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1. 发明专利

TWI385208B 包含苯幷噁嗪及促進樹脂之組合物有权
简体标题：包含苯并恶嗪及促进树脂之组合物
公开(公告)号：TWI385208B
公开(公告)日：2013-02-11
申请号：TW095111629
申请日：2006-03-31
申请人：亨斯邁先進材料(瑞士)有限公司 , HUNTSMAN ADVANCED MATERIALS (SWITZERLAND) GMBH
发明人：崔大倫 , TSUEI, DAVE
IPC分类号： C08L61/20 , C08G14/06 , H05K3/46
CPC分类号： C08L63/00 , C08G59/184 , C08K5/56 , C08L79/04 , H05K1/0373 , H05K2201/012 , H05K2201/0209 , H05K2203/121 , H05K2203/124 , C08L2666/22

2. 发明专利

TW201326512A 一種具備耐水性質之機能性複合薄膜羽絨加工方法及其生產之物品审中-公开
简体标题：一种具备耐水性质之机能性复合薄膜羽绒加工方法及其生产之物品
公开(公告)号：TW201326512A
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW100149041
申请日：2011-12-28
申请人：光隆實業股份有限公司 , KWONG LUNG ENTERPRISE CO., LTD.
发明人：張軒國 , CHANG, HSUAN KUO
IPC分类号： D06M19/00 , B05D1/12 , C08J5/18 , C08K3/04 , C08K11/00 , C08L75/04 , C08L61/20
摘要：一種具備耐水性質之機能性複合薄膜羽絨之製造方法及其生產之物品，係利用乾燥槽加裝一噴塗加工設備以提供複合藥劑藉由此裝置噴塗在羽絨表面。此複合藥劑包含機能性顆粒、水性樹脂、異氰酸酯。此製造方法生產出之羽絨具有機能性以及耐水性質。
简体摘要：一种具备耐水性质之机能性复合薄膜羽绒之制造方法及其生产之物品，系利用干燥槽加装一喷涂加工设备以提供复合药剂借由此设备喷涂在羽绒表面。此复合药剂包含机能性颗粒、水性树脂、异氰酸酯。此制造方法生产出之羽绒具有机能性以及耐水性质。

3. 发明专利

TW201920446A 有機膜形成用組成物、半導體裝置製造用基板、有機膜之形成方法、圖案形成方法及聚合物审中-公开
简体标题：有机膜形成用组成物、半导体设备制造用基板、有机膜之形成方法、图案形成方法及聚合物
公开(公告)号：TW201920446A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107129711
申请日：2018-08-27
申请人：日商信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：郡大佑 , KORI, DAISUKE , 荻原勤 , OGIHARA, TSUTOMU , 渡邊武 , WATANABE, TAKERU , 新井田惠介 , NIIDA, KEISUKE , 澤村昂志 , SAWAMURA, TAKASHI
IPC分类号： C08L61/20 , C08L61/22 , C08L61/26 , C08G12/00 , C08G12/08 , C08G12/26 , G03F7/11 , H01L21/027
摘要：本發明提供一種有機膜形成用組成物，即使在為了防止基板腐蝕之鈍性氣體中之成膜條件仍不產生副產物，可形成不只在基板上形成之圖案之填埋、平坦化特性優異，而且在基板加工時之乾蝕刻耐性亦為良好的有機膜，且即使是在該有機膜上形成CVD硬遮罩時，也不會因熱分解導致該膜膜厚變動。一種有機膜形成用組成物，含有：(A)具下列通式(1)表示之重複單元之聚合物及(B)有機溶劑。
简体摘要：本发明提供一种有机膜形成用组成物，即使在为了防止基板腐蚀之钝性气体中之成膜条件仍不产生副产物，可形成不只在基板上形成之图案之填埋、平坦化特性优异，而且在基板加工时之干蚀刻耐性亦为良好的有机膜，且即使是在该有机膜上形成CVD硬遮罩时，也不会因热分解导致该膜膜厚变动。一种有机膜形成用组成物，含有：(A)具下列通式(1)表示之重复单元之聚合物及(B)有机溶剂。

4. 发明专利

TWI675880B 有機膜形成用組成物、半導體裝置製造用基板、有機膜之形成方法、圖案形成方法及聚合物有权
简体标题：有机膜形成用组成物、半导体设备制造用基板、有机膜之形成方法、图案形成方法及聚合物
公开(公告)号：TWI675880B
公开(公告)日：2019-11-01
申请号：TW107129711
申请日：2018-08-27
申请人：日商信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：郡大佑 , KORI, DAISUKE , 荻原勤 , OGIHARA, TSUTOMU , 渡邊武 , WATANABE, TAKERU , 新井田惠介 , NIIDA, KEISUKE , 澤村昂志 , SAWAMURA, TAKASHI
IPC分类号： C08L61/20 , C08L61/22 , C08L61/26 , C08G12/00 , C08G12/08 , C08G12/26 , G03F7/11 , H01L21/027

5. 发明专利

TW201906921A 對過氧化氫水溶液之保護膜形成組成物审中-公开
简体标题：对过氧化氢水溶液之保护膜形成组成物
公开(公告)号：TW201906921A
公开(公告)日：2019-02-16
申请号：TW107113446
申请日：2018-04-20
申请人：日商日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：德永光 , TOKUNAGA, HIKARU , 橋本雄人 , HASHIMOTO, YUTO , 橋本圭祐 , HASHIMOTO, KEISUKE , 坂本力丸 , SAKAMOTO, RIKIMARU
IPC分类号： C08L61/20 , C08G12/08 , C08L61/34 , C08G14/06 , C08L79/02 , C08G73/02 , C08L67/00 , C08G63/688 , C08L33/06 , C08L33/14 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/32 , C08K5/13 , C08K5/21 , C08K5/42 , G03F7/11 , G03F7/16 , H01L21/027
摘要：提供一種對過氧化氫水溶液之保護膜形成組成物。　　本發明之對過氧化氫水溶液之保護膜形成組成物，其包含樹脂、下述式(1a)、式(1b)或式(1c)所表示之化合物、交聯劑、交聯觸媒及溶劑，相對於前述樹脂，含有上限為80質量%的前述式(1a)、式(1b)或式(1c)所表示之化合物，並含有5質量%至40質量%的前述交聯劑。(式中，X為表示羰基或亞甲基，l及m為分別獨立表示滿足3≦l+m≦10之關係式之0至5之整數，n為表示2至5之整數，u及v為分別獨立表示滿足3≦u+v≦8之關係式之0至4之整數，R1、R2、R3及R4為分別獨立表示氫原子、羥基、可具有至少1個作為取代基之羥基且可於主鏈具有至少1個雙鍵之碳原子數1至10之烴基、或可具有至少1個作為取代基之羥基之碳原子數6至20之芳基，若R1、R2、R3及R4為表示該碳原子數1至10之烴基時，R1及R2、R3及R4可與該等所鍵結的環碳原子一起來形成苯環，該苯環可具有至少1個作為取代基之羥基，j及k為分別獨立表示0或1)。
简体摘要：提供一种对过氧化氢水溶液之保护膜形成组成物。　　本发明之对过氧化氢水溶液之保护膜形成组成物，其包含树脂、下述式(1a)、式(1b)或式(1c)所表示之化合物、交联剂、交联触媒及溶剂，相对于前述树脂，含有上限为80质量%的前述式(1a)、式(1b)或式(1c)所表示之化合物，并含有5质量%至40质量%的前述交联剂。(式中，X为表示羰基或亚甲基，l及m为分别独立表示满足3≦l+m≦10之关系式之0至5之整数，n为表示2至5之整数，u及v为分别独立表示满足3≦u+v≦8之关系式之0至4之整数，R1、R2、R3及R4为分别独立表示氢原子、羟基、可具有至少1个作为取代基之羟基且可于主链具有至少1个双键之碳原子数1至10之烃基、或可具有至少1个作为取代基之羟基之碳原子数6至20之芳基，若R1、R2、R3及R4为表示该碳原子数1至10之烃基时，R1及R2、R3及R4可与该等所键结的环碳原子一起来形成苯环，该苯环可具有至少1个作为取代基之羟基，j及k为分别独立表示0或1)。

6. 发明专利

TW201906885A 使用茀化合物之阻劑下層膜形成組成物审中-公开
简体标题：使用茀化合物之阻剂下层膜形成组成物
公开(公告)号：TW201906885A
公开(公告)日：2019-02-16
申请号：TW107113447
申请日：2018-04-20
申请人：日商日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：德永光 , TOKUNAGA, HIKARU , 橋本圭祐 , HASHIMOTO, KEISUKE , 坂本力丸 , SAKAMOTO, RIKIMARU
IPC分类号： C08G12/00 , C08G12/26 , C08L61/20 , C08L61/26 , C08G61/12 , C08L65/00 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/40 , H01L21/027
摘要：本發明係提供兼具高蝕刻耐性、高耐熱性與良好塗佈性的阻劑下層膜形成組成物，使用該阻劑下層膜形成組成物之阻劑下層膜及其製造方法、阻劑圖型之形成方法、及半導體裝置之製造方法。　　本發明之阻劑下層膜形成組成物，其特徵係包含　　下述式(1) [式(1)中，表示單鍵或雙鍵，X1表示-N(R1)-、X2表示-N(R2)-、X3表示-CH(R3)-、X4表示-CH(R4)-等，R1、R2、R3及R4表示氫原子、C1~20之直鏈、支鏈或環狀之烷基等，R5、R6、R9及R10表示氫原子、羥基、烷基等，R7及R8表示苯環或萘環，n及o為0或1]表示之化合物或式(1)表示之化合物所衍生之聚合物。將該組成物塗佈於半導體基板上，進行燒成形成阻劑下層膜，其上任意選擇經由無機阻劑下層膜，形成阻劑膜，藉由光或電子束之照射與顯影，形成阻劑圖型，以阻劑圖型蝕刻下層膜，藉由圖型化後之下層膜，對半導體基板進行加工製造半導體裝置。
简体摘要：本发明系提供兼具高蚀刻耐性、高耐热性与良好涂布性的阻剂下层膜形成组成物，使用该阻剂下层膜形成组成物之阻剂下层膜及其制造方法、阻剂图型之形成方法、及半导体设备之制造方法。　　本发明之阻剂下层膜形成组成物，其特征系包含　　下述式(1) [式(1)中，表示单键或双键，X1表示-N(R1)-、X2表示-N(R2)-、X3表示-CH(R3)-、X4表示-CH(R4)-等，R1、R2、R3及R4表示氢原子、C1~20之直链、支链或环状之烷基等，R5、R6、R9及R10表示氢原子、羟基、烷基等，R7及R8表示苯环或萘环，n及o为0或1]表示之化合物或式(1)表示之化合物所衍生之聚合物。将该组成物涂布于半导体基板上，进行烧成形成阻剂下层膜，其上任意选择经由无机阻剂下层膜，形成阻剂膜，借由光或电子束之照射与显影，形成阻剂图型，以阻剂图型蚀刻下层膜，借由图型化后之下层膜，对半导体基板进行加工制造半导体设备。

7. 发明专利

TWI582155B 在調合期間減少橡膠混合物黏度的方法有权
简体标题：在调合期间减少橡胶混合物黏度的方法
公开(公告)号：TWI582155B
公开(公告)日：2017-05-11
申请号：TW102114790
申请日：2013-04-25
申请人：湛新德國有限公司 , ALLNEX GERMANY GMBH
发明人：舒爾法羅夫 , SCHAEFER, RALPH
IPC分类号： C08L21/00 , C08L61/20
CPC分类号： C08L7/00 , B60C1/00 , C08J3/203 , C08J2307/00 , C08J2461/22 , C08K5/205 , C08L2205/03 , C08L21/00

8. 发明专利

TWI500661B 用於橡膠製品之黏著促進系統有权
简体标题：用于橡胶制品之黏着促进系统
公开(公告)号：TWI500661B
公开(公告)日：2015-09-21
申请号：TW099116157
申请日：2010-05-20
申请人：湛新德國有限公司 , ALLNEX GERMANY GMBH
发明人：薛芙瑞夫 , SCHAEFER, RALPH , 席格勒彼德 , ZIEGLER, PETER
IPC分类号： C08G8/04 , C08G12/20 , C08L61/04 , C08L61/20 , C08L21/00 , C08J3/24
CPC分类号： C08L61/06 , C08G8/10 , C08G8/20 , C08L61/12 , C08L61/20 , C08L61/04 , C08L2666/14

9. 发明专利

TWI481760B 機能性羽絨加工方法有权
简体标题：机能性羽绒加工方法
公开(公告)号：TWI481760B
公开(公告)日：2015-04-21
申请号：TW100149041
申请日：2011-12-28
申请人：光隆實業股份有限公司 , KWONG LUNG ENTERPRISE CO., LTD.
发明人：張軒國 , CHANG, HSUAN KUO
IPC分类号： D06M19/00 , B05D1/12 , C08J5/18 , C08K3/04 , C08K11/00 , C08L75/04 , C08L61/20

10. 发明专利

TW201402677A 橡膠組成物审中-公开
简体标题：橡胶组成物
公开(公告)号：TW201402677A
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：TW102114790
申请日：2013-04-25
申请人：氰特表面處理專業德國股份有限公司 , CYTEC SURFACE SPECIALTIES GERMANY GMBH
发明人：舒爾法羅夫 , SCHAEFER, RALPH
IPC分类号： C08L21/00 , C08L61/20
CPC分类号： C08L7/00 , B60C1/00 , C08J3/203 , C08J2307/00 , C08J2461/22 , C08K5/205 , C08L2205/03 , C08L21/00
摘要：本發明係關於一種橡膠組成物，其包含橡膠及加工添加物，其中該加工添加物係在分子中具有至少一個官能基的官能反應性稀釋劑，其中該官能基不為烯烴不飽和；關於一種化合此橡膠組成物的方法；及關於其用途。
简体摘要：本发明系关于一种橡胶组成物，其包含橡胶及加工添加物，其中该加工添加物系在分子中具有至少一个官能基的官能反应性稀释剂，其中该官能基不为烯烃不饱和；关于一种化合此橡胶组成物的方法；及关于其用途。

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