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1. 发明授权

US06262214B1 Lowly birefringent polymer, process for the production thereof, and optical pickup lens 失效
标题翻译：低折射聚合物，其制造方法和光学拾取透镜
公开(公告)号：US06262214B1
公开(公告)日：2001-07-17
申请号：US09297062
申请日：1999-04-29
申请人： Akira Yanagase , Seiji Tone , Toru Tokimitsu
发明人： Akira Yanagase , Seiji Tone , Toru Tokimitsu
IPC分类号： C08F22012
CPC分类号： G11B7/2542 , C08F220/28 , C08F222/20 , G02B1/04 , G02B5/3083 , G02B6/02033 , G11B7/1372 , G11B7/2533 , G11B7/2534 , G11B7/2578 , G11B7/2585 , G11B7/259 , G11B7/2595 , C08L33/14
摘要： A copolymer having low birefringence substantially consisting of a repeating unit represented by the following general formula (1) and a repeating unit of a (meth)acrylate: wherein, R1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group or a substituted hydrocarbon group.). This copolymer has low birefringence and low hydrophilia, is excellent in transparency, heat-resistance and mechanical strength, and can be applied to lenses, optical disks, optical fibers and the like.
摘要翻译：一种基本上由下述通式（1）表示的重复单元和（甲基）丙烯酸酯的重复单元组成的双折射率低的共聚物，其中，R 1表示氢原子或碳原子数1〜25的烃基，脂环族烃基或取代烃基）。该共聚物的双折射率低，亲水性低，透明性，耐热性和机械强度优异，可以应用于透镜，光盘，光纤等。

2. 发明授权

US09696464B2 Mold having an uneven surface structure, optical article, manufacturing method therefor, transparent substrate for surface light emitter and surface light emitter 有权
公开(公告)号：US09696464B2
公开(公告)日：2017-07-04
申请号：US14125332
申请日：2012-06-15
申请人： Yumiko Saeki , Toshiaki Hattori , Toru Tokimitsu
发明人： Yumiko Saeki , Toshiaki Hattori , Toru Tokimitsu
IPC分类号： H01L21/00 , G02B5/02 , B29D11/00 , B29C37/00 , B29C45/37 , B29C33/42 , B29L11/00 , B29C59/10 , B29C59/14 , B29C59/16 , B29C35/08
CPC分类号： G02B5/0268 , B29C33/424 , B29C37/0053 , B29C37/0067 , B29C45/372 , B29C59/10 , B29C59/14 , B29C59/16 , B29C2035/0827 , B29C2035/0833 , B29D11/00 , B29D11/00326 , B29D11/0048 , B29L2011/00
摘要： The invention relates to a mold having an irregularly uneven surface structure in which an average inclination angle is from 20 to 80 degrees; an optical article having an irregularly uneven surface structure in which an average inclination angle is from 20 to 80 degrees; a method for manufacturing an optical article having an irregularly uneven surface structure by transferring an uneven structure of a mold; a transparent substrate for a surface light emitter which uses an optical article having an irregularly uneven surface structure; and a surface light emitter having a transparent substrate for a surface light emitter.

3. 发明申请

US20060052539A1 Primer composition for coating 审中-公开
标题翻译：用于涂层的底漆组合物
公开(公告)号：US20060052539A1
公开(公告)日：2006-03-09
申请号：US10524838
申请日：2003-08-22
申请人： Tetsuya Noda , Toru Tokimitsu
发明人： Tetsuya Noda , Toru Tokimitsu
IPC分类号： C08J3/00
CPC分类号： C09D133/066 , C09D5/002
摘要： Disclosed is a primer composition for coating having excellent adhesion properties to a substrate and comprising a polyolefin resin or acrylic resin, without the use of a chlorine-containing compound, which primer composition essentially comprises a polymer (A) having at least a unit of a (meth)acrylic ester monomer (a) in which acryloyloxy group or methacryloyloxy group is bonded to secondary carbon atom or tertiary carbon atom.
摘要翻译：公开了一种用于涂料的底漆组合物，其基材具有优异的粘附性，并且包含聚烯烃树脂或丙烯酸树脂，不使用含氯化合物，该底漆组合物基本上包含具有至少单位为（甲基）丙烯酸酯单体（a），其中丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基与仲碳原子或叔碳原子键合。

4. 发明授权

US06927011B2 Resins for resists and chemically amplifiable resist compositions 有权
标题翻译：用于抗蚀剂和化学放大抗蚀剂组合物的树脂
公开(公告)号：US06927011B2
公开(公告)日：2005-08-09
申请号：US10332770
申请日：2001-02-09
申请人： Tadayuki Fujiwara , Yukiya Wakisaka , Toru Tokimitsu , Naoshi Murata , Yoshihiro Kamon , Hikaru Momose
发明人： Tadayuki Fujiwara , Yukiya Wakisaka , Toru Tokimitsu , Naoshi Murata , Yoshihiro Kamon , Hikaru Momose
IPC分类号： C08F20/28 , G03F7/039 , G03F7/038
CPC分类号： G03F7/0392 , C08F20/28 , Y10S430/106 , Y10S430/111
摘要： A resist resin containing a monomer unit selected from the group comprising a monomer unit represented by Formula (II): wherein a substituent R3 represents an alkyl group, or a functional group comprising an acid-deprotectable protecting group, m representing the number of R3 is 0 (non-substitution), 1, 2 or more, R3 may be different from each other, provided that m is 2 or more, and n represents an integer of 0 to 4, has no rough spots on the surface after etching and so has good dry etching resistance, and therefore the resist resin is preferably used as a photo resist for DUV.
摘要翻译：含有选自由式（II）表示的单体单元的单体单元的抗蚀剂树脂：其中取代基R 3表示烷基，或包含酸可去保护的保护基的官能团，表示R 3的数目的m为0（非取代），1,2或更多个，R 3可以彼此不同，条件是m为2 以上，n表示0〜4的整数，蚀刻后的表面没有粗糙斑点，因此具有良好的耐干蚀刻性，因此抗蚀树脂优选用作DUV的光致抗蚀剂。

5. 发明授权

US6160070A Process for the preparation of poly(meth)acrylic acid ester 有权
标题翻译：制备聚（甲基）丙烯酸酯的方法
公开(公告)号：US6160070A
公开(公告)日：2000-12-12
申请号：US230359
申请日：1999-01-25
申请人： Akira Yanagase , Seiji Tone , Toru Tokimitsu , Mitsufumi Nodono
发明人： Akira Yanagase , Seiji Tone , Toru Tokimitsu , Mitsufumi Nodono
IPC分类号： C08F2/38 , C08F20/12 , C08F120/18
CPC分类号： C08F20/12 , C08F2/38
摘要： Disclosed is a process for the preparation of a poly-(meth)acrylate ester, which comprises, upon polymerization of a (meth)acrylate ester by using an organometallic compound ((C.sub.5 Me.sub.5).sub.2 SmMe(thf) or the like) having at least one polymerization initiating site, carrying out the polymerization in the presence of a compound (acetophenone, 4-methyl-2-pentanone or the like), which contains in the molecule thereof a reactive hydrogen atom, as a chain transfer agent. The above-described process makes it possible to control the molecular weight easily, reduce the using amount of the organometallic compound, prevent the coloring of the poly(meth)acrylate ester and improve thermal decomposition resistance.
摘要翻译： PCT No.PCT / JP97 / 02574 Sec。 371日期1999年1月25日 102（e）日期1999年1月25日PCT提交1997年7月24日PCT公布。第WO98 / 04595号公报日期1998年2月5日公开是制备聚（甲基）丙烯酸酯的方法，其包括在使用有机金属化合物（（C5Me5）2SmMe（thf）等聚合（甲基）丙烯酸酯时））具有至少一个聚合引发位点，在其分子中含有反应性氢原子的化合物（苯乙酮，4-甲基-2-戊酮等）存在下进行聚合作为链转移剂。上述方法可以容易地控制分子量，减少有机金属化合物的使用量，防止聚（甲基）丙烯酸酯的着色，提高耐热分解性。

6. 发明授权

US5919867A Block copolymer and a preparation process thereof 失效
标题翻译：嵌段共聚物及其制备方法
公开(公告)号：US5919867A
公开(公告)日：1999-07-06
申请号：US860326
申请日：1997-06-23
申请人： Hajime Yasuda , Eiji Ihara , Akira Yanagase , Hitoshi Ige , Seiji Tone , Toru Tokimitsu
发明人： Hajime Yasuda , Eiji Ihara , Akira Yanagase , Hitoshi Ige , Seiji Tone , Toru Tokimitsu
IPC分类号： C08F297/00 , C08F297/02 , C08F297/06
CPC分类号： C08F297/026 , C08F297/00 , C08F297/06
摘要： An A-B-A type of block copolymer consisting of polymer block A of (meth)acrylate and polymer block B of olefin, having a Mw/Mn of 1.0 to 2.5, is disclosed. This block copolymer can be produced by polymerizing an olefin using a particular rare earth compound as an initiator, and then polymerizing the formed polymer with a (meth)acrylate.
摘要翻译： PCT No.PCT / JP95 / 02630 Sec。 371日期：1997年6月23日 102（e）日期1997年6月23日PCT 1995年12月22日PCT PCT。出版物WO96 / 日期：1996年6月27日公开了一种由（甲基）丙烯酸聚合物嵌段A和烯烃的聚合物嵌段B（Mw / Mn为1.0〜2.5）组成的A-B-A型嵌段共聚物。该嵌段共聚物可以通过使用特定的稀土类化合物作为引发剂使烯烃聚合，然后与（甲基）丙烯酸酯聚合所形成的聚合物来制备。

7. 发明申请

US20140117397A1 MOLD HAVING AN UNEVEN SURFACE STRUCTURE, OPTICAL ARTICLE, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, TRANSPARENT SUBSTRATE FOR SURFACE LIGHT EMITTER AND SURFACE LIGHT EMITTER 有权
标题翻译：具有无光泽表面结构的模具，光学制品，其制造方法，表面发光体和表面发光体的透明基板
公开(公告)号：US20140117397A1
公开(公告)日：2014-05-01
申请号：US14125332
申请日：2012-06-15
申请人： Yumiko Saeki , Toshiaki Hattori , Toru Tokimitsu
发明人： Yumiko Saeki , Toshiaki Hattori , Toru Tokimitsu
IPC分类号： G02B5/02 , B29D11/00
CPC分类号： G02B5/0268 , B29C33/424 , B29C37/0053 , B29C37/0067 , B29C45/372 , B29C59/10 , B29C59/14 , B29C59/16 , B29C2035/0827 , B29C2035/0833 , B29D11/00 , B29D11/00326 , B29D11/0048 , B29L2011/00
摘要： The invention relates to a mold having an irregularly uneven surface structure in which an average inclination angle is from 20 to 80 degrees; an optical article having an irregularly uneven surface structure in which an average inclination angle is from 20 to 80 degrees; a method for manufacturing an optical article having an irregularly uneven surface structure by transferring an uneven structure of a mold; a transparent substrate for a surface light emitter which uses an optical article having an irregularly uneven surface structure; and a surface light emitter having a transparent substrate for a surface light emitter.
摘要翻译：本发明涉及具有平均倾斜角度为20至80度的不规则凹凸表面结构的模具; 具有平均倾斜角为20〜80度的不规则凹凸表面结构的光学制品; 通过转印模具的不均匀结构来制造具有不规则凹凸表面结构的光学制品的方法; 用于表面光发射器的透明基板，其使用具有不规则凹凸表面结构的光学制品; 以及具有用于表面发光体的透明基板的表面光发射器。

8. 发明授权

US07795348B2 Primer composition for coating 有权
标题翻译：用于涂层的底漆组合物
公开(公告)号：US07795348B2
公开(公告)日：2010-09-14
申请号：US12028396
申请日：2008-02-08
申请人： Tetsuya Noda , Toru Tokimitsu
发明人： Tetsuya Noda , Toru Tokimitsu
IPC分类号： C08L23/12 , C08L23/14 , C08L33/02 , C08L35/00 , C08L41/00 , C08F4/28 , C08F20/10
CPC分类号： C09D133/066 , C09D5/002
摘要： Disclosed is a primer composition for coating having excellent adhesion properties to a substrate and comprising a polyolefin resin or acrylic resin, without the use of a chlorine-containing compound, which primer composition essentially comprises a polymer (A) having at least a unit of a (meth)acrylic ester monomer (a) in which acryloyloxy group or methacryloyloxy group is bonded to secondary carbon atom or tertiary carbon atom.
摘要翻译：公开了一种用于涂料的底漆组合物，其基材具有优异的粘附性，并且包含聚烯烃树脂或丙烯酸树脂，不使用含氯化合物，该底漆组合物基本上包含具有至少单位为（甲基）丙烯酸酯单体（a），其中丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基与仲碳原子或叔碳原子键合。

9. 发明申请

US20080139748A1 PRIMER COMPOSITION FOR COATING 有权
标题翻译：涂料组合物
公开(公告)号：US20080139748A1
公开(公告)日：2008-06-12
申请号：US12028396
申请日：2008-02-08
申请人： Tetsuya Noda , Toru Tokimitsu
发明人： Tetsuya Noda , Toru Tokimitsu
IPC分类号： C09D133/10
CPC分类号： C09D133/066 , C09D5/002
摘要： Disclosed is a primer composition for coating having excellent adhesion properties to a substrate and comprising a polyolefin resin or acrylic resin, without the use of a chlorine-containing compound, which primer composition essentially comprises a polymer (A) having at least a unit of a (meth)acrylic ester monomer (a) in which acryloyloxy group or methacryloyloxy group is bonded to secondary carbon atom or tertiary carbon atom.
摘要翻译：公开了一种用于涂料的底漆组合物，其基材具有优异的粘附性，并且包含聚烯烃树脂或丙烯酸树脂，不使用含氯化合物，该底漆组合物基本上包含具有至少单位为（甲基）丙烯酸酯单体（a），其中丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基与仲碳原子或叔碳原子键合。

10. 发明申请

US20070106029A1 Modified polyolefin resin and composition 审中-公开
标题翻译：改性聚烯烃树脂及组合物
公开(公告)号：US20070106029A1
公开(公告)日：2007-05-10
申请号：US10561790
申请日：2004-06-25
申请人： Hiroki Nakamura , Toru Tokimitsu , Atsunori Koshirai
发明人： Hiroki Nakamura , Toru Tokimitsu , Atsunori Koshirai
IPC分类号： C08F297/02
CPC分类号： C08F255/00
摘要： One object of the present invention is to provide an unchlorinated type modified polyolefin resin which has excellent adhesion properties to a substrate comprising a resin having a low- or non-polarity and exhibiting hardly adherable properties, such as a polyolefin type resin, has an excellent solubility in a solvent, and has an excellent water resistance. The present invention provides a modified polyolefin resin produced by subjecting a polyolefin resin (A) to a graft modification by vinyl monomer(s) (B) comprising at least one (meth)acrylate monomer (b) in which an acryloyloxy group or methacryloyloxy group is bonded to a secondary carbon atom or tertiary carbon atom.
摘要翻译：本发明的一个目的是提供一种非离子型改性聚烯烃树脂，其对包含具有低或非极性并且几乎不具有粘合性的树脂的基材具有优异的粘附性，例如聚烯烃类树脂具有优异的在溶剂中的溶解性，并且具有优异的耐水性。本发明提供一种改性聚烯烃树脂，其通过使含有丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基的至少一种（甲基）丙烯酸酯单体（b）的乙烯基单体（B）进行接枝改性而得到聚烯烃树脂（A）键合到仲碳原子或叔碳原子上。

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