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1. 发明专利

TW201600537A 含氟丙烯酸化合物及其製造方法以及硬化性組成物、基材审中-公开
简体标题：含氟丙烯酸化合物及其制造方法以及硬化性组成物、基材
公开(公告)号：TW201600537A
公开(公告)日：2016-01-01
申请号：TW104110254
申请日：2015-03-30
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：坂野安則 , SAKANO, YASUNORI
IPC分类号： C08G65/333 , C08G65/336 , C08G65/337 , B32B27/30
摘要：本發明之課題為提供一種溶解性優異，且可容易合成的含氟丙烯酸化合物及其製法、包含其之硬化性組成物、具有此硬化被膜之基材。本發明之解決手段為一種含氟丙烯酸化合物，其特徵為下述式(1)或(2)所表示者；[Rf1-Z1]a-Q1-[CH2-CHR1-Z2-CHR2-OR3]b (1) [R3O-CHR2-Z2-CHR1-CH2]b-Q2-Z1-Rf2-Z1-Q2-[CH2-CHR1-Z2-CHR2-OR3]b (2)(式中，Rf1為分子量400~20,000之1價之全氟聚醚基，Rf2為分子量400~20,000之2價之全氟聚醚基，Z1為可包含O、N、Si之2價烴基；Q1為包含Si之(a+b)價之連結基，Q2為包含Si之(b+1)價之連結基；Z2為可包含O、N之2價烴基；R1為H或1價烴基，R2為1價烴基，Z2與R1、Z2與R2係亦可鍵結而形成環狀構造，又亦可R1與R2鍵結而形成包含Z2之環狀構造；a、b為1~10；R3係H，或具有可包含O、N之丙烯醯基或含有α取代丙烯醯基之1價有機基，R3係具有1個以上之前述1價有機基)。
简体摘要：本发明之课题为提供一种溶解性优异，且可容易合成的含氟丙烯酸化合物及其制法、包含其之硬化性组成物、具有此硬化被膜之基材。本发明之解决手段为一种含氟丙烯酸化合物，其特征为下述式(1)或(2)所表示者；[Rf1-Z1]a-Q1-[CH2-CHR1-Z2-CHR2-OR3]b (1) [R3O-CHR2-Z2-CHR1-CH2]b-Q2-Z1-Rf2-Z1-Q2-[CH2-CHR1-Z2-CHR2-OR3]b (2)(式中，Rf1为分子量400~20,000之1价之全氟聚醚基，Rf2为分子量400~20,000之2价之全氟聚醚基，Z1为可包含O、N、Si之2价烃基；Q1为包含Si之(a+b)价之链接基，Q2为包含Si之(b+1)价之链接基；Z2为可包含O、N之2价烃基；R1为H或1价烃基，R2为1价烃基，Z2与R1、Z2与R2系亦可键结而形成环状构造，又亦可R1与R2键结而形成包含Z2之环状构造；a、b为1~10；R3系H，或具有可包含O、N之丙烯酰基或含有α取代丙烯酰基之1价有机基，R3系具有1个以上之前述1价有机基)。

2. 发明专利

TW201336891A 含有氟氧伸烷基之聚合物組成物、含有該組成物之表面處理劑、使用該表面處理劑處理的物品及光學物品审中-公开
简体标题：含有氟氧伸烷基之聚合物组成物、含有该组成物之表面处理剂、使用该表面处理剂处理的物品及光学物品
公开(公告)号：TW201336891A
公开(公告)日：2013-09-16
申请号：TW101140530
申请日：2012-11-01
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：小森久敏 , KOMORI, HISATOSHI , 山根祐治 , YAMANE, YUJI , 小池則之 , KOIKE, NORIYUKI
IPC分类号： C08G65/336 , C08G65/337 , C08L71/02 , C03C17/30
CPC分类号： C03C17/30 , C03C2217/76 , C08G65/007 , C08G65/336 , C08G2650/48 , C08L71/02 , C08L2205/02 , Y10T428/3154
摘要：本發明提供一種形成撥水撥油性、低動摩擦性、脫模性、髒污擦拭性優異，且耐刮傷性、對基材之密著性、耐鹼性優異之被膜之含有氟氧伸烷基之聚合物組成物，以及含有該聚合物組成物之表面處理劑、物品及光學物品。本發明提供一種含有氟氧伸烷基之聚合物組成物，其特徵為以下述平均組成式(1)表示之含有氟氧伸烷基之聚合物組成物，其末端Rf2基數相對於全部末端基數之比例為30%以上75%以下，且包含單末端含有水解性矽烷基之聚合物及兩末端含有水解性矽烷基之聚合物者，【化1】A-Rf1-B (1) (Rf1為二價之直鏈型氟氧伸烷基，A、B為Rf2基或以式(2)表示之基，Z為含矽伸烷基構造或矽伸芳基構造，且不含矽氧烷鍵之2~7價之連結基，X為水解性基)。
简体摘要：本发明提供一种形成拨水拨油性、低动摩擦性、脱模性、脏污擦拭性优异，且耐刮伤性、对基材之密着性、耐碱性优异之被膜之含有氟氧伸烷基之聚合物组成物，以及含有该聚合物组成物之表面处理剂、物品及光学物品。本发明提供一种含有氟氧伸烷基之聚合物组成物，其特征为以下述平均组成式(1)表示之含有氟氧伸烷基之聚合物组成物，其末端Rf2基数相对于全部末端基数之比例为30%以上75%以下，且包含单末端含有水解性硅烷基之聚合物及两末端含有水解性硅烷基之聚合物者，【化1】A-Rf1-B (1) (Rf1为二价之直链型氟氧伸烷基，A、B为Rf2基或以式(2)表示之基，Z为含硅伸烷基构造或硅伸芳基构造，且不含硅氧烷键之2~7价之链接基，X为水解性基)。

3. 发明专利

TWI663185B 含氟丙烯酸化合物及其製造方法以及硬化性組成物、基材有权
简体标题：含氟丙烯酸化合物及其制造方法以及硬化性组成物、基材
公开(公告)号：TWI663185B
公开(公告)日：2019-06-21
申请号：TW104110254
申请日：2015-03-30
申请人：日商信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：坂野安則 , SAKANO, YASUNORI
IPC分类号： C08G65/333 , C08G65/336 , C08G65/337 , B32B27/30

4. 发明专利

TWI547510B 含有氟氧伸烷基之聚合物組成物、含有該組成物之表面處理劑、使用該表面處理劑處理的物品及光學物品有权
简体标题：含有氟氧伸烷基之聚合物组成物、含有该组成物之表面处理剂、使用该表面处理剂处理的物品及光学物品
公开(公告)号：TWI547510B
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW101140530
申请日：2012-11-01
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：小森久敏 , KOMORI, HISATOSHI , 山根祐治 , YAMANE, YUJI , 小池則之 , KOIKE, NORIYUKI
IPC分类号： C08G65/336 , C08G65/337 , C08L71/02 , C03C17/30
CPC分类号： C03C17/30 , C03C2217/76 , C08G65/007 , C08G65/336 , C08G2650/48 , C08L71/02 , C08L2205/02 , Y10T428/3154

5. 发明专利

TWI698459B 經含有氟聚醚之聚合物改質的矽烷有权
简体标题：经含有氟聚醚之聚合物改质的硅烷
公开(公告)号：TWI698459B
公开(公告)日：2020-07-11
申请号：TW105116455
申请日：2016-05-26
申请人：日商信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：酒匂𨺓介 , SAKOH, RYUSUKE , 松田高至 , MATSUDA, TAKASHI , 山根祐治 , YAMANE, YUJI
IPC分类号： C08G65/332 , C08G65/336 , C08G65/337

6. 发明专利

TW201630972A 含有鹵化全氟聚醚基的化合物及其製造方法审中-公开
简体标题：含有卤化全氟聚醚基的化合物及其制造方法
公开(公告)号：TW201630972A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW104140501
申请日：2015-12-03
申请人：大金工業股份有限公司 , DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
发明人：三橋尚志 , MITSUHASHI, HISASHI , 並川敬 , NAMIKAWA, TAKASHI , 高野真由子 , TAKANO, MAYUKO , 平賀健太郎 , HIRAGA, KENTAROU , 杉山明平 , SUGIYAMA, AKINARI
IPC分类号： C08G65/337
摘要：本發明係提供一種下述通式(I’)所示之化合物的製造方法：Rf-PFPE-OCFR1-(CF2)m-(Q”)l-Y‧‧‧(I’)[式中，各符號係與說明書之記載為相同意義]，其係包括使下述通式(A)所示之化合物與下述式(B)所示之化合物反應之方法：Rf-PFPE-OCFR1-(CF2)m-(CH2)n-OH‧‧‧(A)[式中，各符號係與說明書之記載為相同意義]CR22=CR3-Q’-CFR4-Y‧‧‧(B)[式中，各符號係與說明書之記載為相同意義]。
简体摘要：本发明系提供一种下述通式(I’)所示之化合物的制造方法：Rf-PFPE-OCFR1-(CF2)m-(Q”)l-Y‧‧‧(I’)[式中，各符号系与说明书之记载为相同意义]，其系包括使下述通式(A)所示之化合物与下述式(B)所示之化合物反应之方法：Rf-PFPE-OCFR1-(CF2)m-(CH2)n-OH‧‧‧(A)[式中，各符号系与说明书之记载为相同意义]CR22=CR3-Q’-CFR4-Y‧‧‧(B)[式中，各符号系与说明书之记载为相同意义]。

7. 发明专利

TW201739787A 含有氟聚醚基之聚合物改質矽烷、表面處理劑及物品审中-公开
简体标题：含有氟聚醚基之聚合物改质硅烷、表面处理剂及物品
公开(公告)号：TW201739787A
公开(公告)日：2017-11-16
申请号：TW105138433
申请日：2016-11-23
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：酒匂介 , SAKOH, RYUSUKE , 松田高至 , MATSUDA, TAKASHI , 山根祐治 , YAMANE, YUJI
IPC分类号： C08G65/337 , C09D171/02 , C09K3/18
CPC分类号： C08G65/337 , C09D171/02 , C09K3/18
摘要：本發明提供能形成滑動性優異的撥水撥油層之含有氟聚醚基之聚合物改質矽烷、及含該矽烷的表面處理劑、以及經該表面處理劑所表面處理之(即，在表面上具有該表面處理劑的硬化被膜)物品。一種以下式(1)表示的含有氟聚醚基之聚合物改質矽烷， (式中，Rf係1價或2價之含有氟氧伸烷基(fluorooxyalkylene)的聚合物殘基，Y係可具有矽氧烷鍵及/或亞矽烷基之2~6價的烴基，R係碳數1~4的烷基或苯基，X係羥基或水解性基，Q係可具有矽氧烷鍵及/或亞矽烷基的2價有機基，R’係1價氟烷基、1價之含有氟氧伸烷基的聚合物殘基、碳數1~4的烷基或苯基，n為1~3之整數，m為1~5之整數，α為1或2)。
简体摘要：本发明提供能形成滑动性优异的拨水拨油层之含有氟聚醚基之聚合物改质硅烷、及含该硅烷的表面处理剂、以及经该表面处理剂所表面处理之(即，在表面上具有该表面处理剂的硬化被膜)物品。一种以下式(1)表示的含有氟聚醚基之聚合物改质硅烷， (式中，Rf系1价或2价之含有氟氧伸烷基(fluorooxyalkylene)的聚合物残基，Y系可具有硅氧烷键及/或亚硅烷基之2~6价的烃基，R系碳数1~4的烷基或苯基，X系羟基或水解性基，Q系可具有硅氧烷键及/或亚硅烷基的2价有机基，R’系1价氟烷基、1价之含有氟氧伸烷基的聚合物残基、碳数1~4的烷基或苯基，n为1~3之整数，m为1~5之整数，α为1或2)。

8. 发明专利

TW201714918A 經含有氟聚醚之聚合物改質的矽烷审中-公开
简体标题：经含有氟聚醚之聚合物改质的硅烷
公开(公告)号：TW201714918A
公开(公告)日：2017-05-01
申请号：TW105116455
申请日：2016-05-26
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：酒匂介 , SAKOH, RYUSUKE , 松田高至 , MATSUDA, TAKASHI , 山根祐治 , YAMANE, YUJI
IPC分类号： C08G65/332 , C08G65/336 , C08G65/337
CPC分类号： C08G65/336 , C08G65/007
摘要：可合成具有經羰基、磺醯基或磷醯基保護之羥基的經含有氟聚醚之聚合物改質的矽烷而未生成副產物。
简体摘要：可合成具有经羰基、磺酰基或磷酰基保护之羟基的经含有氟聚醚之聚合物改质的硅烷而未生成副产物。

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