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1. 发明专利

TWI693248B 偏光膜之製造方法、偏光膜及偏光板有权
简体标题：偏光膜之制造方法、偏光膜及偏光板
公开(公告)号：TWI693248B
公开(公告)日：2020-05-11
申请号：TW105125233
申请日：2016-08-09
申请人：日商三菱化學股份有限公司 , MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION
发明人：枝澤敏行 , EDAZAWA, TOSHIYUKI , 早川誠一郎 , HAYAKAWA, SEIICHIROU
IPC分类号： C08J5/18 , C08J7/00 , C08L29/04 , B29B13/00 , B29C55/06 , G02B1/04 , B32B27/30 , G02B5/30 , B29K29/00 , B29L7/00 , B29L11/00

2. 发明专利

TW202007388A 聚合物－膠原蛋白複合膜及其製造方法审中-公开
简体标题：聚合物－胶原蛋白复合膜及其制造方法
公开(公告)号：TW202007388A
公开(公告)日：2020-02-16
申请号：TW107147874
申请日：2018-12-28
申请人：台鉅生技股份有限公司 , TAIR JIUH ENTERPRISE CO., LTD.
发明人：陳柏翰 , CHEN, PO HAN , 陳一銘 , CHEN, I MING , 陳東亮 , CHEN, TUNG LIANG
IPC分类号： A61K8/02 , A61K8/65 , A61K8/87 , A61Q19/00 , A45D44/22 , C08J7/00 , C08J7/12
摘要：本發明提供一種聚合物-膠原蛋白複合膜及其製造方法。在此方法中，以電漿處理聚合物基材的表面，並使膠原蛋白接枝於上述處理後的表面，從而獲得聚合物-膠原蛋白複合膜。此複合膜具有良好的親水性和生物相容性。
简体摘要：本发明提供一种聚合物-胶原蛋白复合膜及其制造方法。在此方法中，以等离子处理聚合物基材的表面，并使胶原蛋白接枝于上述处理后的表面，从而获得聚合物-胶原蛋白复合膜。此复合膜具有良好的亲水性和生物兼容性。

3. 发明专利

TWI682951B 應用電漿表面改質處理製備具親水官能基之隱形眼鏡製造方法有权
简体标题：应用等离子表面改质处理制备具亲水官能基之隐形眼镜制造方法
公开(公告)号：TWI682951B
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：TW107103668
申请日：2018-02-01
申请人：亨泰光學股份有限公司
发明人：林文賓 , LIN, WEN PIN , 詹秉睿 , CHAN, PING JUI
IPC分类号： C08J7/00 , C08J7/16 , G02C7/04 , G02B1/00

4. 发明专利

TWI667272B 蝕刻裝置、基板處理裝置、蝕刻方法及基板處理方法有权
简体标题：蚀刻设备、基板处理设备、蚀刻方法及基板处理方法
公开(公告)号：TWI667272B
公开(公告)日：2019-08-01
申请号：TW106130754
申请日：2017-09-08
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：春本将彦 , HARUMOTO, MASAHIKO , 金山幸司 , KANEYAMA, KOJI , 田中裕二 , TANAKA, YUJI , 浅井正也 , ASAI, MASAYA
IPC分类号： C08J7/00 , C08L53/00 , G03F7/16 , H01L21/027

5. 发明专利

TW201910401A 表面改質裝置审中-公开
简体标题：表面改质设备
公开(公告)号：TW201910401A
公开(公告)日：2019-03-16
申请号：TW107125963
申请日：2018-07-27
申请人：日商春日電機股份有限公司 , KASUGA DENKI, INC.
发明人：小木曾智 , 森下貴生 , 櫻井行平 , 吉田純也 , 杉村智
IPC分类号： C08J7/00 , H01T19/00
摘要：本發明涉及一種表面改質裝置，其利用電暈恒壓放電在處理基體之表面進行改質處理。自放電電極直接放出氣體，在減少置換氣體之供給量的同時使氣壓分佈均等，使等離子體穩定生成。電極室C內之放電電極E由多個電極構件8、9組成。此外，此多個電極構件8、9夾持支撐構件4相對配置，同時在此多個電極構件8、9之相對部分處形成縫隙，將該縫隙作為氣體通道15，於放電電極之前端開放。繼而，藉由排泄孔供給於上述氣體通道15處自歧管管道3供給之置換氣體。
简体摘要：本发明涉及一种表面改质设备，其利用电晕恒压放电在处理基体之表面进行改质处理。自放电电极直接放出气体，在减少置换气体之供给量的同时使气压分布均等，使等离子体稳定生成。电极室C内之放电电极E由多个电极构件8、9组成。此外，此多个电极构件8、9夹持支撑构件4相对配置，同时在此多个电极构件8、9之相对部分处形成缝隙，将该缝隙作为气体信道15，于放电电极之前端开放。继而，借由排泄孔供给于上述气体信道15处自歧管管道3供给之置换气体。

6. 发明专利

TW201907189A 偏光膜的製造方法及製造裝置审中-公开
简体标题：偏光膜的制造方法及制造设备
公开(公告)号：TW201907189A
公开(公告)日：2019-02-16
申请号：TW107122088
申请日：2018-06-27
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：武藤清 , MUTO, KIYOSHI , 住田幸司 , SUMIDA, KOJI , 趙天熙 , JO, CHEON HEE , 崔允碩 , CHOI, YOONSEOK
IPC分类号： G02B5/30 , G02F1/1335 , C08J5/18 , C08J7/00 , B32B27/30
摘要：本發明之課題在於提供一種即使暴露於高溫環境下亦不易收縮，且具有優異光學特性之偏光膜的製造方法及製造裝置。本發明之解決手段為一種偏光膜的製造方法，其係包含：以雙色性色素對聚乙烯醇系樹脂膜進行染色處理之染色工序，將前述染色工序後的前述聚乙烯醇系樹脂膜依序浸漬在n個(n為2以上的整數)交聯浴以進行交聯處理之交聯工序，以及對於浸漬於配置在從上游側朝下游側之第x號(x為n以下的整數)之第x交聯浴後拉出之前述聚乙烯醇系樹脂膜，照射超過2μm且為4μm以下之波長的紅外線之放射能量的比率為全放射能量的25%以上之電磁波之電磁波照射工序；各交聯浴是由硼化合物的濃度為0.5質量%以上之溶液所構成，配置在從上游側朝下游側之第n號之第n交聯浴是由前述硼化合物的濃度為2.4質量%以下之溶液所構成。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种即使暴露于高温环境下亦不易收缩，且具有优异光学特性之偏光膜的制造方法及制造设备。本发明之解决手段为一种偏光膜的制造方法，其系包含：以双色性色素对聚乙烯醇系树脂膜进行染色处理之染色工序，将前述染色工序后的前述聚乙烯醇系树脂膜依序浸渍在n个(n为2以上的整数)交联浴以进行交联处理之交联工序，以及对于浸渍于配置在从上游侧朝下游侧之第x号(x为n以下的整数)之第x交联浴后拉出之前述聚乙烯醇系树脂膜，照射超过2μm且为4μm以下之波长的红外线之放射能量的比率为全放射能量的25%以上之电磁波之电磁波照射工序；各交联浴是由硼化合物的浓度为0.5质量%以上之溶液所构成，配置在从上游侧朝下游侧之第n号之第n交联浴是由前述硼化合物的浓度为2.4质量%以下之溶液所构成。

7. 发明专利

TWI649341B 嵌段共聚物有权
公开(公告)号：TWI649341B
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：TW106141826
申请日：2017-11-30
申请人：南韓商LG化學股份有限公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：柳亨周 , RYU, HYUNG JU , 李濟權 , LEE, JE GWON , 具世真 , KU, SE JIN , 崔銀英 , CHOI, EUN YOUNG , 尹聖琇 , YOON, SUNG SOO , 朴魯振 , PARK, NO JIN , 金廷根 , KIM, JUNG KEUN , 李美宿 , LEE, MI SOOK
IPC分类号： C08F293/00 , C08J5/18 , C08J7/00 , G03F7/00

8. 发明专利

TWI644960B 聚乙烯醇薄膜、偏光薄膜、及其等之製造方法有权
简体标题：聚乙烯醇薄膜、偏光薄膜、及其等之制造方法
公开(公告)号：TWI644960B
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：TW103139994
申请日：2014-11-19
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：大園達也 , OZONO, TATSUYA , 高藤勝啓 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 風藤修 , KAZETO, OSAMU
IPC分类号： C08L29/04 , G02B1/04 , C08J5/18 , C08J7/00 , B29C55/04 , G02B5/30 , G01J4/00 , G01N21/21 , G01M11/00 , B29K29/00 , B29L7/00 , B29L11/00

9. 发明专利

TW201841726A 偏光件之製造方法审中-公开
简体标题：偏光件之制造方法
公开(公告)号：TW201841726A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107111642
申请日：2018-04-02
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：三田聰司 , MITA, SATOSHI , 森拓也 , MORI, TAKUYA , 澤田浩明 , SAWADA, HIROAKI , 猿橋友斗 , SARUHASHI, YUTO , 池田哲朗 , IKEDA, TETSURO
IPC分类号： B29D11/00 , C08J7/00 , G02B5/30 , B29K29/00
摘要：本發明之目的在於提供一種可更有效率地染色的偏光件之製造方法。本發明之偏光件之製造方法包含一使用含有對碘化物及碘離子作用之氧化劑的溶液將聚乙烯醇系樹脂薄膜染色之步驟。該氧化劑為由陽離子和陰離子構成之離子性化合物，且該陰離子或陽離子中之任一者之標準電極電位大於碘離子之標準電極電位。藉由使用所述溶液進行染色，可更有效率地將聚乙烯醇系樹脂薄膜染色。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种可更有效率地染色的偏光件之制造方法。本发明之偏光件之制造方法包含一使用含有对碘化物及碘离子作用之氧化剂的溶液将聚乙烯醇系树脂薄膜染色之步骤。该氧化剂为由阳离子和阴离子构成之离子性化合物，且该阴离子或阳离子中之任一者之标准电极电位大于碘离子之标准电极电位。借由使用所述溶液进行染色，可更有效率地将聚乙烯醇系树脂薄膜染色。

10. 发明专利

TW201833297A 含矽樹脂組成物、含矽樹脂薄膜、二氧化矽薄膜、發光顯示元件面板及發光顯示裝置审中-公开
简体标题：含硅树脂组成物、含硅树脂薄膜、二氧化硅薄膜、发光显示组件皮肤及发光显示设备
公开(公告)号：TW201833297A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW106145945
申请日：2017-12-27
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：野田国宏 , NODA, KUNIHIRO , 千坂博樹 , CHISAKA, HIROKI , 塩田大 , SHIOTA, DAI
IPC分类号： C09K11/02 , C08L83/00 , C08J5/18 , C08J7/00 , C01B33/113 , G02B5/00 , B32B9/04 , G02F1/13357 , H01L27/32
摘要：本發明的課題為提供一種抑制破裂的發生，並且可以良好分散的狀態形成包含量子點之含矽樹脂薄膜或二氧化矽薄膜之含矽樹脂組成物、與包含量子點之含矽樹脂薄膜及二氧化矽薄膜以及其製造方法、與發光顯示元件用之光學薄膜及層合體、與包含該光學薄膜或該層合體之發光顯示元件面板、與具備該發光顯示元件面板之發光顯示裝置、與前述之層合體之製造方法。　　作為解決手段為在包含含矽樹脂(A)、與量子點(B)、與溶劑(S)之含矽樹脂組成物，作為含矽樹脂(A)，係使用選自矽氧烷樹脂及聚矽烷中之1種以上，將特定構造之環烷基乙酸酯含有在溶劑(S)。作為環烷基乙酸酯，適合使用環己基乙酸酯。
简体摘要：本发明的课题为提供一种抑制破裂的发生，并且可以良好分散的状态形成包含量子点之含硅树脂薄膜或二氧化硅薄膜之含硅树脂组成物、与包含量子点之含硅树脂薄膜及二氧化硅薄膜以及其制造方法、与发光显示组件用之光学薄膜及层合体、与包含该光学薄膜或该层合体之发光显示组件皮肤、与具备该发光显示组件皮肤之发光显示设备、与前述之层合体之制造方法。　　作为解决手段为在包含含硅树脂(A)、与量子点(B)、与溶剂(S)之含硅树脂组成物，作为含硅树脂(A)，系使用选自硅氧烷树脂及聚硅烷中之1种以上，将特定构造之环烷基乙酸酯含有在溶剂(S)。作为环烷基乙酸酯，适合使用环己基乙酸酯。

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