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11. 发明申请

US20050248659A1 Exposure apparatus, and method, device manufacturing method, pattern generator and maintenance method 审中-公开
标题翻译：曝光装置和方法，装置制造方法，图案发生器和维护方法
公开(公告)号：US20050248659A1
公开(公告)日：2005-11-10
申请号：US11112901
申请日：2005-04-22
申请人： Kazuyuki Kasumi , Hirohisa Ota , Eigo Kawakami , Takashi Nakamura , Toshinobu Tokita
发明人： Kazuyuki Kasumi , Hirohisa Ota , Eigo Kawakami , Takashi Nakamura , Toshinobu Tokita
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20 , H01L21/027 , H04N5/225
CPC分类号： G03F9/7015 , G03F7/70291
摘要： An exposure apparatus includes a projection optical system for projecting a predetermined pattern onto an object to be exposed, and a pattern generating unit that includes plural pixels, and generates the predetermined pattern by driving the plural pixels, wherein the pattern generating unit has an alignment mark used for an alignment between the predetermined pattern and the object, on approximately the same surface as a surface on which the predetermined pattern is formed.
摘要翻译：曝光装置包括：投影光学系统，用于将预定图案投射到要曝光的物体上;以及图案生成单元，包括多个像素，并通过驱动多个像素产生预定图案，其中，图案生成单元具有对准标记用于在与预定图案形成的表面大致相同的表面上的预定图案和物体之间的对准。

12. 发明申请

US20050230346A1 Processing apparatus 有权
标题翻译：处理装置
公开(公告)号：US20050230346A1
公开(公告)日：2005-10-20
申请号：US11092228
申请日：2005-03-28
申请人： Kazuyuki Kasumi , Hirohisa Ota , Eigo Kawakami , Takashi Nakamura , Toshinobu Tokita
发明人： Kazuyuki Kasumi , Hirohisa Ota , Eigo Kawakami , Takashi Nakamura , Toshinobu Tokita
IPC分类号： B81C99/00 , B29C43/02 , G03F7/00 , H01L21/027 , B44C1/22 , B05C11/02
CPC分类号： B29C43/021 , B29C43/003 , B29C43/04 , B29C43/14 , B29C2043/025 , B29C2043/142 , B29C2043/3438 , B29C2043/3634 , B29L2011/0016 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
摘要： A processing apparatus for transferring a relief pattern on a mold to a resist on a substrate through a compression of the mold against the resist, includes a supplier for supplying the resist between the substrate and the mold, and a recovery unit for recovering the resist.
摘要翻译：一种处理装置，用于通过将模具压靠在抗蚀剂上将模具上的浮雕图案转移到基板上的抗蚀剂上，包括用于在基板和模具之间供应抗蚀剂的供应商和用于回收抗蚀剂的回收单元。

13. 发明授权

US07815425B2 Processing apparatus 有权
标题翻译：处理装置
公开(公告)号：US07815425B2
公开(公告)日：2010-10-19
申请号：US11093067
申请日：2005-03-28
申请人： Toshinobu Tokita , Hirohisa Ota , Eigo Kawakami , Takashi Nakamura , Kazuyuki Kasumi
发明人： Toshinobu Tokita , Hirohisa Ota , Eigo Kawakami , Takashi Nakamura , Kazuyuki Kasumi
IPC分类号： B29C35/08 , B29C43/14
CPC分类号： B29C43/021 , B29C43/003 , B29C43/04 , B29C43/14 , B29C2043/025 , B29C2043/142 , B29C2043/3634 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
摘要： A processing apparatus for transferring a relief pattern on a mold to a resist on a substrate through a compression of the mold against the resist, includes a supplier for supplying the resist between the substrate and the mold, and an illumination optical system for illuminating ultraviolet light onto the resist via the mold so as to cure the resist.
摘要翻译：一种处理装置，用于通过将模具压靠在抗蚀剂上将模具上的凸版图案转印到基板上的抗蚀剂上，包括用于在基板和模具之间供应抗蚀剂的供应商以及用于照射紫外线的照明光学系统通过模具到抗蚀剂上，以固化抗蚀剂。

14. 发明授权

US07381272B2 Processing apparatus 有权
标题翻译：处理装置
公开(公告)号：US07381272B2
公开(公告)日：2008-06-03
申请号：US11092228
申请日：2005-03-28
申请人： Kazuyuki Kasumi , Hirohisa Ota , Eigo Kawakami , Takashi Nakamura , Toshinobu Tokita
发明人： Kazuyuki Kasumi , Hirohisa Ota , Eigo Kawakami , Takashi Nakamura , Toshinobu Tokita
IPC分类号： B05C13/00 , B05C13/02 , B05C21/00
CPC分类号： B29C43/021 , B29C43/003 , B29C43/04 , B29C43/14 , B29C2043/025 , B29C2043/142 , B29C2043/3438 , B29C2043/3634 , B29L2011/0016 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
摘要： A processing apparatus for transferring a relief pattern on a mold to a resist on a substrate through a compression of the mold against the resist, includes a supplier for supplying the resist between the substrate and the mold, and a recovery unit for recovering the resist.
摘要翻译：一种处理装置，用于通过将模具压靠在抗蚀剂上将模具上的浮雕图案转移到基板上的抗蚀剂上，包括用于在基板和模具之间供应抗蚀剂的供应商和用于回收抗蚀剂的回收单元。

15. 发明授权

US07196321B2 Fine pattern forming apparatus and fine pattern inspecting apparatus 有权
标题翻译：精细图案形成装置和精细图案检查装置
公开(公告)号：US07196321B2
公开(公告)日：2007-03-27
申请号：US11147562
申请日：2005-06-07
申请人： Eigo Kawakami , Hirohisa Ota , Takashi Nakamura , Kazuyuki Kasumi , Toshinobu Tokita
发明人： Eigo Kawakami , Hirohisa Ota , Takashi Nakamura , Kazuyuki Kasumi , Toshinobu Tokita
IPC分类号： G01N21/17 , G11B9/00
CPC分类号： G03F7/2049 , G01Q10/06 , G01Q70/06 , G01Q80/00
摘要： Disclosed is a fine pattern forming apparatus and a fine pattern inspecting apparatus. In one preferred form, the fine pattern forming apparatus includes a surface irregularity information reading device for detecting a shape signal corresponding to a surface irregularity of a surface of an original, while scanning the surface by use of a first probe, and a surface irregularity information writing device for processing a substrate to be processed, while scanning a surface of the substrate by use of a second probe, wherein an applied electric voltage to the second probe is changed in accordance with the shape signal while a distance between the second probe and the substrate is kept substantially constant, or the distance between the second probe and the substrate is changed in accordance with the shape signal while the applied electric voltage to the second probe is kept substantially constant, such that the substrate is processed in accordance with the surface irregularity of the original.
摘要翻译：公开了一种精细图案形成装置和精细图案检查装置。在一种优选形式中，精细图案形成装置包括：表面不规则信息读取装置，用于在利用第一探针扫描表面时检测与原件的表面的表面不规则相对应的形状信号，以及表面不规则信息用于处理待处理的基板的写入装置，同时通过使用第二探针扫描基板的表面，其中根据形状信号改变施加到第二探针的电压，同时第二探针和第二探针之间的距离基板保持基本恒定，或者第二探针和基板之间的距离根据形状信号而改变，同时施加到第二探针的电压保持基本上恒定，使得基板根据表面不规则性被加工的原来。

16. 发明授权

US07180575B2 Exposure apparatus and device manufacturing method 失效
标题翻译：曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：US07180575B2
公开(公告)日：2007-02-20
申请号：US11257791
申请日：2005-10-24
申请人： Kazuyuki Kasumi , Hirohisa Ota , Eigo Kawakami , Takashi Nakamura , Toshinobu Tokita
发明人： Kazuyuki Kasumi , Hirohisa Ota , Eigo Kawakami , Takashi Nakamura , Toshinobu Tokita
IPC分类号： G03B27/42 , G03B27/54
CPC分类号： G03F7/70283 , G03F7/70291
摘要： An exposure apparatus includes a projection optical system for projecting a multigradation pattern onto an object, a spatial modulation element that includes plural, two-dimensionally arranged pixels, and forms an optical image by binary control over each pixel, and a superposing optical system for forming the multigradation pattern by superposing the optical images for each row and/or for each column.
摘要翻译：曝光装置包括：投影光学系统，用于将多重放射图案投射到物体上;空间调制元件，其包括多个二维排列的像素，并通过每个像素的二进制控制形成光学图像;以及叠加光学系统，用于形成通过叠加每行和/或每列的光学图像的多放射图案。

17. 发明申请

US20060157444A1 Imprinting machine and device manufacturing method 有权
标题翻译：压印机和器件制造方法
公开(公告)号：US20060157444A1
公开(公告)日：2006-07-20
申请号：US11297031
申请日：2005-12-07
申请人： Takashi Nakamura , Hirohisa Ota , Eigo Kawakami , Kazuyuki Kasumi , Toshinobu Tokita
发明人： Takashi Nakamura , Hirohisa Ota , Eigo Kawakami , Kazuyuki Kasumi , Toshinobu Tokita
IPC分类号： C03C25/68 , B05C1/00
CPC分类号： G03F9/703 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F9/7042 , G03F9/7049
摘要： An imprinting machine that brings a mold having a pattern into contact with an object and transfers the pattern onto the object includes a measurement unit that measures a position of the mold when the mold contacts the object.
摘要翻译：使具有图案的模具与物体接触并将图案转印到物体上的压印机包括测量单元，其在模具接触物体时测量模具的位置。

18. 发明申请

US20050212156A1 Processing apparatus 有权
标题翻译：处理装置
公开(公告)号：US20050212156A1
公开(公告)日：2005-09-29
申请号：US11093067
申请日：2005-03-28
申请人： Toshinobu Tokita , Hirohisa Ota , Eigo Kawakami , Takashi Nakamura , Kazuyuki Kasumi
发明人： Toshinobu Tokita , Hirohisa Ota , Eigo Kawakami , Takashi Nakamura , Kazuyuki Kasumi
IPC分类号： G03F7/20 , B29C43/02 , B81C99/00 , G03F7/00 , H01L21/027 , G02B1/12 , B29D11/00 , C08J7/04 , G03C5/00
CPC分类号： B29C43/021 , B29C43/003 , B29C43/04 , B29C43/14 , B29C2043/025 , B29C2043/142 , B29C2043/3634 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
摘要： A processing apparatus for transferring a relief pattern on a mold to a resist on a substrate through a compression of the mold against the resist, includes a supplier for supplying the resist between the substrate and the mold, and an illumination optical system for illuminating ultraviolet light onto the resist via the mold so as to cure the resist.
摘要翻译：一种处理装置，用于通过将模具压靠在抗蚀剂上将模具上的凸版图案转印到基板上的抗蚀剂上，包括用于在基板和模具之间供应抗蚀剂的供应商以及用于照射紫外线的照明光学系统通过模具到抗蚀剂上，以固化抗蚀剂。

19. 发明授权

US07846346B1 Processing apparatus and method 有权
标题翻译：处理装置和方法
公开(公告)号：US07846346B1
公开(公告)日：2010-12-07
申请号：US11531856
申请日：2006-09-14
申请人： Eigo Kawakami , Hirohisa Ota , Takashi Nakamura , Kazuyuki Kasumi , Toshinobu Tokita
发明人： Eigo Kawakami , Hirohisa Ota , Takashi Nakamura , Kazuyuki Kasumi , Toshinobu Tokita
IPC分类号： B44C1/22
CPC分类号： G03F7/0002 , B29C43/021 , B29C2043/025 , B82Y10/00 , B82Y40/00
摘要： A processing method for transferring a relief pattern of a mold to a resist includes the steps of compressing the mold having the relief pattern against the resist on a substrate, irradiating an exposure light onto the resist through the mold, vibrating the mold and the substrate relative to each other during the irradiating step, and releasing the mold from the resist.
摘要翻译：用于将模具的浮雕图案转印到抗蚀剂的处理方法包括以下步骤：将具有凹凸图案的模具压靠在基板上的抗蚀剂上，通过模具将曝光光照射到抗蚀剂上，使模具和基板相对振动在照射步骤期间彼此相对，并且从抗蚀剂中释放模具。

20. 发明授权

US07789647B2 Processing apparatus and method 有权
标题翻译：处理装置和方法
公开(公告)号：US07789647B2
公开(公告)日：2010-09-07
申请号：US11149046
申请日：2005-06-08
申请人： Eigo Kawakami , Hirohisa Ota , Takashi Nakamura , Kazuyuki Kasumi , Toshinobu Tokita
发明人： Eigo Kawakami , Hirohisa Ota , Takashi Nakamura , Kazuyuki Kasumi , Toshinobu Tokita
IPC分类号： B28B17/00 , B29C35/08 , B29C59/00
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
摘要： A processing apparatus for transferring a relief pattern on a mold to a resist on a substrate through a compression of the mold against the resist, and an irradiation of light for exposing the resist onto the resist includes a mold chuck for holding the mold and for compressing the mold against the resist, and a deformation reducing part for reducing a deformation of the mold when the mold chuck applies a compression force to the mold.
摘要翻译：一种处理装置，用于通过将模具压靠在抗蚀剂上将模具上的浮雕图案转印到基板上的抗蚀剂上，以及用于将抗蚀剂暴露于抗蚀剂上的光的照射包括用于保持模具并压缩的模具卡盘抵抗抗蚀剂的模具，以及用于当模具卡盘向模具施加压缩力时减小模具的变形的变形减小部件。

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