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    • 9. 发明专利
    • 抗硫化的晶片電阻及其製法
    • 抗硫化的芯片电阻及其制法
    • TW201303912A
    • 2013-01-16
    • TW101136473
    • 2008-02-26
    • 韋司海中間科技公司VISHAY INTERTECHNOLOGY, INC.
    • 貝爾曼 麥可BELMAN, MICHAEL阿肯曼 里歐尼德AKHTMAN, LEONID
    • H01C1/012H01C17/28
    • H01C1/034H01C17/288
    • 一種晶片電阻包含:一絕緣基板11;頂終端電極12,它們係形成在使用以銀為基礎之金屬陶瓷的基板的頂表面上;底電極13;電阻性元件14,其係位於頂終端電極12之間並且會部分重疊它們;一選配的內部保護覆層15,其會完全或部分覆蓋電阻性元件14;一外部保護覆層16,其會完全覆蓋該內部保護覆層15並且會部分覆蓋頂終端電極12;一鍍鎳層17,其會覆蓋該基板的面側、頂電極12與底電極13,並且會部分重疊外部保護覆層16;完製鍍層18,其會覆蓋鎳層17。在進行鍍鎳處理之前,因為外部保護層16的邊緣的金屬化的關係,鎳層17與外部保護層16的重疊會具有密封特性。
    • 一种芯片电阻包含:一绝缘基板11;顶终端电极12,它们系形成在使用以银为基础之金属陶瓷的基板的顶表面上;底电极13;电阻性组件14,其系位于顶终端电极12之间并且会部分重叠它们;一选配的内部保护覆层15,其会完全或部分覆盖电阻性组件14;一外部保护覆层16,其会完全覆盖该内部保护覆层15并且会部分覆盖顶终端电极12;一镀镍层17,其会覆盖该基板的面侧、顶电极12与底电极13,并且会部分重叠外部保护覆层16;完制镀层18,其会覆盖镍层17。在进行镀镍处理之前,因为外部保护层16的边缘的金属化的关系,镍层17与外部保护层16的重叠会具有密封特性。