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1. 发明授权

US07083880B2 Lithographic template and method of formation and use 失效
标题翻译：光刻模板及其形成和使用方法
公开(公告)号：US07083880B2
公开(公告)日：2006-08-01
申请号：US10222734
申请日：2002-08-15
申请人： Albert Alec Talin , Jeffrey H. Baker , William J. Dauksher , Andy Hooper , Douglas J. Resnick
发明人： Albert Alec Talin , Jeffrey H. Baker , William J. Dauksher , Andy Hooper , Douglas J. Resnick
IPC分类号： G03F1/00 , G03C5/00
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , C23C14/086 , G03F7/0002 , G03F7/0017 , G03F7/093
摘要： This invention relates to semiconductor devices, microelectronic devices, micro electro mechanical devices, microfluidic devices, photonic devices, and more particularly to a lithographic template, a method of forming the lithographic template and a method for forming devices with the lithographic template. The lithographic template (10) is formed having a substrate (12), a transparent conductive layer (16) formed on a surface (14) of the substrate (12) by low pressure sputtering to a thickness that allows for preferably 90% transmission of ultraviolet light therethrough, and a patterning layer (20) formed on a surface (18) of the transparent conductive layer (16). The template (10) is used in the fabrication of a semiconductor device (30) for affecting a pattern in device (30) by positioning the template (10) in close proximity to semiconductor device (30) having a radiation sensitive material formed thereon and applying a pressure to cause the radiation sensitive material to flow into the relief image present on the template. Radiation is then applied through the template so as to cure portions of the radiation sensitive material and define the pattern in the radiation sensitive material. The template (10) is then removed to complete fabrication of semiconductor device (30).
摘要翻译：本发明涉及半导体器件，微电子器件，微电子机械器件，微流体器件，光子器件，更具体地涉及光刻模板，形成光刻模板的方法和用光刻模板形成器件的方法。光刻模板（10）形成为具有基板（12），通过低压溅射形成在基板（12）的表面（14）上的透明导电层（16）至允许优选90％透射率的厚度紫外光，以及形成在透明导电层（16）的表面（18）上的图形层（20）。模板（10）用于通过将模板（10）定位成紧邻其上形成有辐射敏感材料的半导体器件（30）而影响器件（30）中的图案的半导体器件（30）的制造，以及施加压力以使辐射敏感材料流入存在于模板上的浮雕图像。然后通过模板施加辐射，以便固化辐射敏感材料的部分并限定辐射敏感材料中的图案。然后移除模板（10）以完成半导体器件（30）的制造。

2. 发明授权

US07432024B2 Lithographic template and method of formation and use 有权
标题翻译：光刻模板及其形成和使用方法
公开(公告)号：US07432024B2
公开(公告)日：2008-10-07
申请号：US11423621
申请日：2006-06-12
申请人： Albert Alec Talin , Jeffrey H. Baker , William J. Dauksher , Andy Hooper , Douglas J. Resnick
发明人： Albert Alec Talin , Jeffrey H. Baker , William J. Dauksher , Andy Hooper , Douglas J. Resnick
IPC分类号： G03F1/00 , G03C5/00
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , C23C14/086 , G03F7/0002 , G03F7/0017 , G03F7/093
摘要： This invention relates to semiconductor devices, microelectronic devices, micro electro mechanical devices, microfluidic devices, photonic devices, and more particularly to a lithographic template, a method of forming the lithographic template and a method for forming devices with the lithographic template. The lithographic template (10) is formed having a substrate (12), a transparent conductive layer (16) formed on a surface (14) of the substrate (12) by low pressure sputtering to a thickness that allows for preferably 90% transmission of ultraviolet light therethrough, and a patterning layer (20) formed on a surface (18) of the transparent conductive layer (16). The template (10) is used in the fabrication of a semiconductor device (30) for affecting a pattern in device (30) by positioning the template (10) in close proximity to semiconductor device (30) having a radiation sensitive material formed thereon and applying a pressure to cause the radiation sensitive material to flow into the relief image present on the template. Radiation is then applied through the template so as to cure portions of the radiation sensitive material and define the pattern in the radiation sensitive material. The template (10) is then removed to complete fabrication of semiconductor device (30).
摘要翻译：本发明涉及半导体器件，微电子器件，微电子机械器件，微流体器件，光子器件，更具体地涉及光刻模板，形成光刻模板的方法和用光刻模板形成器件的方法。光刻模板（10）形成为具有基板（12），通过低压溅射形成在基板（12）的表面（14）上的透明导电层（16）至允许优选90％透射率的厚度紫外光，以及形成在透明导电层（16）的表面（18）上的图形层（20）。模板（10）用于通过将模板（10）定位成紧邻其上形成有辐射敏感材料的半导体器件（30）而影响器件（30）中的图案的半导体器件（30）的制造，以及施加压力以使辐射敏感材料流入存在于模板上的浮雕图像。然后通过模板施加辐射，以便固化辐射敏感材料的部分并限定辐射敏感材料中的图案。然后移除模板（10）以完成半导体器件（30）的制造。

3. 发明授权

US06373174B1 Field emission device having a surface passivation layer 失效
标题翻译：具有表面钝化层的场致发射器件
公开(公告)号：US06373174B1
公开(公告)日：2002-04-16
申请号：US09459119
申请日：1999-12-10
申请人： Albert Alec Talin , Curtis D. Moyer , Kenneth A. Dean , Jeffrey H. Baker , Steven A. Voight
发明人： Albert Alec Talin , Curtis D. Moyer , Kenneth A. Dean , Jeffrey H. Baker , Steven A. Voight
IPC分类号： H01J102
CPC分类号： H01J29/84 , H01J3/022 , H01J21/105
摘要： A field emission device (100, 200, 300, 400, 500) includes a substrate (110, 210, 310, 410, 510), a cathode (115, 215, 315, 415, 515) formed thereon, a plurality of electron emitters (170, 270, 370, 470, 570) and a plurality of gate electrodes (150, 250, 350, 450, 550) proximately disposed to the plurality of electron emitters (170, 270, 370, 470, 570) for effecting electron emission therefrom, a dielectric layer (140, 240, 340, 440, 540) having a major surface (143, 243, 343, 443, 543), a surface passivation layer (190, 290, 390, 490, 590) formed on the major surface (143, 243, 343, 443, 543), and an anode (180, 280, 380, 480, 580) spaced from the gate electrodes (250, 350, 450, 550).
摘要翻译：场发射器件（100,200,300,400,500）包括衬底（110,210,310,410,510），形成在其上的阴极（115,215,315,415,515），多个电子发射器（170,270,370,470,570）以及近似设置在多个电子发射器（170,270,370,470,570）上的多个栅电极（150,250,350,450,550），用于实现具有主表面（143,243,343,443,543）的电介质层（140,240,340,440,540），形成的表面钝化层（190,290,390,490,590）在主表面（143,243,343,443,543）上，以及与栅电极（250,350,450,550）间隔开的阳极（180,280,380,480,580）。

4. 发明授权

US07425392B2 Lithographic template and method of formation and use 失效
标题翻译：光刻模板及其形成和使用方法
公开(公告)号：US07425392B2
公开(公告)日：2008-09-16
申请号：US11213071
申请日：2005-08-26
申请人： Kevin J. Nordquist , Jeffrey H. Baker , William J. Dauksher
发明人： Kevin J. Nordquist , Jeffrey H. Baker , William J. Dauksher
IPC分类号： G03F1/00
CPC分类号： G03F7/0017 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
摘要： A lithographic template, a method of forming the lithographic template and a method for forming devices with the lithographic template is provided. The lithographic template (10) and the method of making comprises forming a transparent conductive layer (16) over a substrate (12). A SiCN layer (18) is formed over the transparent conductive layer (16), and a patterning layer (20) formed on the SiCN layer (18). The SiCN layer (18) is converted to an SiO2 layer by applying an O2 plasma (23). The SiO2 layer prevents damage to the transparent conductive layer (16) during cleaning and provides a binding mechanism for the imprint release coating.
摘要翻译：提供了光刻模板，形成光刻模板的方法以及用该光刻模板形成器件的方法。光刻模板（10）和制造方法包括在衬底（12）上形成透明导电层（16）。在透明导电层（16）上形成SiCN层（18），形成在SiCN层（18）上的图形层（20）。通过施加O 2等离子体（23）将SiCN层（18）转化为SiO 2层。 SiO 2层防止在清洁期间对透明导电层（16）的损坏，并提供用于压印剥离涂层的结合机构。

5. 发明授权

US07378346B2 Integrated multi-wavelength Fabry-Perot filter and method of fabrication 失效
标题翻译：集成多波长法布里 - 珀罗滤波器及其制作方法
公开(公告)号：US07378346B2
公开(公告)日：2008-05-27
申请号：US11387468
申请日：2006-03-22
申请人： Ngoc V. Le , Jeffrey H. Baker , Diana J. Convey , Paige M. Holm , Steven M. Smith
发明人： Ngoc V. Le , Jeffrey H. Baker , Diana J. Convey , Paige M. Holm , Steven M. Smith
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/461
CPC分类号： G01J3/26 , G02B5/284
摘要： A method is provided for forming a monolithically integrated optical filter, for example, a Fabry-Perot filter, over a substrate (10). The method comprises forming a first mirror (16) over the substrate (10). A plurality of etalon material layers (32, 34, 36, 38) are formed over the mirror (16), and a plurality of etch stop layers (42, 44, 46) are formed, one each between adjacent etalon material layers (32, 34, 36, 38). A photoresist is patterned to create an opening (54) over the top etalon material layer (38) and an etch (56) is performed down to the top etch stop layer (46). An oxygen plasma (58) may be applied to convert the etch stop layer (46) within the opening (54) to silicon dioxide (57). The photoresist patterning, etching, and applying of an oxygen plasma may be repeated as desired to obtain the desired number of levels (82, 84, 86, 88). A second mirror (72) is then formed on each of the levels (82, 84, 86, 88).
摘要翻译：提供了一种用于在衬底（10）上形成单片集成滤光器（例如法布里 - 珀罗滤光片）的方法。该方法包括在衬底（10）上形成第一反射镜（16）。多个标准具材料层（32,34,36,38）形成在反射镜（16）上方，并且形成多个蚀刻停止层（42,44,46），每个蚀刻停止层之间相邻的标准具材料层（32 ，34,36,38）。图案化光致抗蚀剂以在顶部标准具材料层（38）上方形成开口（54），并且向下蚀刻停止层（46）进行蚀刻（56）。可以施加氧等离子体（58）以将开口（54）内的蚀刻停止层（46）转化为二氧化硅（57）。可以根据需要重复光刻胶图案化，蚀刻和施加氧等离子体以获得所需数量的水平（82,84,86,88）。然后在每个级（82,84,86,88）上形成第二反射镜（72）。

6. 发明授权

US06764874B1 Method for chemical vapor deposition of single walled carbon nanotubes 失效
标题翻译：单壁碳纳米管的化学气相沉积方法
公开(公告)号：US06764874B1
公开(公告)日：2004-07-20
申请号：US10356217
申请日：2003-01-30
申请人： Ruth Yu-Ai Zhang , Islamshah Amlani , Jeffrey H. Baker
发明人： Ruth Yu-Ai Zhang , Islamshah Amlani , Jeffrey H. Baker
IPC分类号： H01L5140
CPC分类号： D01F9/127 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/162 , C01B2202/02 , H01L51/0048 , H01L51/0512 , Y10S977/843
摘要： A method of fabricating a nanotube structure which includes providing a substrate, depositing a supporting layer and an active catalyst film layer onto the substrate, and forming at least one nanotube on the surface of the substrate using a reaction chamber having a growth temperature of less than 850° C.
摘要翻译：一种制造纳米管结构的方法，其包括提供衬底，在所述衬底上沉积支撑层和活性催化剂膜层，以及使用生长温度小于所述衬底的反应室在所述衬底的表面上形成至少一个纳米管 850℃

7. 发明授权

US07431964B2 Method of forming a porous metal catalyst on a substrate for nanotube growth 失效
标题翻译：在纳米管生长用基材上形成多孔金属催化剂的方法
公开(公告)号：US07431964B2
公开(公告)日：2008-10-07
申请号：US11016406
申请日：2004-12-17
申请人： Yi Wei , Jeffrey H. Baker , Bernard F. Coll , Steven M. Smith
发明人： Yi Wei , Jeffrey H. Baker , Bernard F. Coll , Steven M. Smith
IPC分类号： B05D3/00
CPC分类号： D01F9/1272 , B01J23/755 , B01J37/0238 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/162 , H01J9/025 , H01J2201/30469
摘要： A method is provided for forming a porous metal catalyst (44) on a substrate (42) for nanotube (84) growth in an emissive display. The method comprises depositing a metal (44) onto a surface of a substrate (12) at an angle (Θ) to the surface, depositing a metal catalyst (72) onto the metal (44), and forming nanotubes (84) on the metal catalyst (72).
摘要翻译：提供了一种在发射显示器中用于在纳米管（84）生长的衬底（42）上形成多孔金属催化剂（44）的方法。该方法包括以与该表面成角度（θ）将金属（44）沉积到基底（12）的表面上，在金属（44）上沉积金属催化剂（72），并在金属（44）上形成纳米管金属催化剂（72）。

8. 发明授权

US4955666A Surgical chair or table with debris-catching facility and disposable catch bag therefor 失效
标题翻译：手术椅或带有碎片设备的桌子和一次性抓袋
公开(公告)号：US4955666A
公开(公告)日：1990-09-11
申请号：US355230
申请日：1989-05-19
申请人： Jeffrey H. Baker
发明人： Jeffrey H. Baker
IPC分类号： A61B46/23 , A61G13/10 , A61G15/10
CPC分类号： A61G13/102 , A61G15/10 , A61B2046/236
摘要： A chair or table for medical or surgical patients has in one form of the invention an outwardly bowed facility, preferably removable and replaceable, along an end of the chair or table down whose seat or top liquid and debris cascades during an examination or surgical procedure, to receive and retain a flap extending from and along one margin of the opening of a catch bag of flexible sheet material while a second flap, extending from and along the opposite margin of such opening of the catch bag, overlies the seat of the chair or the table top at such end of the chair or table and is preferably secured to such chair seat or table top by pressure sensitive adhesive applied to the overlying flap of the bag. In another form of the invention, the catch receptacle itself has an elongate stiff but malleable member incorporated therein extending along such opposite margin of the bag opening for bending outwardly of the opening to hold the bag open when installed on the chair or table.
摘要翻译：用于医疗或手术患者的椅子或桌子具有本发明的一种形式，沿着座椅或顶部液体和碎屑在检查或外科手术过程中级联的座椅或桌子的端部，优选地可移动和可更换的向外弯曲的设施，接收和保持从柔性片材的捕获袋的开口的一个边缘延伸并且沿其延伸的翼片，而从抓袋的开口的相对边缘延伸并沿其延伸的第二翼片覆盖在椅子的座椅上，或者椅子或桌子的这种端部处的桌面，并且优选地通过施加到袋的上覆盖的压敏粘合剂固定到这种椅子座椅或桌面上。在本发明的另一种形式中，捕获容器本身具有并入其中的细长的刚性但有延展性的构件，其沿着袋开口的相对边缘延伸，用于在开口的外侧弯曲以在安装在椅子或桌子上时将袋保持打开。

9. 发明申请

US20080265387A1 SMUDGE RESISTANT COATING FOR ELECTRONIC DEVICE DISPLAYS 审中-公开
标题翻译：用于电子设备显示屏的抗电光涂层
公开(公告)号：US20080265387A1
公开(公告)日：2008-10-30
申请号：US11742217
申请日：2007-04-30
申请人： John J. D'Urso , Jeffrey H. Baker , Tula Jutarosaga
发明人： John J. D'Urso , Jeffrey H. Baker , Tula Jutarosaga
IPC分类号： H01L23/02 , B05B5/00
CPC分类号： B05D5/083 , B05D1/185 , B05D2350/60 , C23C14/20
摘要： An apparatus and method is provided for preventing smudges (608) including oils and dust from collecting on a portable electronic device display (110, 150, 200, 300). A plurality of islands (606) are formed on a surface of the display device, each island (606) comprising a transparent material and having a diameter of between 5 and 200 nanometers. Liquid (608) forming on the plurality of islands has a large contact angle (610), increasing the likelihood of the liquid migrating from the display device and thereby removing contaminants therewith.
摘要翻译：提供了一种用于防止包括油和灰尘在内的污迹（608）收集在便携式电子设备显示器（110,150,200,300）上的装置和方法。多个岛（606）形成在显示装置的表面上，每个岛（606）包括透明材料并且具有5至200纳米的直径。在多个岛上形成的液体（608）具有大的接触角（610），增加了液体从显示装置迁移的可能性，从而消除了污染物。

10. 发明授权

US07105363B2 Cladded conductor for use in a magnetoelectronics device and method for fabricating the same 失效
标题翻译：用于磁电子器件的包层导体及其制造方法
公开(公告)号：US07105363B2
公开(公告)日：2006-09-12
申请号：US11082617
申请日：2005-03-16
申请人： Mark A. Durlam , Jeffrey H. Baker , Brian R. Butcher , Mark F. Deherrera , John J. D'Urso , Earl D. Fuchs , Gregory W. Grynkewich , Kelly W. Kyler , Jaynal A. Molla , J. Jack Ren , Nicholas D. Rizzo
发明人： Mark A. Durlam , Jeffrey H. Baker , Brian R. Butcher , Mark F. Deherrera , John J. D'Urso , Earl D. Fuchs , Gregory W. Grynkewich , Kelly W. Kyler , Jaynal A. Molla , J. Jack Ren , Nicholas D. Rizzo
IPC分类号： H01L21/00
CPC分类号： H01L27/222 , G11C11/15 , H01L28/10 , H01L43/12
摘要： A method for fabricating a cladded conductor (42) for use in a magnetoelectronics device is provided. The method includes providing a substrate (10) and forming a conductive barrier layer (12) overlying the substrate (10). A dielectric layer (16) is formed overlying the conductive barrier layer (12) and a conducting line (20) is formed within a portion of the dielectric layer (16). The dielectric layer (16) is removed and a flux concentrator (30) is formed overlying the conducting line (20).
摘要翻译：提供一种用于制造用于磁电装置的包层导体（42）的方法。该方法包括提供衬底（10）并形成覆盖衬底（10）的导电阻挡层（12）。形成在导电阻挡层（12）上方的电介质层（16），并且在电介质层（16）的一部分内形成导电线（20）。去除电介质层（16），并且形成覆盖导线（20）的集流器（30）。

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