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1. 发明专利

TWI696003B 光學濾波器及使用光學濾波器的裝置有权
简体标题：光学滤波器及使用光学滤波器的设备
公开(公告)号：TWI696003B
公开(公告)日：2020-06-11
申请号：TW108128319
申请日：2016-03-22
申请人：日商JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：長屋勝也 , NAGAYA, KATSUYA , 重岡大介 , SHIGEOKA, DAISUKE , 堀内正子 , HORIUCHI, MASAKO , 葛西達也 , KASAI, TATSUYA
IPC分类号： G02B5/22 , G02B5/28

2. 发明专利

TW202008013A 光學元件及其製造方法审中-公开
简体标题：光学组件及其制造方法
公开(公告)号：TW202008013A
公开(公告)日：2020-02-16
申请号：TW107137702
申请日：2018-10-25
申请人：采鈺科技股份有限公司 , VISERA TECHNOLOGIES COMPANY LIMITED
发明人：塗宗儒 , TU, ZONG-RU
IPC分类号： G02B5/28
摘要：本發明提供一種光學元件。該光學元件包括：一基板；複數個金屬柵，形成於該基板上；一圖案化第一有機層，形成於該等金屬柵上；一彩色濾光片，為該圖案化第一有機層所包圍；一第二有機層，形成於該圖案化第一有機層與該彩色濾光片上；以及一光收集層，為該第二有機層所包圍，並對應該彩色濾光片。該光收集層的折射率高於該第二有機層的折射率。本發明另提供一種光學元件的製造方法。
简体摘要：本发明提供一种光学组件。该光学组件包括：一基板；复数个金属栅，形成于该基板上；一图案化第一有机层，形成于该等金属栅上；一彩色滤光片，为该图案化第一有机层所包围；一第二有机层，形成于该图案化第一有机层与该彩色滤光片上；以及一光收集层，为该第二有机层所包围，并对应该彩色滤光片。该光收集层的折射率高于该第二有机层的折射率。本发明另提供一种光学组件的制造方法。

3. 发明专利

TWI676794B 感測元件有权
简体标题：传感组件
公开(公告)号：TWI676794B
公开(公告)日：2019-11-11
申请号：TW107138699
申请日：2018-10-31
申请人：精準基因生物科技股份有限公司 , GENOPTICS PRECISION BIOTECHNOLOGIES INC.
发明人：游騰健 , YU, TENG-CHIEN
IPC分类号： G01N21/64 , G02B5/28

4. 发明专利

TW201833596A 光源裝置及其光濾波組件审中-公开
简体标题：光源设备及其光滤波组件
公开(公告)号：TW201833596A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW106107793
申请日：2017-03-09
申请人：台灣超微光學股份有限公司 , OTO PHOTONICS INC.
发明人：洪健翔 , HUNG, CHIEN-HSIANG , 林昇旺 , LIN, SHENG-WANG
IPC分类号： G02B5/28 , F21V9/08
摘要：一種光濾波組件包括第一干涉膜與第二干涉膜。第一干涉膜包括多層第一膜層與多層第二膜層。這些第一膜層與這些第二膜層彼此交替堆疊。第二干涉膜包括多層第三膜層與多層第四膜層。這些第三膜層與這些第四膜層彼此交替堆疊。第一膜層的光學常數與第三膜層的光學常數相同，第二膜層的光學常數與第四膜層的光學常數相同，而第一干涉膜所產生的光程差不同於第二干涉膜所產生的光程差。
简体摘要：一种光滤波组件包括第一干涉膜与第二干涉膜。第一干涉膜包括多层第一膜层与多层第二膜层。这些第一膜层与这些第二膜层彼此交替堆栈。第二干涉膜包括多层第三膜层与多层第四膜层。这些第三膜层与这些第四膜层彼此交替堆栈。第一膜层的光学常数与第三膜层的光学常数相同，第二膜层的光学常数与第四膜层的光学常数相同，而第一干涉膜所产生的光程差不同于第二干涉膜所产生的光程差。

5. 发明专利

TW201819964A 具有互補角屏蔽區域之濾光器审中-公开
简体标题：具有互补角屏蔽区域之滤光器
公开(公告)号：TW201819964A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106135515
申请日：2017-10-17
申请人：美商3M新設資產公司 , 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY
发明人：惠特立強艾倫 , WHEATLEY, JOHN ALLEN , 畢諾吉列強-巴提斯 , BENOIT, GILLES JEAN-BAPTISTE , 堵光磊 , DU, GUANGLEI , 畢爾納斯羅夫維納 , BIERNATH, ROLF WERNER
IPC分类号： G02B5/28 , H01L27/14
摘要：一種實例濾光器可包括角度屏蔽層，其具有相對於法向軸之第一角光屏蔽範圍θAL，以及與角度屏蔽層相鄰的干涉濾波器，干涉濾波器具有相對於法向軸之第二角光屏蔽範圍θIF。θIF與θAL至少部分重疊。實例濾光器具有預定光透射區域，透射區域包含相對於主要表面的法向軸從0°到最大光透射角θTmax的角度。實例濾光器具有預定角光屏蔽區域θB，其係θIF與θAL的聯集。實例濾光器可包括具有與入射角相關之反射頻帶的干涉濾波器和具有吸收頻帶的吸收層。與入射角相關的反射頻帶及吸收頻帶可在至少一波長在至少一入射角度處重疊。
简体摘要：一种实例滤光器可包括角度屏蔽层，其具有相对于法向轴之第一角光屏蔽范围θAL，以及与角度屏蔽层相邻的干涉滤波器，干涉滤波器具有相对于法向轴之第二角光屏蔽范围θIF。θIF与θAL至少部分重叠。实例滤光器具有预定光透射区域，透射区域包含相对于主要表面的法向轴从0°到最大光透射角θTmax的角度。实例滤光器具有预定角光屏蔽区域θB，其系θIF与θAL的联集。实例滤光器可包括具有与入射角相关之反射频带的干涉滤波器和具有吸收频带的吸收层。与入射角相关的反射频带及吸收频带可在至少一波长在至少一入射角度处重叠。

6. 发明专利

TW201728895A 光學感測模組审中-公开
简体标题：光学传感模块
公开(公告)号：TW201728895A
公开(公告)日：2017-08-16
申请号：TW106103638
申请日：2017-02-03
申请人：體學生物科技股份有限公司 , PERSONAL GENOMICS TAIWAN, INC.
发明人：謝馨儀 , HSIEH, HSIN-YI , 林聖富 , LIN, SHENG-FU , 游騰健 , YU, TENG-CHIEN
IPC分类号： G01N21/64 , G02B3/08 , G02B5/28 , G02B6/26
CPC分类号： G01N21/6454 , G01N21/648 , G01N2021/6471 , G01N2021/6478 , G01N2201/0642 , G02B6/0036 , G02B6/005 , G02B6/0053
摘要：一種光學感測模組用以檢測樣本的特性。光學感測模組包含光源、導光板、第一包覆層、光匯聚層、過濾層和多個感測器。光源用以提供激發光束。多個感測器的位置對應於多個孔洞的位置。在激發光束進入導光板之後，激發光束的至少一部分經由導光板被孔洞暴露的部分表面透射到樣本。樣本被激發光束激發以發射信號光束，且信號光束以一次序穿過光匯聚層和過濾層並行進到感測器。另一光學感測模組亦被提供。
简体摘要：一种光学传感模块用以检测样本的特性。光学传感模块包含光源、导光板、第一包覆层、光汇聚层、过滤层和多个传感器。光源用以提供激发光束。多个传感器的位置对应于多个孔洞的位置。在激发光束进入导光板之后，激发光束的至少一部分经由导光板被孔洞暴露的部分表面透射到样本。样本被激发光束激发以发射信号光束，且信号光束以一次序穿过光汇聚层和过滤层并行进到传感器。另一光学传感模块亦被提供。

7. 发明专利

TW201704007A 積層體审中-公开
简体标题：积层体
公开(公告)号：TW201704007A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW105112749
申请日：2016-04-25
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：八尋謙介 , YAHIRO, KENSUKE , 岩谷忠彥 , IWAYA, TADAHIKO , 石田康之 , ISHIDA, YASUYUKI
IPC分类号： B32B7/02 , G02B1/11 , G02B5/28
CPC分类号： B32B7/02 , G02B1/111 , G02B1/14 , G02B1/18
摘要：本發明提供一種積層體，其為在支持基材之至少單面具有表面層的積層體，該積層體之表面層側之絶對反射率R1與在表面層上進一步設置光學厚度(層的厚度乘以層的折射率所得之值)為72.5nm之層L時之絶對反射率R2滿足以下之條件： (A)-1.0%≦R1(435.8)-R2(435.8)≦0.5% (B)-1.0%≦R1(546.1)-R2(546.1)≦0.5% (C)-1.0%≦R1(700.0)-R2(700.0)≦0.5% R1(X)：積層體之表面層側於波長Xnm之絶對反射率R1 R2(X)：在表面層上進一步設置光學厚度(層的厚度乘以層的折射率所得之值)為72.5nm之層L時，於波長Xnm之絶對反射率R2；該積層體於低反射率時透明性高，且指紋等污垢所造成之污染少，適用於反射防止構件及硬塗層構件。
简体摘要：本发明提供一种积层体，其为在支持基材之至少单面具有表面层的积层体，该积层体之表面层侧之绝对反射率R1与在表面层上进一步设置光学厚度(层的厚度乘以层的折射率所得之值)为72.5nm之层L时之绝对反射率R2满足以下之条件： (A)-1.0%≦R1(435.8)-R2(435.8)≦0.5% (B)-1.0%≦R1(546.1)-R2(546.1)≦0.5% (C)-1.0%≦R1(700.0)-R2(700.0)≦0.5% R1(X)：积层体之表面层侧于波长Xnm之绝对反射率R1 R2(X)：在表面层上进一步设置光学厚度(层的厚度乘以层的折射率所得之值)为72.5nm之层L时，于波长Xnm之绝对反射率R2；该积层体于低反射率时透明性高，且指纹等污垢所造成之污染少，适用于反射防止构件及硬涂层构件。

8. 发明专利

TW201621354A 波長選擇濾光片及光照射裝置审中-公开
简体标题：波长选择滤光片及光照射设备
公开(公告)号：TW201621354A
公开(公告)日：2016-06-16
申请号：TW104133239
申请日：2015-10-08
申请人：岩崎電氣股份有限公司 , IWASAKI ELECTRIC CO., LTD.
发明人：米山直人 , YONEYAMA, NAOTO
IPC分类号： G02B5/28 , F21V9/00
摘要：本發明提供一種可抑制膜數大幅增加，並且於光斜入射至膜面時亦能夠減小分光穿透特性之波長偏移量的波長選擇濾光片及光照射裝置。本發明之波長選擇濾光片4係設為如下構成：於透明基板21上備置包含第1介電質多層膜G1及第2介電質多層膜G2之第1積層體、以及包含第3介電質多層膜及第4介電質多層膜之第2積層體，第1及第3介電質多層膜G1、G3係將具有第1折射率之第1折射率材22與具有較第1折射率小之第2折射率之第2折射率材23交替地積層而構成，第2及第4介電質多層膜G2、G4係將具有第3折射率之第3折射率材24與具有較第3折射率小之第4折射率之第4折射率材25交替地積層而構成，且第1折射率與第3折射率不同，第2折射率與第4折射率不同。
简体摘要：本发明提供一种可抑制膜数大幅增加，并且于光斜入射至膜面时亦能够减小分光穿透特性之波长偏移量的波长选择滤光片及光照射设备。本发明之波长选择滤光片4系设为如下构成：于透明基板21上备置包含第1介电质多层膜G1及第2介电质多层膜G2之第1积层体、以及包含第3介电质多层膜及第4介电质多层膜之第2积层体，第1及第3介电质多层膜G1、G3系将具有第1折射率之第1折射率材22与具有较第1折射率小之第2折射率之第2折射率材23交替地积层而构成，第2及第4介电质多层膜G2、G4系将具有第3折射率之第3折射率材24与具有较第3折射率小之第4折射率之第4折射率材25交替地积层而构成，且第1折射率与第3折射率不同，第2折射率与第4折射率不同。

9. 发明专利

TWI500978B 紅外線濾除元件有权
简体标题：红外线滤除组件
公开(公告)号：TWI500978B
公开(公告)日：2015-09-21
申请号：TW102131588
申请日：2013-09-02
申请人：大立光電股份有限公司 , LARGAN PRECISION CO., LTD.
发明人：朱國強 , CHU, KUOCHIANG , 張建邦 , CHANG, CHIENPANG
IPC分类号： G02B5/28
CPC分类号： G02B5/281 , G02B5/285

10. 发明专利

TW201504620A 用以判定用於光學晶圓檢查之深度之系統及方法审中-公开
简体标题：用以判定用于光学晶圆检查之深度之系统及方法
公开(公告)号：TW201504620A
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW103109789
申请日：2014-03-14
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：柯勤派維爾 , KOLCHIN, PAVEL , 哈里勞米克海爾 , HAURYLAU, MIKHAIL , 達納羅伯特 , DANEN, ROBERT
IPC分类号： G01N21/95 , G02B5/28
CPC分类号： G01N21/9505 , G01N21/8851 , G01N2021/8874 , G02B5/28 , G02B5/3083 , G06T7/0012 , G06T7/004 , G06T7/0051 , G06T2207/30148 , H04N5/2256
摘要：本發明揭示一種用於檢查一晶圓之基於電腦的方法，其包含：將電腦可讀取指令儲存在至少一個電腦之一記憶體元件中；偵測繞一第一中心軸以一第一螺旋形旋轉之一第一光束；及使用該至少一個電腦之一處理器執行該等電腦可讀取指令以使用該所偵測第一光束產生包含至少一個形狀之一影像；判定該至少一個形狀之一定向或該至少一個形狀之一大小；及根據該定向或該大小計算該晶圓中之一缺陷之一深度。
简体摘要：本发明揭示一种用于检查一晶圆之基于电脑的方法，其包含：将电脑可读取指令存储在至少一个电脑之一内存组件中；侦测绕一第一中心轴以一第一螺旋形旋转之一第一光束；及使用该至少一个电脑之一处理器运行该等电脑可读取指令以使用该所侦测第一光束产生包含至少一个形状之一影像；判定该至少一个形状之一定向或该至少一个形状之一大小；及根据该定向或该大小计算该晶圆中之一缺陷之一深度。

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