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1. 发明专利

TW201804111A 用於提供均勻氣流之氣體分配設備與處理腔室审中-公开
简体标题：用于提供均匀气流之气体分配设备与处理腔室
公开(公告)号：TW201804111A
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW106126029
申请日：2012-10-19
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：尤都史凱約瑟夫 , YUDOVSKY,JOSEPH , 張鎂 , CHANG,MEI , 甘戈法如克 , GUNGOR,FARUK , 馬伯方 , MA,PAUL F. , 朱聿達 , CHU,DAVID , 高建德 , KAO,CHIEN-TEH , 林偉雄 , LAM,HYMAN , 吳典曄 , WU,DIEN-YEH
IPC分类号： F17D1/04 , C23C16/455
CPC分类号： F17D3/00 , Y10T137/7833
摘要：提供了一種具有輸送通道的氣體分配設備，其中輸送通道具有一入口端、一出口端與沿著長度而分隔之複數個縫隙。入口端係可連接至一惰性氣體源，且出口端係可連接於一真空源。同時提供了一種具有螺旋輸送通道、互相纏繞之螺旋輸送通道、分流之輸送通道、匯合之輸送通道、以及成形之輸送通道的氣體分配設備，其中入口端與出口端係配置以使氣體在輸送通道內快速交換。
简体摘要：提供了一种具有输送信道的气体分配设备，其中输送信道具有一入口端、一出口端与沿着长度而分隔之复数个缝隙。入口端系可连接至一惰性气体源，且出口端系可连接于一真空源。同时提供了一种具有螺旋输送信道、互相缠绕之螺旋输送信道、分流之输送信道、汇合之输送信道、以及成形之输送信道的气体分配设备，其中入口端与出口端系配置以使气体在输送信道内快速交换。

2. 发明专利

TW201326632A 用於提供均勻氣流之設備與方法审中-公开
简体标题：用于提供均匀气流之设备与方法
公开(公告)号：TW201326632A
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW101138731
申请日：2012-10-19
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：尤都史凱約瑟夫 , YUDOVSKY, JOSEPH , 張鎂 , CHANG, MEI , 甘戈法如克 , GUNGOR, FARUK , 馬伯方 , MA, PAUL F. , 朱聿達 , CHU, DAVID , 高建德 , KAO, CHIEN-TEH , 林偉雄 , LAM, HYMAN , 吳典曄 , WU, DIEN YEH
IPC分类号： F17D1/04 , C23C16/455
CPC分类号： F17D3/00 , Y10T137/7833
摘要：提供了一種具有輸送通道的氣體分配設備，其中輸送通道具有一入口端、一出口端與沿著長度而分隔之複數個縫隙。入口端係可連接至一惰性氣體源，且出口端係可連接於一真空源。同時提供了一種具有螺旋輸送通道、互相纏繞之螺旋輸送通道、分流之輸送通道、匯合之輸送通道、以及成形之輸送通道的氣體分配設備，其中入口端與出口端係配置以使氣體在輸送通道內快速交換。
简体摘要：提供了一种具有输送信道的气体分配设备，其中输送信道具有一入口端、一出口端与沿着长度而分隔之复数个缝隙。入口端系可连接至一惰性气体源，且出口端系可连接于一真空源。同时提供了一种具有螺旋输送信道、互相缠绕之螺旋输送信道、分流之输送信道、汇合之输送信道、以及成形之输送信道的气体分配设备，其中入口端与出口端系配置以使气体在输送信道内快速交换。

3. 发明专利

TWI614446B 用於提供均勻氣流之氣體分配設備與處理腔室有权
简体标题：用于提供均匀气流之气体分配设备与处理腔室
公开(公告)号：TWI614446B
公开(公告)日：2018-02-11
申请号：TW101138731
申请日：2012-10-19
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：尤都史凱約瑟夫 , YUDOVSKY, JOSEPH , 張鎂 , CHANG, MEI , 甘戈法如克 , GUNGOR, FARUK , 馬伯方 , MA, PAUL F. , 朱聿達 , CHU, DAVID , 高建德 , KAO, CHIEN-TEH , 林偉雄 , LAM, HYMAN , 吳典曄 , WU, DIEN YEH
IPC分类号： F17D1/04 , C23C16/455
CPC分类号： F17D3/00 , Y10T137/7833

4. 发明专利

TW201111046A 噴霧供應裝置及搭配其使用之壓力調節器裝置 AEROSOL SUPPLY DEVICE AND PRESSURE REGULATOR APPARATUS USED THEREWITH 审中-公开
简体标题：喷雾供应设备及搭配其使用之压力调节器设备 AEROSOL SUPPLY DEVICE AND PRESSURE REGULATOR APPARATUS USED THEREWITH
公开(公告)号：TW201111046A
公开(公告)日：2011-04-01
申请号：TW099127280
申请日：2010-08-16
申请人：惠普研發公司
发明人：海尼斯保羅M , 戴芙瑞斯馬克A , 安德羅南 , 馬利克科瑞格
IPC分类号： B05B , B41J , F16K
CPC分类号： G05D16/0619 , Y10T137/3631 , Y10T137/7808 , Y10T137/7833 , Y10T137/7834 , Y10T137/7904
摘要：一種噴霧供應裝置，可與一容納有流體的噴霧供應裝置搭配使用，該壓力調節裝置包含一可膨脹橫膈單元，包括一上表面元件、一下表面元件以及一形成於該上表面元件與該下表面元件之間的橫隔室；一輸出口元件，具有一輸出凹穴以及一輸出口，該輸出口元件的至少一部分設置於該橫隔室內並且與該橫隔室相流通；一閥致動件，包括一致動件凹穴以及一或更多與該輸出口相流通的致動件開口，該閥致動件的至少一部分可移動的設置於該輸出凹穴內；一輸入口元件，具有一組構來容許該流體進入該致動件凹穴的輸入口，該輸入口元件的至少一部分設置鄰近該致動件凹穴；以及一軸向流道，延伸於該輸入口與該輸出口之間並且組構來容許該流體選擇性於一實質軸向的方向經此通過；其中，該閥致動件基於該可膨脹橫膈單元的一膨脹狀態位移而關閉與開啟該輸入口，以調節被由該可膨脹橫膈單元輸送的一流體的壓力實質固定。
简体摘要：一种喷雾供应设备，可与一容纳有流体的喷雾供应设备搭配使用，该压力调节设备包含一可膨胀横膈单元，包括一上表面组件、一下表面组件以及一形成于该上表面组件与该下表面组件之间的横隔室；一输出口组件，具有一输出凹穴以及一输出口，该输出口组件的至少一部分设置于该横隔室内并且与该横隔室相流通；一阀致动件，包括一致动件凹穴以及一或更多与该输出口相流通的致动件开口，该阀致动件的至少一部分可移动的设置于该输出凹穴内；一输入口组件，具有一组构来容许该流体进入该致动件凹穴的输入口，该输入口组件的至少一部分设置邻近该致动件凹穴；以及一轴向流道，延伸于该输入口与该输出口之间并且组构来容许该流体选择性于一实质轴向的方向经此通过；其中，该阀致动件基于该可膨胀横膈单元的一膨胀状态位移而关闭与打开该输入口，以调节被由该可膨胀横膈单元输送的一流体的压力实质固定。

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