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1. 发明授权

US08313635B2 Bare aluminum baffles for resist stripping chambers 有权
标题翻译：用于抗剥离室的裸铝挡板
公开(公告)号：US08313635B2
公开(公告)日：2012-11-20
申请号：US12873906
申请日：2010-09-01
申请人： Fred D. Egley , Michael S. Kang , Anthony L. Chen , Jack Kuo , Hong Shih , Duane Outka , Bruno Morel
发明人： Fred D. Egley , Michael S. Kang , Anthony L. Chen , Jack Kuo , Hong Shih , Duane Outka , Bruno Morel
IPC分类号： B23H3/00
CPC分类号： H01J37/32633 , C23C8/02 , C23C8/10 , G03F7/427 , H01J37/32357 , H01J2237/3342
摘要： Bare aluminum baffles are adapted for resist stripping chambers and include an outer aluminum oxide layer, which can be a native aluminum oxide layer or a layer formed by chemically treating a new or used bare aluminum baffle to form a thin outer aluminum oxide layer.
摘要翻译：裸铝挡板适用于抗蚀剂剥离室，并且包括外部氧化铝层，其可以是天然氧化铝层或通过化学处理新的或使用的裸铝挡板形成薄的外部氧化铝层而形成的层。

2. 发明申请

US20100319813A1 BARE ALUMINUM BAFFLES FOR RESIST STRIPPING CHAMBERS 有权
标题翻译：用于耐腐蚀剥离室的铝合金棒
公开(公告)号：US20100319813A1
公开(公告)日：2010-12-23
申请号：US12873906
申请日：2010-09-01
申请人： Fred D. Egley , Michael S. Kang , Anthony L. Chen , Jack Kuo , Hong Shih , Duane Outka , Bruno Morel
发明人： Fred D. Egley , Michael S. Kang , Anthony L. Chen , Jack Kuo , Hong Shih , Duane Outka , Bruno Morel
IPC分类号： C23C8/02 , C25F3/30 , C23C8/10 , C25F3/20
CPC分类号： H01J37/32633 , C23C8/02 , C23C8/10 , G03F7/427 , H01J37/32357 , H01J2237/3342
摘要： Bare aluminum baffles are adapted for resist stripping chambers and include an outer aluminum oxide layer, which can be a native aluminum oxide layer or a layer formed by chemically treating a new or used bare aluminum baffle to form a thin outer aluminum oxide layer.
摘要翻译：裸铝挡板适用于抗蚀剂剥离室，并且包括外部氧化铝层，其可以是天然氧化铝层或通过化学处理新的或使用的裸铝挡板形成薄的外部氧化铝层而形成的层。

3. 发明授权

US07811409B2 Bare aluminum baffles for resist stripping chambers 有权
标题翻译：用于抗剥离室的裸铝挡板
公开(公告)号：US07811409B2
公开(公告)日：2010-10-12
申请号：US11987419
申请日：2007-11-29
申请人： Fred D. Egley , Michael S. Kang , Anthony L. Chen , Jack Kuo , Hong Shih , Duane Outka , Bruno Morel
发明人： Fred D. Egley , Michael S. Kang , Anthony L. Chen , Jack Kuo , Hong Shih , Duane Outka , Bruno Morel
IPC分类号： C23C16/00 , C23F1/00 , H01L21/306
CPC分类号： H01J37/32633 , C23C8/02 , C23C8/10 , G03F7/427 , H01J37/32357 , H01J2237/3342
摘要： Bare aluminum baffles are adapted for resist stripping chambers and include an outer aluminum oxide layer, which can be a native aluminum oxide layer or a layer formed by chemically treating a new or used bare aluminum baffle to form a thin outer aluminum oxide layer.
摘要翻译：裸铝挡板适用于抗蚀剂剥离室，并且包括外部氧化铝层，其可以是天然氧化铝层或通过化学处理新的或使用的裸铝挡板形成薄的外部氧化铝层而形成的层。

4. 发明申请

US20080178906A1 Bare aluminum baffles for resist stripping chambers 有权
标题翻译：用于抗剥离室的裸铝挡板
公开(公告)号：US20080178906A1
公开(公告)日：2008-07-31
申请号：US11987419
申请日：2007-11-29
申请人： Fred D. Egley , Michael S. Kang , Anthony L. Chen , Jack Kuo , Hong Shih , Duane Outka , Bruno Morel
发明人： Fred D. Egley , Michael S. Kang , Anthony L. Chen , Jack Kuo , Hong Shih , Duane Outka , Bruno Morel
IPC分类号： B08B7/02 , B08B13/00 , B05D3/10 , C25F3/16
CPC分类号： H01J37/32633 , C23C8/02 , C23C8/10 , G03F7/427 , H01J37/32357 , H01J2237/3342
摘要： Bare aluminum baffles are adapted for resist stripping chambers and include an outer aluminum oxide layer, which can be a native aluminum oxide layer or a layer formed by chemically treating a new or used bare aluminum baffle to form a thin outer aluminum oxide layer.
摘要翻译：裸铝挡板适用于抗蚀剂剥离室，并且包括外部氧化铝层，其可以是天然氧化铝层或通过化学处理新的或使用的裸铝挡板形成薄的外部氧化铝层而形成的层。

5. 发明授权

US08992722B2 Direct drive arrangement to control confinement rings positioning and methods thereof 有权
标题翻译：用于控制限制环定位的直接驱动装置及其方法
公开(公告)号：US08992722B2
公开(公告)日：2015-03-31
申请号：US12552233
申请日：2009-09-01
申请人： John W. Rasnick , Fred D. Egley
发明人： John W. Rasnick , Fred D. Egley
IPC分类号： C23C16/00 , C23F1/00 , H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32642 , H01J37/32623
摘要： A direct drive arrangement for controlling pressure volume within a confinement region of a processing chamber of a plasma processing system during substrate processing is provided. The confinement region is a chamber volume surrounded by confinement rings is provided. The arrangement includes plunger assemblies configured for changing the pressure of motor assemblies configured for vertically moving the plunger assemblies, and recording set point position values for the plunger assemblies. The arrangement further includes a set of circuits configured for driving the motor assemblies to move the plunger assemblies to change the pressure volume within the confinement region. The set of circuits is also configured for providing power to the motor assemblies. The set of circuits is further configured for receiving the set point position values from the motor assemblies.
摘要翻译：提供了用于在衬底处理期间控制等离子体处理系统的处理室的限制区域内的压力体积的直接驱动装置。限制区域是由限制环包围的室容积。该装置包括被配置用于改变构造成用于垂直移动柱塞组件的马达组件的压力并记录柱塞组件的设定点位置值的柱塞组件。该装置还包括一组电路，其被配置为驱动马达组件以移动柱塞组件以改变限制区域内的压力体积。该组电路还被配置为向马达组件提供动力。该组电路被进一步配置用于从马达组件接收设定点位置值。

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