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    • 2. 发明授权
    • Device for removing hydrogen from a gas mixture and its use
    • 用于从气体混合物中除去氢的装置及其用途
    • US6074618A
    • 2000-06-13
    • US91587
    • 1998-06-22
    • Leander FurstHerbert NeumesiterReinhold Flucht
    • Leander FurstHerbert NeumesiterReinhold Flucht
    • G21F9/02B01D53/86B01J19/24C01B3/58C01B5/00G21C19/37B01D53/34
    • B01D53/8671C01B3/58C01B5/00C01B2203/0435C01B2203/0465
    • The invention relates to a device for removing hydrogen from a gas mixture containing free hydrogen and oxygen by means of catalytic oxidation of the hydrogen in a reaction chamber (6) having a support (1) secured in the reaction chamber and coated on its surface (2) with catalytically active materials, serving to dissipate reaction heat, and also with an inlet (7) into the reaction chamber for the gas mixture and with an outlet (10) for residual gas that remains after the oxidation of the hydrogen. A part (5) of the catalytically active surface (2) of the support (1) is immersed into a liquid bath (3), the temperature of which is below the condensation temperature of the water vapor formed in the reaction chamber (6). The liquid inlet (7) for the liquid bath (3) concurrently serves as the inlet for the gas mixture to be fed into the reaction chamber and a liquid outlet (10) concurrently serves as an outlet for the residual gas, and both the liquid inlet (7) and the liquid outlet (10) are situated below the liquid level (8) in the reaction chamber (6) and whereby the pressure in the reaction chamber can be controlled.
    • PCT No.PCT / DE96 / 02418 Sec。 371日期1998年7月13日第 102(e)日期1998年7月13日PCT 1996年12月16日PCT公布。 公开号WO97 / 23412 PCT 日期1997年7月3日本发明涉及一种用于通过在具有固定在反应室中的载体(1)的反应室(6)中的氢的催化氧化从含有游离氢和氧的气体混合物中除去氢气的装置,以及 在其表面(2)上涂覆有催化活性材料,用于消散反应热,并且还具有入口(7)进入用于气体混合物的反应室中,并具有用于在氧化后保留的残余气体的出口(10) 氢气。 将支撑体(1)的催化活性表面(2)的部分(5)浸入液体浴(3)中,液体温度低于在反应室(6)中形成的水​​蒸汽的冷凝温度, 。 用于液浴(3)的液体入口(7)同时用作用于进入反应室的气体混合物的入口,液体出口(10)同时用作残余气体的出口,并且液体 入口(7)和液体出口(10)位于反应室(6)中的液面(8)的下方,从而可以控制反应室中的压力。