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    • 1. 发明授权
    • Non-photosensitive siloxane coating for processing hydrophobic photoimageable nozzle plate
    • 非光敏硅氧烷涂层用于加工疏水性光致成像喷嘴板
    • US08728715B2
    • 2014-05-20
    • US13350155
    • 2012-01-13
    • David BernardPaul DryerBart MansdorfXiaoming Wu
    • David BernardPaul DryerBart MansdorfXiaoming Wu
    • G03F7/26
    • B05B1/02B01L3/502707G03F7/265G03F7/38
    • A method of forming a patterned photoresist layer having a hydrophobic surface is provided. The method includes forming a photoresist layer on a substrate and image patterning. The photoresist layer may comprise a polymeric material. The imaged photoresist layer may then undergo a two-stage post-exposure bake. A surface treatment may be performed on the photoresist layer in between the two-stage post-exposure bake. The surface treatment may include applying a siloxane solution on a partially post-exposure baked photoresist layer. The post-exposure baked photoresist layer may then be developed to form the patterned photoresist layer. The method may be used to form a hydrophobic photoimageable nozzle plate of a micro-fluid ejection head having improved mechanical properties and stable hydrophobic properties.
    • 提供了形成具有疏水性表面的图案化光致抗蚀剂层的方法。 该方法包括在基板上形成光致抗蚀剂层和图像图案化。 光致抗蚀剂层可以包括聚合材料。 然后,成像的光致抗蚀剂层可以进行两步曝光后烘烤。 在二级曝光后烘烤中可以在光致抗蚀剂层上进行表面处理。 表面处理可以包括在部分曝光后烘烤的光致抗蚀剂层上施加硅氧烷溶液。 然后曝光后烘烤的光致抗蚀剂层可以显影以形成图案化的光致抗蚀剂层。 该方法可用于形成具有改善的机械性能和稳定的疏水性质的微流体喷射头的疏水可光成像喷嘴板。