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1. 发明专利

TWI673490B 用於掃描散射對比檢查的方法及用於掃描散射對比檢查的系統有权
简体标题：用于扫描散射对比检查的方法及用于扫描散射对比检查的系统
公开(公告)号：TWI673490B
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：TW106105001
申请日：2017-02-16
申请人：瑞士商保羅謝勒硏究所 , PAUL SCHERRER INSTITUT
发明人：艾根錫亞辛 , EKINCI, YASIN
IPC分类号： G01N21/88 , G03F3/08

2. 发明专利

TWI666562B 用於圖案組態之方法有权
简体标题：用于图案组态之方法
公开(公告)号：TWI666562B
公开(公告)日：2019-07-21
申请号：TW106136452
申请日：2017-10-24
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：徐端孚 , HSU, DUAN-FU STEPHEN , 李小陽 , LI, XIAOYANG JASON
IPC分类号： G06F17/50 , G06T9/20 , G03F1/36 , G03F1/38 , G03F7/20 , G03F3/08 , G03F9/00

3. 发明专利

TW201734666A 微影裝置及器件製造方法审中-公开
简体标题：微影设备及器件制造方法
公开(公告)号：TW201734666A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW106105513
申请日：2017-02-20
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：邦德威廉里察 , PONGERS, WILLEM RICHARD , 瑞吉德爾思瑪立諾思彼德斯 , REIJNDERS, MARINUS PETRUS , 卡拿倫巴斯丁安卓亞威廉休伯特 , KNARREN, BASTIAAN ANDREAS WILHELMUS HUBERTUS , 泰尼森寶拉司安東尼司安德司 , TEUNISSEN, PAULUS ANTONIUS ANDREAS
IPC分类号： G03F7/20 , G03F3/08
CPC分类号： G03F9/7034 , G01B11/0608 , G01B11/254
摘要：一種位階感測器感測一半導體基板之一表面之一部分之一局域高度。該位階感測器包含一光學系統，該光學系統具有一投影光柵及一偵測器。在存在該基板時之操作使用中，該光學系統經由離開該表面之反射而將該投影光柵成像於該偵測器上。該位階感測器依靠該投影光柵在該偵測器上之該成像來感測該局域高度。該位階感測器包含用於調整由該光學系統進行之該成像之一致動器。
简体摘要：一种位阶传感器传感一半导体基板之一表面之一部分之一局域高度。该位阶传感器包含一光学系统，该光学系统具有一投影光栅及一侦测器。在存在该基板时之操作使用中，该光学系统经由离开该表面之反射而将该投影光栅成像于该侦测器上。该位阶传感器依靠该投影光栅在该侦测器上之该成像来传感该局域高度。该位阶传感器包含用于调整由该光学系统进行之该成像之一致动器。

4. 发明专利

TW201820188A 用於圖案組態之方法审中-公开
简体标题：用于图案组态之方法
公开(公告)号：TW201820188A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106136452
申请日：2017-10-24
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：徐端孚 , HSU, DUAN-FU STEPHEN , 李小陽 , LI, XIAOYANG JASON
IPC分类号： G06F17/50 , G06T9/20 , G03F1/36 , G03F1/38 , G03F7/20 , G03F3/08 , G03F9/00
摘要：本發明提供一種用於最佳化一圖案化器件圖案之方法，該方法包括：獲得具有複數個多邊形之一初始設計圖案；使該等多邊形中之至少一些彼此有效地連接；將評估特徵置放於該等多邊形之邊界外；及基於該等評估特徵產生橫跨該等連接之多邊形之一圖案化器件圖案。
简体摘要：本发明提供一种用于最优化一图案化器件图案之方法，该方法包括：获得具有复数个多边形之一初始设计图案；使该等多边形中之至少一些彼此有效地连接；将评估特征置放于该等多边形之边界外；及基于该等评估特征产生横跨该等连接之多边形之一图案化器件图案。

5. 发明专利

TW201736948A 微影裝置及器件製造方法审中-公开
简体标题：微影设备及器件制造方法
公开(公告)号：TW201736948A
公开(公告)日：2017-10-16
申请号：TW106108493
申请日：2017-03-15
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V. , ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
发明人：莫依司特比爾愛曲 , MOEST, BEARRACH , 貝克羅威爾蘭尼 , BAKER, LOWELL LANE , 道尼斯詹姆士羅伯特 , DOWNES, JAMES ROBERT , 侯堤加威京南德 , HOITINGA, WIJNAND , 潘赫爾曼佛肯 , PEN, HERMEN FOLKEN
IPC分类号： G03F3/08 , G06F17/50
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/705 , G03F7/70783
摘要：本發明係關於一種裝置，其包括：一照明系統，其用以調節一輻射光束；一支撐件，其用以支撐一圖案化器件，該圖案化器件能夠在該輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案以形成一經圖案化輻射光束；一基板台，其經建構以固持一基板；一投影系統，其用以將該經圖案化輻射光束投影至該基板之一目標部分上；及一控制系統，其經組態以：接收特性化一圖案分佈之圖案資料；接收特性化該輻射光束之輻射資料；基於該圖案資料及該輻射資料判定該圖案之一耗散分佈；藉由在該圖案化器件之一熱機械模型中應用該耗散分佈來判定該圖案之變形；及基於該圖案之該變形判定用以控制該裝置之一組件之一控制信號。
简体摘要：本发明系关于一种设备，其包括：一照明系统，其用以调节一辐射光束；一支撑件，其用以支撑一图案化器件，该图案化器件能够在该辐射光束之横截面中向该辐射光束赋予一图案以形成一经图案化辐射光束；一基板台，其经建构以固持一基板；一投影系统，其用以将该经图案化辐射光束投影至该基板之一目标部分上；及一控制系统，其经组态以：接收特性化一图案分布之图案数据；接收特性化该辐射光束之辐射数据；基于该图案数据及该辐射数据判定该图案之一耗散分布；借由在该图案化器件之一热机械模型中应用该耗散分布来判定该图案之变形；及基于该图案之该变形判定用以控制该设备之一组件之一控制信号。

6. 发明专利

TW201736830A 用於使用對比在減少的空間頻率域中作高通量缺陷檢查的方法及系統审中-公开
简体标题：用于使用对比在减少的空间频率域中作高通量缺陷检查的方法及系统
公开(公告)号：TW201736830A
公开(公告)日：2017-10-16
申请号：TW106105001
申请日：2017-02-16
申请人：保羅謝勒硏究所 , PAUL SCHERRER INSTITUT
发明人：艾根錫亞辛 , EKINCI, YASIN
IPC分类号： G01N21/88 , G03F3/08
CPC分类号： G03F1/84 , G01N21/95607
摘要：本發明揭示用於掃描散射對比檢查的方法及系統，用於相較於一樣本(2)上的所欲圖案區塊，識別該樣本(2)上的實際圖案區塊(6)之缺陷(4)，藉此提供一種新穎的解決方式，以達成缺陷靈敏度及通量。該方法省略倒易空間(空間頻率域)中的大部分資訊，以增加通量，以及擷取在該倒易空間中給予最高缺陷資訊之資訊，亦即，在缺陷結構及無缺陷結構之間的對比訊號。本發明之標的在於僅針對偏離該預期繞射圖案之探查，將允許快速識別該樣本的實際圖案上之缺陷。雖然第一種方法係敘述藉由比較重複的圖案區塊來學習正確的重建繞射影像之方法，但是第二種方法著重於在該重建繞射影像之空間頻率域中的可預測缺陷之出現，藉此限定將該等缺陷具體化之感興趣區域，以及加速探查，因為僅該等感興趣區域必須被考量，並且與無缺陷圖案區塊之重建繞射影像相比較。
简体摘要：本发明揭示用于扫描散射对比检查的方法及系统，用于相较于一样本(2)上的所欲图案区块，识别该样本(2)上的实际图案区块(6)之缺陷(4)，借此提供一种新颖的解决方式，以达成缺陷灵敏度及通量。该方法省略倒易空间(空间频率域)中的大部分信息，以增加通量，以及截取在该倒易空间中给予最高缺陷信息之信息，亦即，在缺陷结构及无缺陷结构之间的对比信号。本发明之标的在于仅针对偏离该预期绕射图案之探查，将允许快速识别该样本的实际图案上之缺陷。虽然第一种方法系叙述借由比较重复的图案区块来学习正确的重建绕射影像之方法，但是第二种方法着重于在该重建绕射影像之空间频率域中的可预测缺陷之出现，借此限定将该等缺陷具体化之感兴趣区域，以及加速探查，因为仅该等感兴趣区域必须被考量，并且与无缺陷图案区块之重建绕射影像相比较。

7. 发明专利

TWI627512B 微影裝置及器件製造方法有权
简体标题：微影设备及器件制造方法
公开(公告)号：TWI627512B
公开(公告)日：2018-06-21
申请号：TW106105513
申请日：2017-02-20
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：邦德威廉里察 , PONGERS, WILLEM RICHARD , 瑞吉德爾思瑪立諾思彼德斯 , REIJNDERS, MARINUS PETRUS , 卡拿倫巴斯丁安卓亞威廉休伯特 , KNARREN, BASTIAAN ANDREAS WILHELMUS HUBERTUS , 泰尼森寶拉司安東尼司安德司 , TEUNISSEN, PAULUS ANTONIUS ANDREAS
IPC分类号： G03F7/20 , G03F3/08

8. 发明专利

TWI627497B 微影裝置及器件製造方法有权
简体标题：微影设备及器件制造方法
公开(公告)号：TWI627497B
公开(公告)日：2018-06-21
申请号：TW106108493
申请日：2017-03-15
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V. , 荷蘭商ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
发明人：莫依司特比爾愛曲 , MOEST, BEARRACH , 貝克羅威爾蘭尼 , BAKER, LOWELL LANE , 道尼斯詹姆士羅伯特 , DOWNES, JAMES ROBERT , 侯堤加威京南德 , HOITINGA, WIJNAND , 潘赫爾曼佛肯 , PEN, HERMEN FOLKEN
IPC分类号： G03F3/08 , G06F17/50

9. 发明专利

TW201734632A 判定圖案化製程參數之方法與裝置审中-公开
简体标题：判定图案化制程参数之方法与设备
公开(公告)号：TW201734632A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW106106741
申请日：2017-03-01
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：凡力司特雅得安喬漢 , VAN LEEST, ADRIAAN JOHAN , 柴特瑪司艾納諾斯堤斯 , TSIATMAS, ANAGNOSTIS , 希尼保羅克利絲丁安 , HINNEN, PAUL CHRISTIAAN , 麥克納馬拉艾略特葛雷德 , MC NAMARA, ELLIOTT GERARD , 沃馬艾羅克 , VERMA, ALOK , 休威斯湯馬士 , THEEUWES, THOMAS , 克瑞馬雨果奧格斯提納斯約瑟夫 , CRAMER, HUGO AUGUSTINUS JOSEPH
IPC分类号： G03F3/08 , G01N1/28 , G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5072 , G01B3/14 , G01N21/8851 , G01N21/9501 , G01N2021/8887 , G03F7/70633 , G03F7/70683 , G03F9/7003 , G06F17/5009 , G06F17/5081 , G06F2217/12 , H01L21/308 , H01L22/12
摘要：一種判定一圖案化製程之疊對之方法，該方法包括：獲得由一單位胞元之一或多個實體例項重新導向之輻射的一偵測到之表示，其中該單位胞元在疊對之一標稱值下具有幾何對稱性，且其中該輻射之該偵測到之表示係藉由運用一輻射光束照明一基板使得該基板上之一光束光點填充有該單位胞元之該一或多個實體例項而獲得；及與判定用於該單位胞元之一第二疊對分離地自來自該偵測到輻射表示之光學特性值判定用於該單位胞元之一第一疊對之一值，該第二疊對亦可獲得自該等相同光學特性值，其中該第一疊對在與該第二疊對不同之一方向上或在與該第二疊對不同的該單位胞元之部分之一組合之間。
简体摘要：一种判定一图案化制程之叠对之方法，该方法包括：获得由一单位胞元之一或多个实体实例重新导向之辐射的一侦测到之表示，其中该单位胞元在叠对之一标称值下具有几何对称性，且其中该辐射之该侦测到之表示系借由运用一辐射光束照明一基板使得该基板上之一光束光点填充有该单位胞元之该一或多个实体实例而获得；及与判定用于该单位胞元之一第二叠对分离地自来自该侦测到辐射表示之光学特性值判定用于该单位胞元之一第一叠对之一值，该第二叠对亦可获得自该等相同光学特性值，其中该第一叠对在与该第二叠对不同之一方向上或在与该第二叠对不同的该单位胞元之部分之一组合之间。

10. 发明专利

TWI435167B 影像感測器中改良的光感性有权
简体标题：影像传感器中改良的光感性
公开(公告)号：TWI435167B
公开(公告)日：2014-04-21
申请号：TW096145727
申请日：2007-11-30
申请人：豪威科技股份有限公司 , OMNIVISION TECHNOLOGIES, INC.
发明人：約翰T 康頓 , COMPTON, JOHN T. , 蜜雪兒歐布萊恩 , O'BRIEN, MICHELE , 約翰F 漢米爾頓二世 , HAMILTON, JOHN F. JR.
IPC分类号： G03F3/08
CPC分类号： H04N5/335 , H04N9/045 , H04N2209/045

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