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1. 发明授权

US5306920A Ion implanter with beam resolving apparatus and method for implanting ions 失效
标题翻译：具有光束分离装置的离子注入机和用于注入离子的方法
公开(公告)号：US5306920A
公开(公告)日：1994-04-26
申请号：US980062
申请日：1992-11-23
申请人： Jerry S. King , Carl E. D'Acosta , Craig L. Jasper , Dan A. Banks
发明人： Jerry S. King , Carl E. D'Acosta , Craig L. Jasper , Dan A. Banks
IPC分类号： H01J37/05 , H01J37/09
CPC分类号： H01J37/09 , H01J37/05 , H01J2237/0455 , H01J2237/31701
摘要： An ion implantation apparatus including a resolving aperture-shutter assembly (31) placed in the ion beam path (18). The resolving aperture-shutter assembly includes a movable shutter (34) and a shutter housing surrounding the movable shutter (34). Selected ions in an ion beam path (18) pass through a hole (44) in movable shutter (34) when the movable shutter (34) is in a first position, and are blocked by the solid surfaces when the movable shutter (34) is in a second position. The enclosure (32, 33, 39) completely surrounds the movable shutter (34). The enclosure (32, 33, 39) includes a first aperture (42) aligned with the ion beam path (18) for allowing the selected ions to enter the enclosure and a second aperture (41) aligned with the ion beam path (18) for allowing the selected ions to exit the enclosure after passing through the hole (44) in the movable shutter.
摘要翻译：一种离子注入装置，包括放置在离子束路径（18）中的分辨孔径光阑组件（31）。分辨孔径光阑组件包括活动快门（34）和围绕活动快门（34）的快门壳体。当活动快门（34）处于第一位置时，离子束路径（18）中的选定离子通过活动快门（34）中的孔（44），并且当活动快门（34）被固定时被固体表面阻挡，处于第二位置。外壳（32,33,39）完全包围活动活门（34）。外壳（32,33,39）包括与离子束路径（18）对准的用于允许所选择的离子进入外壳的第一孔（42）和与离子束路径（18）对准的第二孔（41）用于允许所选择的离子在通过可移动快门中的孔（44）之后离开外壳。

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