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1. 发明专利

TW201704007A 積層體审中-公开
简体标题：积层体
公开(公告)号：TW201704007A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW105112749
申请日：2016-04-25
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：八尋謙介 , YAHIRO, KENSUKE , 岩谷忠彥 , IWAYA, TADAHIKO , 石田康之 , ISHIDA, YASUYUKI
IPC分类号： B32B7/02 , G02B1/11 , G02B5/28
CPC分类号： B32B7/02 , G02B1/111 , G02B1/14 , G02B1/18
摘要：本發明提供一種積層體，其為在支持基材之至少單面具有表面層的積層體，該積層體之表面層側之絶對反射率R1與在表面層上進一步設置光學厚度(層的厚度乘以層的折射率所得之值)為72.5nm之層L時之絶對反射率R2滿足以下之條件： (A)-1.0%≦R1(435.8)-R2(435.8)≦0.5% (B)-1.0%≦R1(546.1)-R2(546.1)≦0.5% (C)-1.0%≦R1(700.0)-R2(700.0)≦0.5% R1(X)：積層體之表面層側於波長Xnm之絶對反射率R1 R2(X)：在表面層上進一步設置光學厚度(層的厚度乘以層的折射率所得之值)為72.5nm之層L時，於波長Xnm之絶對反射率R2；該積層體於低反射率時透明性高，且指紋等污垢所造成之污染少，適用於反射防止構件及硬塗層構件。
简体摘要：本发明提供一种积层体，其为在支持基材之至少单面具有表面层的积层体，该积层体之表面层侧之绝对反射率R1与在表面层上进一步设置光学厚度(层的厚度乘以层的折射率所得之值)为72.5nm之层L时之绝对反射率R2满足以下之条件： (A)-1.0%≦R1(435.8)-R2(435.8)≦0.5% (B)-1.0%≦R1(546.1)-R2(546.1)≦0.5% (C)-1.0%≦R1(700.0)-R2(700.0)≦0.5% R1(X)：积层体之表面层侧于波长Xnm之绝对反射率R1 R2(X)：在表面层上进一步设置光学厚度(层的厚度乘以层的折射率所得之值)为72.5nm之层L时，于波长Xnm之绝对反射率R2；该积层体于低反射率时透明性高，且指纹等污垢所造成之污染少，适用于反射防止构件及硬涂层构件。

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