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    • 7. 发明授权
    • Microlens for projection lithography and method of preparation thereof
    • 用于投影光刻的微透镜及其制备方法
    • US07057832B2
    • 2006-06-06
    • US10384080
    • 2003-03-07
    • Ming-Hsien WuKateri E. PaulGeorge M. Whitesides
    • Ming-Hsien WuKateri E. PaulGeorge M. Whitesides
    • G02B7/02
    • G02B3/0031B82Y30/00G02B1/005G02B3/0012G02B3/0018G02B3/0056G02B7/025G02B7/027G03F7/70275
    • Methods and systems for effecting responses on surfaces utilizing microlens arrays including microoptical components embedded or supported by a support element and positioned from the surface at a distance essentially equal to the image distance of the microoptical component with spacer elements are disclosed. Microlens arrays can be used to manipulate incident energy or radiation having a distribution in characteristic property(s) defining an object pattern to form a corresponding image pattern on a substrate surface. The energy can be light having a pattern or a specific wavelength, intensity or polarization or coherence alignment. The image pattern can have features of order 100 nm in size or less produced from corresponding object patterns having features in the order millimeters. The size of the object pattern can be reduced by the microlens arrays described by a factor of 100 or more using a single step process to form the image patterns.
    • 公开了利用微透镜阵列来影响表面上的响应的方法和系统,包括由支撑元件嵌入或支撑并且基本上等于微光学部件与间隔元件的图像距离的表面定位的微光学部件。 可以使用微透镜阵列来操纵具有限定对象图案的特性的分布的入射能量或辐射,以在衬底表面上形成对应的图像图案。 能量可以是具有图案或特定波长,强度或极化或相干对准的光。 图像图案可以具有尺寸为100nm的特征,或者具有从具有毫米级的特征的相应对象图案产生的特征。 通过使用单步骤处理形成图像图案的100倍或更大的微透镜阵列可以减小对象图案的尺寸。