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1. 发明授权

US08595657B2 Methods of forming a photo mask 有权
标题翻译：形成光罩的方法
公开(公告)号：US08595657B2
公开(公告)日：2013-11-26
申请号：US13366553
申请日：2012-02-06
申请人： Hosun Cha , Eunmi Lee , Sungwoo Lee
发明人： Hosun Cha , Eunmi Lee , Sungwoo Lee
IPC分类号： G06F17/50 , G06F19/00 , G03F1/00 , G21K5/00
CPC分类号： G06F17/5081 , G03F1/00 , G03F1/36 , G06F19/00 , G21K5/00
摘要： Methods of fabricating a photo mask are provided. The method includes collecting sample data, setting a preliminary mask layout, performing an optical proximity correction using the sample data and a preliminary mask layout to obtain an optimized preliminary mask layout, verifying the optimized preliminary mask layout to obtain a final mask layout, and fabricating the photo mask using the final mask layout. Verification of the optimized preliminary mask layout includes operating a verification simulator using the sample data and the optimized preliminary mask layout as input data to obtain verification image data. The verification image data includes a plurality of contours of a pattern at different vertical positions.
摘要翻译：提供了制作光罩的方法。该方法包括收集样本数据，设置初步掩模布局，使用样本数据执行光学邻近校正和初步掩模布局以获得优化的初步掩模布局，验证优化的初步掩模布局以获得最终掩模布局，以及制造使用最终的掩模布局的照片掩码。验证优化的初步掩模布局包括使用样本数据和优化的初步掩模布局操作验证模拟器作为输入数据以获得验证图像数据。验证图像数据包括在不同垂直位置处的图案的多个轮廓。

2. 发明申请

US20120202351A1 METHODS OF FORMING A PHOTO MASK 有权
标题翻译：形成照片遮罩的方法
公开(公告)号：US20120202351A1
公开(公告)日：2012-08-09
申请号：US13366553
申请日：2012-02-06
申请人： Hosun Cha , Eunmi Lee , Sungwoo Lee
发明人： Hosun Cha , Eunmi Lee , Sungwoo Lee
IPC分类号： H01L21/027 , G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5081 , G03F1/00 , G03F1/36 , G06F19/00 , G21K5/00
摘要： Methods of fabricating a photo mask are provided. The method includes collecting sample data, setting a preliminary mask layout, performing an optical proximity correction using the sample data and a preliminary mask layout to obtain an optimized preliminary mask layout, verifying the optimized preliminary mask layout to obtain a final mask layout, and fabricating the photo mask using the final mask layout. Verification of the optimized preliminary mask layout includes operating a verification simulator using the sample data and the optimized preliminary mask layout as input data to obtain verification image data. The verification image data includes a plurality of contours of a pattern at different vertical positions.
摘要翻译：提供了制作光罩的方法。该方法包括收集样本数据，设置初步掩模布局，使用样本数据执行光学邻近校正和初步掩模布局以获得优化的初步掩模布局，验证优化的初步掩模布局以获得最终掩模布局，以及制造使用最终的掩模布局的照片掩码。验证优化的初步掩模布局包括使用样本数据和优化的初步掩模布局操作验证模拟器作为输入数据以获得验证图像数据。验证图像数据包括在不同垂直位置处的图案的多个轮廓。

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