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    • 8. 发明授权
    • Fluorine-containing copolymer and composition for preparing low reflectance film
    • 含氟共聚物和制备低反射膜的组合物
    • US06403744B1
    • 2002-06-11
    • US09640536
    • 2000-08-17
    • Shuyo AkamaHiromi SugimotoKentaro Tsutsumi
    • Shuyo AkamaHiromi SugimotoKentaro Tsutsumi
    • C08F21418
    • C08F214/182C08F214/188
    • The invention relates to a fluorine-containing copolymer. This copolymer contains 1-99 mol % of a special first repeating unit of a cyclic perfluoro group; and 99-1 mol % of a second repeating unit of a bivalent organic group. The copolymer has a number average molecular weight of from 1,000 to 1,000,000 determined in a gel permeation chromatography using polystyrene as a standard material thereof. The invention further relates to a composition for forming a low reflectance film. This composition contains as a film-forming component a fluorine-containing polymer containing the first repeating unit. This polymer can be the above copolymer. A film formed by applying the composition to a substrate provides low reflectance and is improved in hardness.
    • 本发明涉及一种含氟共聚物。 该共聚物含有1-99mol%的环状全氟基团的特殊的第一重复单元; 和99-1摩尔%的二价有机基团的第二重复单元。 该共聚物的数均分子量为1,000〜1,000,000,在使用聚苯乙烯作为标准材料的凝胶渗透色谱中测定。 本发明还涉及用于形成低反射率膜的组合物。 该组合物含有含有第一重复单元的含氟聚合物作为成膜组分。 该聚合物可以是上述共聚物。 通过将组合物施加到基材上形成的膜提供低反射率并且硬度提高。