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1. 发明专利

TWI618923B 用於測量在玻璃及玻璃陶瓷中之雙折射的系統和方法有权
简体标题：用于测量在玻璃及玻璃陶瓷中之双折射的系统和方法
公开(公告)号：TWI618923B
公开(公告)日：2018-03-21
申请号：TW102134756
申请日：2013-09-26
申请人：康寧公司 , CORNING INCORPORATED
发明人：劉安平 , LIU, ANPING , 路瑟夫羅斯提斯拉夫費契夫 , ROUSSEV, ROSTISLAV VATCHEV , 施耐德維特馬利諾 , SCHNEIDER, VITOR MARINO , 惠地爾阿拉那馬利 , WHITTIER, ALANA MARIE
IPC分类号： G01M11/02 , G01L1/24
CPC分类号： G01N21/23 , G01J4/04

2. 发明专利

TW201710208A 經離子交換化學強化之含鋰玻璃的特徵測定方法审中-公开
简体标题：经离子交换化学强化之含锂玻璃的特征测定方法
公开(公告)号：TW201710208A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：TW105117756
申请日：2016-06-04
申请人：康寧公司 , CORNING INCORPORATED
发明人：路瑟夫羅斯提斯拉夫費契夫 , ROUSSEV, ROSTISLAV VATCHEV , 施耐德維特馬利諾 , SCHNEIDER, VITOR MARINO
IPC分类号： C03C21/00 , G01N21/41 , G01L1/24 , G01N21/84
CPC分类号： G01N33/386 , C03C21/002 , G01L1/00
摘要：經離子交換化學強化之含Li玻璃的特徵測定方法包括：a)測量該玻璃樣本的模型光譜；b)利用該模型光譜，估計與凸底區域有關的對中心張力的第一作用並估計由於僅深部區域對中心張力的第二作用，其中假設該深部區域遵循冪律應力分佈曲線；及c)透過添加對中心張力的該第一及第二作用判定總中心張力。透過比較該總中心張力與提供最佳強度及耐久性的中心張力規格，該等方法能夠用於玻璃樣本製造過程中的品質控制。
简体摘要：经离子交换化学强化之含Li玻璃的特征测定方法包括：a)测量该玻璃样本的模型光谱；b)利用该模型光谱，估计与凸底区域有关的对中心张力的第一作用并估计由于仅深部区域对中心张力的第二作用，其中假设该深部区域遵循幂律应力分布曲线；及c)透过添加对中心张力的该第一及第二作用判定总中心张力。透过比较该总中心张力与提供最佳强度及耐久性的中心张力规格，该等方法能够用于玻璃样本制造过程中的品质控制。

3. 发明专利

TW201606274A 用於減少半導體基板應變變化的方法审中-公开
简体标题：用于减少半导体基板应变变化的方法
公开(公告)号：TW201606274A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：TW104118360
申请日：2015-06-05
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：班卻爾克里斯多夫丹尼斯 , BENCHER, CHRISTOPHER DENNIS , 堤蘇瑞艾胡德 , TZURI, EHUD , 葉怡利 , YIEH, ELLIE Y.
IPC分类号： G01L1/24 , H01L21/30
CPC分类号： H01L22/20 , H01L21/268 , H01L21/2686 , H01L22/12
摘要：本發明揭露的實施例提供用於使用雷射能處理過程校正半導體基板上的微影薄膜應力/應變變化之方法與系統。在一個實施例中，用於校正基板上薄膜應力/應變變化的方法包括以下步驟：以度量衡工具在基板上執行量測過程以獲取基板變形或重疊誤差圖，基於重疊誤差圖決定計算系統中的雷射能用量以校正薄膜應力/應變變化或基板變形，以及基於決定用於校正基板變形或薄膜應力/應變變化的雷射能用量而提供雷射能處理方法給雷射能設備。
简体摘要：本发明揭露的实施例提供用于使用激光能处理过程校正半导体基板上的微影薄膜应力/应变变化之方法与系统。在一个实施例中，用于校正基板上薄膜应力/应变变化的方法包括以下步骤：以度量衡工具在基板上运行量测过程以获取基板变形或重叠误差图，基于重叠误差图决定计算系统中的激光能用量以校正薄膜应力/应变变化或基板变形，以及基于决定用于校正基板变形或薄膜应力/应变变化的激光能用量而提供激光能处理方法给激光能设备。

4. 发明专利

TWI482952B 光干涉系統有权
简体标题：光干涉系统
公开(公告)号：TWI482952B
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW102107065
申请日：2013-02-27
申请人：國立臺灣科技大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
发明人：徐世祥 , HSU, SHIH HSIANG , 徐榕辰 , HSU, JUNG CHEN
IPC分类号： G01L1/00 , G01L1/24 , G01J1/30 , G02F1/225

5. 发明专利

TW201502480A 用以決定壓力分佈之量測裝置及方法审中-公开
简体标题：用以决定压力分布之量测设备及方法
公开(公告)号：TW201502480A
公开(公告)日：2015-01-16
申请号：TW103116310
申请日：2014-05-07
申请人： EV集團E塔那有限公司 , EV GROUP E. THALLNER GMBH
发明人：波維賽波利斯 , POVAZAY, BORIS , 派克安頓 , PEIC, ANTUN
IPC分类号： G01L5/00 , H01L21/66 , G01L1/24
CPC分类号： G01L1/242 , G01L1/24 , G01L1/241 , G01L1/247 , G01L1/25 , G01L5/0047 , G01L9/0076 , G01L11/02 , G01N23/046 , G01N2021/1787 , G01N2223/419 , G06F3/0325 , G06F3/041 , G06F3/042 , G06F3/0421 , G06F3/0423 , G06F3/0428 , G06F2203/04109 , H01L22/12
摘要：本發明係關於一種用於藉由如下來決定在將壓力施加至一第一壓力體(5)與一第二壓力體(6)之間之至少一量測層(3)期間之一壓力分佈的量測裝置：至少一發射器(7)，其位於該量測層(3)之一周邊邊緣(3u)上，以沿貫穿該量測層(3)之一第一信號路由及貫穿該量測層(3)之至少一其他信號路由來發射電磁波形式之信號，至少一接收器(8)，其位於該周邊邊緣(3u)上，以接收該(該等)第一信號路由及其他信號路由之信號(9)，該等信號穿過該量測層(3)由該發射器發送，且可在施加壓力時改變。此外，本發明係關於一種相應的方法。
简体摘要：本发明系关于一种用于借由如下来决定在将压力施加至一第一压力体(5)与一第二压力体(6)之间之至少一量测层(3)期间之一压力分布的量测设备：至少一发射器(7)，其位于该量测层(3)之一周边边缘(3u)上，以沿贯穿该量测层(3)之一第一信号路由及贯穿该量测层(3)之至少一其他信号路由来发射电磁波形式之信号，至少一接收器(8)，其位于该周边边缘(3u)上，以接收该(该等)第一信号路由及其他信号路由之信号(9)，该等信号穿过该量测层(3)由该发射器发送，且可在施加压力时改变。此外，本发明系关于一种相应的方法。

6. 发明专利

TWI442036B 薄膜殘留應力之量測方法有权
简体标题：薄膜残留应力之量测方法
公开(公告)号：TWI442036B
公开(公告)日：2014-06-21
申请号：TW099139280
申请日：2010-11-16
申请人：逢甲大學 , FENG CHIA UNIVERSITY
发明人：田春林
IPC分类号： G01L1/24

7. 发明专利

TWI396836B 壓力測定用材料有权
简体标题：压力测定用材料
公开(公告)号：TWI396836B
公开(公告)日：2013-05-21
申请号：TW097124014
申请日：2008-06-27
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：渡邊努 , WATANABE, TSUTOMU , 松本孝之 , MATSUMOTO, TAKAYUKI
IPC分类号： G01L1/24
CPC分类号： G01L1/247 , H05K1/0269 , H05K3/1233

8. 发明专利

TW201910736A 光學應力感測元件、系統及方法审中-公开
简体标题：光学应力传感组件、系统及方法
公开(公告)号：TW201910736A
公开(公告)日：2019-03-16
申请号：TW106127012
申请日：2017-08-10
申请人：國立交通大學 , NATIONAL CHIAO TUNG UNIVERSITY
发明人：盧贊文 , LU, TSAN-WEN , 吳家政 , WU, CHIA-CHENG , 李柏璁 , LEE, PO-TSUNG
IPC分类号： G01L1/24 , G02B27/00
摘要：本發明提供一種光學應力感測元件，乃將至少兩個光學應力感測單元包覆於一包覆體內而可受應力作用來產生形變，其中，每個光學應力感測單元是由多個奈米柱體沿著單一排列方向所構成，這些光學應力感測單元於平面上是以相對於一座標軸夾不同角度來排列，且其兩兩相鄰的夾角為銳角。當光學應力感測元件在平面上受到一未知應力，可透過各光學應力感測單元之光學共振波長變化與資料庫比對後，而感知應力之方向、種類與大小。此外，本發明還提出一種基於該光學應力感測元件之感測系統及感測方法。
简体摘要：本发明提供一种光学应力传感组件，乃将至少两个光学应力传感单元包覆于一包覆体内而可受应力作用来产生形变，其中，每个光学应力传感单元是由多个奈米柱体沿着单一排列方向所构成，这些光学应力传感单元于平面上是以相对于一座标轴夹不同角度来排列，且其两两相邻的夹角为锐角。当光学应力传感组件在平面上受到一未知应力，可透过各光学应力传感单元之光学共振波长变化与数据库比对后，而感知应力之方向、种类与大小。此外，本发明还提出一种基于该光学应力传感组件之传感系统及传感方法。

9. 发明专利

TWI633287B 光學應力感測元件、系統及方法有权
简体标题：光学应力传感组件、系统及方法
公开(公告)号：TWI633287B
公开(公告)日：2018-08-21
申请号：TW106127012
申请日：2017-08-10
申请人：國立交通大學 , NATIONAL CHIAO TUNG UNIVERSITY
发明人：盧贊文 , LU, TSAN-WEN , 吳家政 , WU, CHIA-CHENG , 李柏璁 , LEE, PO-TSUNG
IPC分类号： G01L1/24 , G02B27/00

10. 发明专利

TWI628422B 基於時間域相位展開之應力分析方法有权
简体标题：基于时间域相位展开之应力分析方法
公开(公告)号：TWI628422B
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW105123152
申请日：2016-07-22
申请人：國立清華大學 , NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY
发明人：王偉中 , WANG, WEI-CHUNG , 宋泊錡 , SUNG, PO-CHI , 江禹安 , CHIANG, YU-AN , 洪德恆 , HUNG, TE-HENG
IPC分类号： G01L1/24 , G01L5/00

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