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    • 1. 发明授权
    • Low melting, opaque enamel frit
    • 低熔点,不透明的搪瓷玻璃料
    • US4469798A
    • 1984-09-04
    • US433819
    • 1982-10-12
    • Atsushi NishinoKunio KimuraMasaki IkedaHajime Oyabu
    • Atsushi NishinoKunio KimuraMasaki IkedaHajime Oyabu
    • C03C3/064C03C8/08C03C8/14C03C8/20C03C5/02
    • C03C8/20C03C8/08
    • A low melting, opaque enamel frit is described, which comprises 30 to 36 wt. % of SiO.sub.2, 15 to 20 wt. % of B.sub.2 O.sub.3, 7 to 9 wt. % of Na.sub.2 O, 5 to 10 wt. % of ZrO.sub.2, 10 to 17 wt. % of TiO.sub.2, 7 to 15 wt. % of K.sub.2 O, 2 to 10 wt. % of F.sub.2 and 0.5 to 2.5 wt. % of P.sub.2 O.sub.5. The total of Na.sub.2 O and K.sub.2 O is in the range of 15 to 20 wt. % and the total of TiO.sub.2 and ZrO.sub.2 is in the range of 15 to 20 wt. %. The ZrO.sub.2 /(TiO.sub.2 +ZrO.sub.2) ratio is in the range of 0.25 to 0.5:1 and the SiO.sub.2 /B.sub.2 O.sub.3 ratio is in the range of 1.5 to 2.4:1. In addition, the Na.sub.2 O/K.sub.2 O ratio is in the range of 0.6 to 1.0:1 and the (Na.sub.2 O+K.sub.2 O)/(TiO.sub.2 +ZrO.sub.2) is in the range of 0.7 to 1.2:1.
    • 描述了低熔点不透明的釉质玻璃料,其包含30至36重量% 的SiO 2%,15〜20wt。 B2O3%,7〜9wt。 %的Na 2 O,5〜10wt。 %的ZrO 2,10〜17wt。 %的TiO 2,7〜15wt。 %的K2O,2〜10wt。 F2的比例为0.5〜2.5wt。 %的P2O5。 Na 2 O和K 2 O的总量在15至20重量%的范围内。 %,TiO 2和ZrO 2的总量在15〜20重量%的范围内。 %。 ZrO 2 /(TiO 2 + ZrO 2)的比例在0.25〜0.5:1的范围内,SiO 2 / B 2 O 3的比例在1.5〜2.4:1的范围内。 另外,Na 2 O / K 2 O比在0.6〜1.0:1的范围内,(Na2O + K2O)/(TiO2 + ZrO2)在0.7〜1.2:1的范围内。