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1. 发明专利

TWI630367B 三維測量裝置有权
简体标题：三维测量设备
公开(公告)号：TWI630367B
公开(公告)日：2018-07-21
申请号：TW106117096
申请日：2017-05-24
申请人：日商CKD股份有限公司 , CKD CORPORATION
发明人：石垣裕之 , ISHIGAKI, HIROYUKI , 間宮隆弘 , MAMIYA, TAKAHIRO
IPC分类号： G01B11/24 , G01B9/023 , G01C1/14

2. 发明专利

TW201814243A 三維測量裝置审中-公开
简体标题：三维测量设备
公开(公告)号：TW201814243A
公开(公告)日：2018-04-16
申请号：TW106117096
申请日：2017-05-24
申请人： CKD股份有限公司 , CKD CORPORATION
发明人：石垣裕之 , ISHIGAKI, HIROYUKI , 間宮隆弘 , MAMIYA, TAKAHIRO
IPC分类号： G01B11/24 , G01B9/023 , G01C1/14
CPC分类号： G01B9/02 , G01B11/00
摘要：提供一種利用波長不同的光，可達成測量範圍的擴大，並達成測量效率的提升之三維測量裝置。三維測量裝置1具備有：偏光分光器20，將射入之預定的光分割成偏光方向彼此正交的兩道偏光，將其中一道偏光作為測量光照射到工件W，將另一道光作為參考光照射到參考面23，並且將該等光再度合成並射出；第1投光系統2A，令第1光射入該偏光分光器20的第1面20a；第2投光系統2B，令第2光射入偏光分光器20的第2面20b；第1攝像系統4A，可拍攝從偏光分光器20的第1面20a射出之上述第1光；及第2攝像系統4B，可拍攝從偏光分光器20的第2面20b射出之上述第2光。
简体摘要：提供一种利用波长不同的光，可达成测量范围的扩大，并达成测量效率的提升之三维测量设备。三维测量设备1具备有：偏光分光器20，将射入之预定的光分割成偏光方向彼此正交的两道偏光，将其中一道偏光作为测量光照射到工件W，将另一道光作为参考光照射到参考面23，并且将该等光再度合成并射出；第1投光系统2A，令第1光射入该偏光分光器20的第1面20a；第2投光系统2B，令第2光射入偏光分光器20的第2面20b；第1摄像系统4A，可拍摄从偏光分光器20的第1面20a射出之上述第1光；及第2摄像系统4B，可拍摄从偏光分光器20的第2面20b射出之上述第2光。

3. 发明专利

TW201350793A 表面重建、表面內外位移及應變分佈計算系統审中-公开
简体标题：表面重建、表面内外位移及应变分布计算系统
公开(公告)号：TW201350793A
公开(公告)日：2013-12-16
申请号：TW101120625
申请日：2012-06-08
申请人：財團法人國家實驗研究院 , NATIONAL APPLIED RESEARCH LABORATORIES
发明人：沈明興 , SHEN, MING HSING , 黃吉宏 , HUANG, CHI HUNG , 王偉中 , WANG, WEI CHUNG , 陳永祥 , CHEN, YUNG HSIANG
IPC分类号： G01B9/023
摘要：一種表面重建、表面內外位移及應變分佈計算系統，利用光開關元件切換參考光，分析測試物件形變前與形變後的影像，可量測測試物件的測試面表面、表面內外位移及表面二維應變分佈，並結合影像接合以增加測試物件的測試面量測範圍，即可降低測試物件掃描的複雜度與誤差，此量測系統不需移動影像擷取裝置或移動測試物件產生相對位移，達到三維座標及測試物件的測試面量測效果。
简体摘要：一种表面重建、表面内外位移及应变分布计算系统，利用光开关组件切换参考光，分析测试对象形变前与形变后的影像，可量测测试对象的测试面表面、表面内外位移及表面二维应变分布，并结合影像接合以增加测试对象的测试面量测范围，即可降低测试对象扫描的复杂度与误差，此量测系统不需移动影像截取设备或移动测试对象产生相对位移，达到三维座标及测试对象的测试面量测效果。

4. 发明专利

TW201823669A 表面形貌的量測方法审中-公开
简体标题：表面形貌的量测方法
公开(公告)号：TW201823669A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW105143024
申请日：2016-12-23
申请人：致茂電子股份有限公司 , CHROMA ATE INC.
发明人：張巍耀 , CHANG, WEI YAO , 楊蘭昇 , YANG, LAN SHENG , 翁義龍 , WENG, YI LUNG
IPC分类号： G01B11/25 , G01B9/023
摘要：一種表面形貌的量測方法包含(a)決定複數個投影畫素與複數個影像感測畫素之間於待測面上的對應關係。(b)利用投影畫素提供校正光至待測面。(c)決定至少一投影畫素於第一曝光時間的亮度調整幅度。投影畫素利用亮度調整幅度能夠讓影像感測畫素於待測面上感測到亮度實質均勻的校正光。(d)提供具亮度調整幅度的第一結構光至待測面以測量表面形貌。第一結構光係由投影畫素所產生，且投影畫素產生至少二幅不同的投影圖案以疊加成第一結構光。
简体摘要：一种表面形貌的量测方法包含(a)决定复数个投影像素与复数个影像传感像素之间于待测面上的对应关系。(b)利用投影像素提供校正光至待测面。(c)决定至少一投影像素于第一曝光时间的亮度调整幅度。投影像素利用亮度调整幅度能够让影像传感像素于待测面上传感到亮度实质均匀的校正光。(d)提供具亮度调整幅度的第一结构光至待测面以测量表面形貌。第一结构光系由投影像素所产生，且投影像素产生至少二幅不同的投影图案以叠加成第一结构光。

5. 发明专利

TWI622755B 表面形貌的量測方法有权
简体标题：表面形貌的量测方法
公开(公告)号：TWI622755B
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW105143024
申请日：2016-12-23
申请人：致茂電子股份有限公司 , CHROMA ATE INC.
发明人：張巍耀 , CHANG, WEI YAO , 楊蘭昇 , YANG, LAN SHENG , 翁義龍 , WENG, YI LUNG
IPC分类号： G01B11/25 , G01B9/023

6. 发明专利

TW201835556A 用於測量與確定工件的平面內畸變的測量系統、設備及方法，以及用於測量工件的目標表面的空間畸變的方法审中-公开
简体标题：用于测量与确定工件的平面内畸变的测量系统、设备及方法，以及用于测量工件的目标表面的空间畸变的方法
公开(公告)号：TW201835556A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW107106244
申请日：2018-02-23
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：史密斯丹尼爾 G. , SMITH, DANEL G. , 賓納德麥可 B. , BINNARD, MICHAEL B.
IPC分类号： G01N21/88 , G01B9/023 , G06T7/40
摘要：本發明是有關於一種用於測量工件（110A）的目標表面（110）的空間畸變的方法。使光兩次透射穿過參考圖案產生器（104）並射於工件圖案產生器（108）上。接著，利用光學偵測器（116）來獲取由所述光因與兩個圖案產生器（104）、（106）相互作用而形成的第一光束及第二光束，以生成訊號，所述訊號表徵由所述第一光束及所述第二光束在所述偵測器（116）處形成的干涉條紋的幾何形狀。產生並記錄表示所述目標表面（110）的空間畸變的類型及值中的至少一者的標記。本發明亦是有關於一種實施所述方法的實施方案的系統。
简体摘要：本发明是有关于一种用于测量工件（110A）的目标表面（110）的空间畸变的方法。使光两次透射穿过参考图案产生器（104）并射于工件图案产生器（108）上。接着，利用光学侦测器（116）来获取由所述光因与两个图案产生器（104）、（106）相互作用而形成的第一光束及第二光束，以生成信号，所述信号表征由所述第一光束及所述第二光束在所述侦测器（116）处形成的干涉条纹的几何形状。产生并记录表示所述目标表面（110）的空间畸变的类型及值中的至少一者的标记。本发明亦是有关于一种实施所述方法的实施方案的系统。

7. 发明专利

TWI438399B 表面重建、表面內外位移及應變分佈計算系統有权
简体标题：表面重建、表面内外位移及应变分布计算系统
公开(公告)号：TWI438399B
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：TW101120625
申请日：2012-06-08
申请人：財團法人國家實驗研究院 , NATIONAL APPLIED RESEARCH LABORATORIES
发明人：沈明興 , SHEN, MING HSING , 黃吉宏 , HUANG, CHI HUNG , 王偉中 , WANG, WEI CHUNG , 陳永祥 , CHEN, YUNG HSIANG
IPC分类号： G01B9/023

8. 发明专利

TWI407078B 微透鏡陣列表面輪廓檢測系統及其檢測方法有权
简体标题：微透镜数组表面轮廓检测系统及其检测方法
公开(公告)号：TWI407078B
公开(公告)日：2013-09-01
申请号：TW099118588
申请日：2010-06-08
申请人：國防部軍備局中山科學研究院 , CHUNG SHAN INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY, ARMAMENTS BUREAU, M. N. D
发明人：林宸生 , LIN, CHERN SHENG , 葉茂勳 , YEH, MAU SHIUN , 羅國豪 , LOH, GUO-HAO , 張勛愷 , CHANG, HSUN KAI , 傅書賢 , FU, SHU HSIEN
IPC分类号： G01B9/023 , G06T7/60

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