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1. 实用新型

TWM572423U 蒸發氣體再冷凝裝置及具備其的液化天然氣供給系統有权
简体标题：蒸发气体再冷凝设备及具备其的液化天然气供给系统
公开(公告)号：TWM572423U
公开(公告)日：2019-01-01
申请号：TW107207727
申请日：2018-06-08
申请人：法商液態空氣喬治斯克勞帝方法研究開發股份有限公司 , L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE
发明人：富田伸二 , TOMITA, SHINJI , 永田大祐 , NAGATA, DAISUKE , 廣瀬献児 , HIROSE, KENJI
IPC分类号： F17C7/04 , F17C9/04 , F17C13/02 , F17C13/04 , F17D1/04 , F17D1/08 , F25J1/00 , F25J3/04

2. 实用新型

TWM572422U 蒸發氣體再冷凝裝置及具備其的液化天然氣儲藏系統有权
简体标题：蒸发气体再冷凝设备及具备其的液化天然气储藏系统
公开(公告)号：TWM572422U
公开(公告)日：2019-01-01
申请号：TW107207726
申请日：2018-06-08
申请人：法商液態空氣喬治斯克勞帝方法研究開發股份有限公司 , L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE
发明人：富田伸二 , TOMITA, SHINJI , 廣瀬献児 , HIROSE, KENJI , 永田大祐 , NAGATA, DAISUKE
IPC分类号： F17C7/04 , F17C9/04 , F17C13/00 , F17D1/04 , F17D1/08 , F25J1/00 , F25J3/04

3. 发明专利

TWI614446B 用於提供均勻氣流之氣體分配設備與處理腔室有权
简体标题：用于提供均匀气流之气体分配设备与处理腔室
公开(公告)号：TWI614446B
公开(公告)日：2018-02-11
申请号：TW101138731
申请日：2012-10-19
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：尤都史凱約瑟夫 , YUDOVSKY, JOSEPH , 張鎂 , CHANG, MEI , 甘戈法如克 , GUNGOR, FARUK , 馬伯方 , MA, PAUL F. , 朱聿達 , CHU, DAVID , 高建德 , KAO, CHIEN-TEH , 林偉雄 , LAM, HYMAN , 吳典曄 , WU, DIEN YEH
IPC分类号： F17D1/04 , C23C16/455
CPC分类号： F17D3/00 , Y10T137/7833

4. 发明专利

TW201734355A 調整處理流程之方法审中-公开
简体标题：调整处理流程之方法
公开(公告)号：TW201734355A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW106107520
申请日：2017-03-08
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：廣瀬潤 , HIROSE, JUN , 網倉紀彥 , AMIKURA, NORIHIKO , 実吉梨沙子 , MIYOSHI, RISAKO
IPC分类号： F17D1/04
CPC分类号： F26B3/04 , H01J37/32192 , H01J37/3244 , H01J37/32449
摘要：本發明係提供一種用以將一流程配方用於複數個不同之氣體供給系統之技術。本發明係一種於將基板處理裝置中使用之流程配方適用於具備與基板處理裝置不同之構成之基板處理裝置，對被處理體進行處理之情形時調整處理流程之方法，且具備使用基板處理裝置之氣體供給系統及基板處理裝置之氣體供給系統之裝置資訊，以自流程配方之氣體處理步驟開始時起預先設定之時間或氣體處理步驟開始前之預先設定之時間，使氣體供給系統中之氣體之流量進行增減，調整處理流程之步驟，且該步驟係令使用流程配方之基板處理裝置之處理流程相容於使用流程配方之基板處理裝置之處理流程。
简体摘要：本发明系提供一种用以将一流程配方用于复数个不同之气体供给系统之技术。本发明系一种于将基板处理设备中使用之流程配方适用于具备与基板处理设备不同之构成之基板处理设备，对被处理体进行处理之情形时调整处理流程之方法，且具备使用基板处理设备之气体供给系统及基板处理设备之气体供给系统之设备信息，以自流程配方之气体处理步骤开始时起预先设置之时间或气体处理步骤开始前之预先设置之时间，使气体供给系统中之气体之流量进行增减，调整处理流程之步骤，且该步骤系令使用流程配方之基板处理设备之处理流程兼容于使用流程配方之基板处理设备之处理流程。

5. 发明专利

TWI563201B 廢氣處理管路、製程設備及其氣流導引方法有权
简体标题：废气处理管路、制程设备及其气流导引方法
公开(公告)号：TWI563201B
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：TW101129053
申请日：2012-08-10
申请人：聯華電子股份有限公司 , UNITED MICROELECTRONICS CORP.
发明人：許晉銘 , HSU, CHIN MING , 黃冠評 , HUANG, GUAN PING
IPC分类号： F17D1/04

6. 发明专利

TWI498502B 滑鎖氣體輸送系統有权
简体标题：滑锁气体输送系统
公开(公告)号：TWI498502B
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW099137037
申请日：2010-10-28
申请人：派克漢尼汾公司 , PARKER HANNIFIN CORPORATION
发明人：摩根丹尼爾P , MORGAN, DANIEL P.
IPC分类号： F17D1/04 , F17D1/06 , H01L21/302
CPC分类号： F16K27/003 , Y10T137/598 , Y10T137/85938 , Y10T137/87885

7. 发明专利

TWI460371B 短蝕刻配方用之氣體輸送延遲解決方案有权
简体标题：短蚀刻配方用之气体输送延迟解决方案
公开(公告)号：TWI460371B
公开(公告)日：2014-11-11
申请号：TW097151017
申请日：2008-12-26
申请人：蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：沙瑞夫艾克柏 , SHAREEF, IQBAL , 塔斯卡馬克 , TASKAR, MARK , 撒姆拉客湯尼 , ZEMLOCK, TONY
IPC分类号： F17D1/04 , G05D7/00 , G05D7/06 , H01L21/3065
CPC分类号： H01L21/67069 , H01L21/67253 , Y10T137/0318 , Y10T137/877 , Y10T137/87885

8. 发明专利

TWI383279B 流體控制裝置失效
简体标题：流体控制设备
公开(公告)号：TWI383279B
公开(公告)日：2013-01-21
申请号：TW094131763
申请日：2005-09-15
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：篠原努 , SHINOHARA, TSUTOMU , 山路道雄 , YAMAJI, MICHIO , 田中林明 , TANAKA, SHIGEAKI , 小艾睦典 , KOYOMOGI, MUTSUNORI , 峰一郎 , MINE, ICHIRO , 德田伊知郎 , TOKUDA, ICHIRO , 坪田憲士 , TSUBOTA, KENJI
IPC分类号： G05D7/00 , F17D1/04
CPC分类号： F16K27/003 , Y10T137/85938 , Y10T137/87885

9. 发明专利

TW201300672A 閥箱模組审中-公开
简体标题：阀箱模块
公开(公告)号：TW201300672A
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：TW100121607
申请日：2011-06-21
申请人：友達光電股份有限公司 , AU OPTRONICS CORP.
发明人：石明弘 , SHIH, MING HUNG , 張偉卿 , CHANG, WEI CHING , 江岱叡 , CHIANG, TAI JUI
IPC分类号： F17D3/01 , F17D1/04
摘要：一種閥箱模組包含一第一氣體輸入管線、至少一第一氣體輸出管線及至少一第二氣體管線組。該第一氣體輸出管線連通於該第一氣體輸入管線，用來輸出經由該第一氣體輸入管線所輸入之一第一氣體。該第二氣體管線組連通於該第一氣體輸出管線，包含至少一第二氣體輸出管線、一氣體阻斷閥裝置及一第二氣體輸入管線。該第二氣體輸出管線用來輸出該第一氣體或一第二氣體。該氣體阻斷閥裝置設置於該第二氣體輸出管線上，用來選擇性地阻斷該第一及第二氣體輸出管線之間的連通。該第二氣體輸入管線用來輸入該第二氣體至該第二氣體輸出管線。
简体摘要：一种阀箱模块包含一第一气体输入管线、至少一第一气体输出管线及至少一第二气体管线组。该第一气体输出管线连通于该第一气体输入管线，用来输出经由该第一气体输入管线所输入之一第一气体。该第二气体管线组连通于该第一气体输出管线，包含至少一第二气体输出管线、一气体阻断阀设备及一第二气体输入管线。该第二气体输出管线用来输出该第一气体或一第二气体。该气体阻断阀设备设置于该第二气体输出管在线，用来选择性地阻断该第一及第二气体输出管线之间的连通。该第二气体输入管线用来输入该第二气体至该第二气体输出管线。

10. 实用新型

TWM570917U 用於提供均勻氣流之氣體分配設備與處理腔室有权
简体标题：用于提供均匀气流之气体分配设备与处理腔室
公开(公告)号：TWM570917U
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107204715
申请日：2012-10-19
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：尤都史凱約瑟夫 , YUDOVSKY,JOSEPH , 張鎂 , CHANG,MEI , 甘戈法如克 , GUNGOR,FARUK , 馬伯方 , MA,PAUL F. , 朱聿達 , CHU,DAVID , 高建德 , KAO,CHIEN-TEH , 林偉雄 , LAM,HYMAN , 吳典曄 , WU,DIEN-YEH
IPC分类号： F17D1/04 , C23C16/455

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