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    • 1. 发明授权
    • Method of forming micro-via
    • 形成微孔的方法
    • US06395633B1
    • 2002-05-28
    • US09871206
    • 2001-05-31
    • Jao-Chin ChengChang-Chin HsiehChih-Peng FanChin-Chung Chang
    • Jao-Chin ChengChang-Chin HsiehChih-Peng FanChin-Chung Chang
    • H01L2144
    • H05K3/4647H05K3/108H05K3/243H05K2203/0542H05K2203/0733
    • A method of forming a micro-via, for fabrication and design of a layout of a circuit board. A patterned conductive wiring layer is formed on the substrate. A copper layer is plated onto the substrate and the conductive wiring layer. A photoresist layer is formed on the copper layer. A part of the photoresist layer is removed to expose a part of the copper layer. Using the copper layer as a seed layer, a conductive pillar is formed on the exposed part of the copper layer. The photoresist layer is removed. The exposed plated copper layer is removed. An insulation layer is formed on surfaces of the substrate and the conductive pillar. A part of the insulation layer is removed to expose the conductive pillar. A patterned conductive wiring layer is formed on the conductive pillar.
    • 一种形成微通孔的方法,用于制造和设计电路板的布局。 在基板上形成有图案的导电布线层。 将铜层镀在基板和导电布线层上。 在铜层上形成光致抗蚀剂层。 去除光致抗蚀剂层的一部分以露出铜层的一部分。 使用铜层作为种子层,在铜层的露出部分上形成导电柱。 去除光致抗蚀剂层。 暴露的镀铜层被去除。 在基板和导电柱的表面上形成绝缘层。 去除绝缘层的一部分以露出导电柱。 在导电柱上形成有图案的导电布线层。