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    • 8. 发明专利
    • 對過氧化氫水溶液之保護膜形成組成物
    • 对过氧化氢水溶液之保护膜形成组成物
    • TW201906921A
    • 2019-02-16
    • TW107113446
    • 2018-04-20
    • 日商日產化學工業股份有限公司NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
    • 德永光TOKUNAGA, HIKARU橋本雄人HASHIMOTO, YUTO橋本圭祐HASHIMOTO, KEISUKE坂本力丸SAKAMOTO, RIKIMARU
    • C08L61/20C08G12/08C08L61/34C08G14/06C08L79/02C08G73/02C08L67/00C08G63/688C08L33/06C08L33/14C08F220/18C08F220/28C08F220/32C08K5/13C08K5/21C08K5/42G03F7/11G03F7/16H01L21/027
    • 提供一種對過氧化氫水溶液之保護膜形成組成物。   本發明之對過氧化氫水溶液之保護膜形成組成物,其包含樹脂、下述式(1a)、式(1b)或式(1c)所表示之化合物、交聯劑、交聯觸媒及溶劑,相對於前述樹脂,含有上限為80質量%的前述式(1a)、式(1b)或式(1c)所表示之化合物,並含有5質量%至40質量%的前述交聯劑。(式中,X為表示羰基或亞甲基,l及m為分別獨立表示滿足3≦l+m≦10之關係式之0至5之整數,n為表示2至5之整數,u及v為分別獨立表示滿足3≦u+v≦8之關係式之0至4之整數,R1、R2、R3及R4為分別獨立表示氫原子、羥基、可具有至少1個作為取代基之羥基且可於主鏈具有至少1個雙鍵之碳原子數1至10之烴基、或可具有至少1個作為取代基之羥基之碳原子數6至20之芳基,若R1、R2、R3及R4為表示該碳原子數1至10之烴基時,R1及R2、R3及R4可與該等所鍵結的環碳原子一起來形成苯環,該苯環可具有至少1個作為取代基之羥基,j及k為分別獨立表示0或1)。
    • 提供一种对过氧化氢水溶液之保护膜形成组成物。   本发明之对过氧化氢水溶液之保护膜形成组成物,其包含树脂、下述式(1a)、式(1b)或式(1c)所表示之化合物、交联剂、交联触媒及溶剂,相对于前述树脂,含有上限为80质量%的前述式(1a)、式(1b)或式(1c)所表示之化合物,并含有5质量%至40质量%的前述交联剂。(式中,X为表示羰基或亚甲基,l及m为分别独立表示满足3≦l+m≦10之关系式之0至5之整数,n为表示2至5之整数,u及v为分别独立表示满足3≦u+v≦8之关系式之0至4之整数,R1、R2、R3及R4为分别独立表示氢原子、羟基、可具有至少1个作为取代基之羟基且可于主链具有至少1个双键之碳原子数1至10之烃基、或可具有至少1个作为取代基之羟基之碳原子数6至20之芳基,若R1、R2、R3及R4为表示该碳原子数1至10之烃基时,R1及R2、R3及R4可与该等所键结的环碳原子一起来形成苯环,该苯环可具有至少1个作为取代基之羟基,j及k为分别独立表示0或1)。