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    • 2. 发明申请
    • METHOD FOR FABRICATING CONDUCTIVE PATTERN
    • 制作导电图案的方法
    • US20100081273A1
    • 2010-04-01
    • US12242850
    • 2008-09-30
    • Jung-Yuan HsiehYung-Ching Chen
    • Jung-Yuan HsiehYung-Ching Chen
    • H01L21/768
    • H01L21/76885H01L21/76877
    • A method for fabricating a conductive pattern including following steps is provided. A first conductive layer is formed on a substrate. A patterned hard mask layer is formed on the first conductive layer. A portion of the first conductive layer is removed to expose a portion of the substrate by using the patterned hard mask layer as a mask. A dielectric layer covering the patterned hard mask layer is formed on the substrate. A portion of the dielectric layer is removed to expose the patterned hard mask layer. The patterned hard mask layer is removed to form an opening in the dielectric layer. A second conductive layer is formed in the opening.
    • 提供一种制造包括以下步骤的导电图案的方法。 在基板上形成第一导电层。 图案化的硬掩模层形成在第一导电层上。 通过使用图案化的硬掩模层作为掩模,去除第一导电层的一部分以露出衬底的一部分。 覆盖图案化的硬掩模层的电介质层形成在衬底上。 去除介电层的一部分以暴露图案化的硬掩模层。 图案化的硬掩模层被去除以在介电层中形成开口。 在开口中形成第二导电层。