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    • 5. 发明授权
    • Exposure system for image forming apparatus
    • 成像设备曝光系统
    • US4978994A
    • 1990-12-18
    • US315897
    • 1989-02-16
    • Kenichi Shimizu
    • Kenichi Shimizu
    • G03B27/72G03B27/54
    • G03B27/542
    • In an image forming apparatus in which a plurality of flash lamps mounted at approximately symmetrical positions are alternately lit for exposure of an original to obtain a copied image on a light sensitive film, distribution of exposures effected by the lamps disposed at the positions is made asymmetrical such that the total amount of exposure at a portion of the original undergone the most intensive exposure by the lamp lit first is minimum, while the total amount of exposure at a portion of the original undergone the least intensive exposure by the lamp lit first is maximum.
    • PCT No.PCT / JP88 / 00623 Sec。 371日期1989年2月16日 102(e)日本1989年2月16日PCT PCT日期1988年6月23日。在一种图像形成装置中,其中安装在大致对称位置的多个闪光灯交替点亮以暴露原稿以获得复印图像 感光膜,由设置在位置处的灯实现的曝光分布是不对称的,使得原始部分处的最大曝光量的总曝光量最小的是最小的,而曝光总量 在原来的一部分经过最初照亮的最小强度曝光是最大的。