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    • 8. 发明专利
    • 酸及自由基產生劑,以及酸及自由基產生方法
    • 酸及自由基产生剂,以及酸及自由基产生方法
    • TW201605780A
    • 2016-02-16
    • TW103140751
    • 2014-11-25
    • 和光純藥工業股份有限公司WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
    • 酒井信彦SAKAI, NOBUHIKO簗場康佑YANABA, KOSUKE
    • C07C317/24C07C317/44C07D335/16
    • G03F7/0045C07C317/14C07C317/24C07C317/44C07C2603/24C07D335/16G03F7/029G03F7/031
    • 本發明之課題在於提供一種對波長300至450nm附近的活性能量射線具有高感度,且可發揮高的酸產生能力及自由基產生能力這兩種性能,又具備耐熱性之酸及自由基產生劑,以及酸及自由基產生方法。 本發明係關於通式(A)所示的化合物、包含該化合物之酸及自由基產生劑以及酸及自由基產生方法; (式中,n個R1分別獨立地表示鏈中可具有特定官能基且可被鹵原子取代之烷基;可被鹵原子取代之烷氧基;可被鹵原子、烷基或鹵烷基取代之芳香基或芳氧基;或可被鹵原子、烷基或鹵烷基取代之芳香基烷基或芳香基烷氧基;n個R2及R3分別獨立地表示氫原子、烷基或烷氧羰基;R4至R7分別獨立地表示氫原子、鹵原子、烷基、烷氧基、烯基、芳香基、烷氧羰基、二烷基胺基或硝基;Y表示氧原子、硫原子或羰基;n個Z分別獨立地表示磺醯基或烷氧基磷醯基;n表示1或2)。
    • 本发明之课题在于提供一种对波长300至450nm附近的活性能量射线具有高感度,且可发挥高的酸产生能力及自由基产生能力这两种性能,又具备耐热性之酸及自由基产生剂,以及酸及自由基产生方法。 本发明系关于通式(A)所示的化合物、包含该化合物之酸及自由基产生剂以及酸及自由基产生方法; (式中,n个R1分别独立地表示链中可具有特定官能基且可被卤原子取代之烷基;可被卤原子取代之烷氧基;可被卤原子、烷基或卤烷基取代之芳香基或芳氧基;或可被卤原子、烷基或卤烷基取代之芳香基烷基或芳香基烷氧基;n个R2及R3分别独立地表示氢原子、烷基或烷氧羰基;R4至R7分别独立地表示氢原子、卤原子、烷基、烷氧基、烯基、芳香基、烷氧羰基、二烷基胺基或硝基;Y表示氧原子、硫原子或羰基;n个Z分别独立地表示磺酰基或烷氧基磷酰基;n表示1或2)。