，R2是不可聚合基团， x为2.0〜14.0的数，y为2.0〜14.0的数，条件是x + y = 8.0〜16.0，R 1基和R 2基可以相同或不同），并且包括至少一种笼型倍半硅氧烷化合物。该组合物适合用作光学元件中的抗反射膜，在固化步骤中具有较小的膜收缩率，具有良好的涂覆表面状态和优异的耐湿性和粘附性，在高温条件下的折射率变化小，并且能够形成低折射率膜。

7. 发明申请

US20100239978A1 PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND PATTERN-FORMING METHOD AND RESIST FILM USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION 有权
标题翻译：光敏组合物和使用感光组合物的图案形成方法和耐蚀膜
公开(公告)号：US20100239978A1
公开(公告)日：2010-09-23
申请号：US12786127
申请日：2010-05-24
申请人： Kenji Wada , Kunihiko Kodama
发明人： Kenji Wada , Kunihiko Kodama
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/20
CPC分类号： C07D307/33 , C07C381/12 , C07D307/20 , C07D307/32 , C07D307/77 , C07D309/30 , C07D409/12 , C07D409/14 , C07D493/08 , C07D493/14 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/0758
摘要： A photosensitive composition containing a compound having a specific structure, a pattern-forming method using the photosensitive composition, and a compound having a specific structure used in the photosensitive composition.
摘要翻译：含有具有特定结构的化合物的光敏组合物，使用该感光性组合物的图案形成方法和在感光性组合物中使用的具有特定结构的化合物。

8. 发明申请

US20100233629A1 PHOTOSENSITIVE COMPOSTION, COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION 有权
标题翻译：光敏组合物，用于感光组合物的化合物和使用感光性组合物的图案形成方法
公开(公告)号：US20100233629A1
公开(公告)日：2010-09-16
申请号：US12759549
申请日：2010-04-13
申请人： Kenji Wada
发明人： Kenji Wada
IPC分类号： G03F7/004 , C07C311/00 , G03F7/20
CPC分类号： C07C311/48 , C07D211/22 , C07D211/46 , C07D211/58 , C07D213/82 , C07D233/64 , C07D295/033 , C07D295/18 , C07D295/26 , C07D323/00 , C07D333/46 , C07D401/04 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392
摘要： A photosensitive composition comprising: (A) a compound capable of generating a compound having a specific structure upon irradiation with actinic rays or radiation, a pattern forming method using the photosensitive composition, and a compound capable of generating a compound having a specific structure upon irradiation with actinic rays or radiation.
摘要翻译：一种光敏组合物，其包含：（A）能够在用光化射线或辐射照射时产生具有特定结构的化合物的化合物，使用该感光性组合物的图案形成方法和能够在照射时产生具有特定结构的化合物的化合物与光化射线或辐射。

9. 发明申请

US20100233617A1 PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION 有权
标题翻译：感光性组合物，使用感光性组合物的图案形成方法和化合物用于感光性组合物
公开(公告)号：US20100233617A1
公开(公告)日：2010-09-16
申请号：US12679140
申请日：2008-09-18
申请人： Kenji Wada
发明人： Kenji Wada
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/20 , C07C309/63 , C08F14/18 , C07C233/00 , C08G75/00 , C07C311/00
CPC分类号： C08F20/10 , C07D211/96 , C07D243/04 , C07D295/26 , C08F214/18 , C08F220/26 , C08F220/28 , C08F220/34 , C08F220/38 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2022 , G03F7/2041
摘要： A photosensitive composition includes: (A) a resin containing a repeating unit corresponding to a compound represented by the following formula (I); the resin being capable of producing an acid group upon irradiation with an actinic ray or radiation: Z-A-X—B—R (I) wherein Z represents a group capable of becoming an acid group resulting from leaving of a cation upon irradiation with an actinic ray or radiation; A represents an alkylene group; X represents a single bond or a heteroatom-containing divalent linking group; B represents a single bond, an oxygen atom or —N(Rx)-; Rx represents a hydrogen atom or a monovalent organic group; R represents a monovalent organic group substituted by Y; when B represents —N(Rx)-, R and Rx may combine with each other to form a ring; and Y represents a polymerizable group.
摘要翻译：感光性组合物包括：（A）含有对应于下式（I）表示的化合物的重复单元的树脂; 该树脂能够在用光化射线或辐射照射时产生酸基团：ZAX-B-R（I）其中Z表示能够在用光化射线照射时离开阳离子时成为酸基团的基团，或辐射; A表示亚烷基; X表示单键或含杂原子的二价连接基团; B表示单键，氧原子或-N（Rx） - ; Rx表示氢原子或一价有机基团; R表示被Y取代的一价有机基团; 当B表示-N（Rx） - 时，R和Rx可以相互结合形成环; Y表示可聚合基团。

10. 发明授权

US07691558B2 Photosensitive composition, compound for use in the photosensitive composition and pattern forming method using the photosensitive composition 有权
标题翻译：感光组合物，用于感光组合物的化合物和使用感光组合物的图案形成方法
公开(公告)号：US07691558B2
公开(公告)日：2010-04-06
申请号：US11335679
申请日：2006-01-20
申请人： Kenji Wada
发明人： Kenji Wada
IPC分类号： G03F7/00 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0382
摘要： A photosensitive composition for use in the production process of a semiconductor such as IC, in the production of a circuit substrate of liquid crystal, thermal head and the like or in other photofabrication processes, a compound for use in the photosensitive composition, and a pattern forming method using the photosensitive composition, are provided, which are a photosensitive composition excellent in the sensitivity, resolution and pattern profile, assured of large exposure latitude and small pitch dependency, and improved in the sensitivity and dissolution contrast at the exposure with EUV light, a pattern forming method using the photosensitive composition, and a compound useful for the photosensitive composition.
摘要翻译：用于半导体（例如IC）的制造中的光敏组合物，在液晶，热敏头等的电路基板的制造中或在其它光制造工艺中，用于感光组合物的化合物和图案提供了使用感光性组合物的成膜方法，它们是灵敏度，分辨率和图案轮廓优异的感光组合物，确保了大的曝光宽容度和小的间距依赖性，并且在用EUV光曝光时提高了灵敏度和溶解度对比度，使用该感光性组合物的图案形成方法和可用于感光性组合物的化合物。

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