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1. 发明专利

TW201841874A 化合物、樹脂、組成物、圖型形成方法及純化方法审中-公开
简体标题：化合物、树脂、组成物、图型形成方法及纯化方法
公开(公告)号：TW201841874A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107106098
申请日：2018-02-23
申请人：日商三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：三樹泰 , MIKI, YASUSHI , 牧野嶋高史 , MAKINOSHIMA, TAKASHI , 越後雅敏 , ECHIGO, MASATOSHI
IPC分类号： C07C39/15 , C07C39/17 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/022 , C08G8/04 , G03F7/11 , G03F7/40 , H01L21/027
摘要：本發明為提供一種對溶劑溶解性優異且能適用於濕式製程，耐熱性及蝕刻耐性優異之有用於微影術用膜形成的化合物、樹脂及組成物。又，提供一種使用該組成物之圖型形成方法。進而提供一種該化合物及樹脂之純化方法。使用含有具有特定構造之化合物及/或具有來自於該化合物之構成單位的樹脂之組成物。
简体摘要：本发明为提供一种对溶剂溶解性优异且能适用于湿式制程，耐热性及蚀刻耐性优异之有用于微影术用膜形成的化合物、树脂及组成物。又，提供一种使用该组成物之图型形成方法。进而提供一种该化合物及树脂之纯化方法。使用含有具有特定构造之化合物及/或具有来自于该化合物之构成单位的树脂之组成物。

2. 发明专利

TW201827419A 光學構件形成組成物审中-公开
简体标题：光学构件形成组成物
公开(公告)号：TW201827419A
公开(公告)日：2018-08-01
申请号：TW106131478
申请日：2017-09-13
申请人：日商三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：越後雅敏 , ECHIGO, MASATOSHI
IPC分类号： C07D311/78 , C07C39/15 , C07C39/17 , C08G8/20 , C08L61/12 , G02B1/04
摘要：本發明係一種光學構件形成組成物，其係含有下述式(0)表示之化合物
简体摘要：本发明系一种光学构件形成组成物，其系含有下述式(0)表示之化合物

4. 发明专利

TW201741273A 具有茀骨架的雙酚類、其製造方法，以及衍生自該雙酚類之聚芳酯樹脂、（甲基）丙烯酸酯化合物及環氧樹脂审中-公开
简体标题：具有茀骨架的双酚类、其制造方法，以及衍生自该双酚类之聚芳酯树脂、（甲基）丙烯酸酯化合物及环氧树脂
公开(公告)号：TW201741273A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW106102625
申请日：2017-01-24
申请人：田岡化學工業股份有限公司 , TAOKA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：西田有児 , NISHIDA, YUJI , 佐伯崇史 , SAIKI, TAKAFUMI , 松島歩海 , MATSUSHIMA, AYUMI , 森尾英樹 , MORIO, HIDEKI , 森永侑加 , MORINAGA, YUKA , 河村芳範 , KAWAMURA, YOSHINORI
IPC分类号： C07C39/17 , C07C37/20 , C08G63/199 , C07C69/587 , C07C67/03 , C07C67/08 , C08F20/20 , C08G59/06 , C08L33/10 , C08L63/00 , G02B1/04
CPC分类号： C07C37/48 , C07C39/17
摘要：一種以下通式(1)表示之雙酚類， (式中，R1至R4係各自相同或不同且表示烷基、芳基或鹵素原子，n1及n2係各自相同或不同且表示1至4的整數，k1至k4係各自相同或不同且表示0或1至4的整數，k1至k4之中，至少1個為2以上時，各自對應之R1至R4可相同亦可不同)。
简体摘要：一种以下通式(1)表示之双酚类， (式中，R1至R4系各自相同或不同且表示烷基、芳基或卤素原子，n1及n2系各自相同或不同且表示1至4的整数，k1至k4系各自相同或不同且表示0或1至4的整数，k1至k4之中，至少1个为2以上时，各自对应之R1至R4可相同亦可不同)。

5. 发明专利

TW201634434A 包含環脂族部分之多酚化合物及環氧樹脂以及其等製造方法审中-公开
简体标题：包含环脂族部分之多酚化合物及环氧树脂以及其等制造方法
公开(公告)号：TW201634434A
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW105104094
申请日：2009-03-11
申请人：陶氏全球科技有限責任公司 , DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC
发明人：赫恩羅伯特L , HEARN, ROBERT L. , 戴特勞夫馬文L , DETTLOFF, MARVIN L. , 瓦爾加斯費比歐A , VARGAS, FABIO AGUIRRE , 傑可喬治 , JACOB, GEORGE
IPC分类号： C07C37/20 , C08G59/08 , C08G59/20 , C08G59/40 , C08G59/14 , C07C39/17 , C07D303/27
CPC分类号： C08G59/3218 , C07C37/20 , C07C39/17
摘要：包含環脂族部分之環氧樹脂以及多酚化合物之混合物，其等之製造方法以及包含此等樹脂及/或混合物之混合物與被固化的產物。
简体摘要：包含环脂族部分之环氧树脂以及多酚化合物之混合物，其等之制造方法以及包含此等树脂及/或混合物之混合物与被固化的产物。

6. 发明专利

TWI434824B 金剛烷衍生物、其製造方法及含有金剛烷衍生物之樹脂組合物有权
简体标题：金刚烷衍生物、其制造方法及含有金刚烷衍生物之树脂组合物
公开(公告)号：TWI434824B
公开(公告)日：2014-04-21
申请号：TW096144604
申请日：2007-11-23
申请人：出光興產股份有限公司 , IDEMITSU KOSAN CO., LTD.
发明人：伊藤克樹 , ITO, KATSUKI , 岡田保也 , OKADA, YASUNARI , 山根秀樹 , YAMANE, HIDEKI , 小島明雄 , KOJIMA, AKIO
IPC分类号： C07C39/17 , C07C39/18 , C07C67/26 , C07D303/30 , C08F20/30 , C08G59/20
CPC分类号： C08F20/30 , C07C39/17 , C07C67/26 , C07C2603/74 , C07D303/30 , C08G59/3218 , H05K3/287 , C07C69/54

7. 发明专利

TWI432408B 化合物及敏輻射線性組成物有权
简体标题：化合物及敏辐射线性组成物
公开(公告)号：TWI432408B
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：TW097100580
申请日：2008-01-07
申请人： JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：清水大輔 , SHIMIZU, DAISUKE , 丸山研 , MARUYAMA, KEN , 甲斐敏之 , KAI, TOSHIYUKI , 下川努 , SHIMOKAWA, TSUTOMU
IPC分类号： C07C39/17 , G03F7/004
CPC分类号： C07C39/17 , C07C43/23 , C07C69/712 , G03F7/004 , G03F7/0392 , Y10S430/115 , Y10S430/12 , Y10S430/122

8. 发明专利

TW201313674A 降烷系ＰＡＣ安定物之製備审中-公开
简体标题：降烷系ＰＡＣ安定物之制备
公开(公告)号：TW201313674A
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：TW100141791
申请日：2011-11-16
申请人：普羅梅勒斯有限公司 , PROMERUS LLC , 住友電木股份有限公司 , SUMITOMO BAKELITE COMPANY LIMITED
发明人：貝爾安德魯 , BELL, ANDREW , 瀨戶圭太郎 , SETO, KEITARO , 真壁広明 , MAKABE, HIROAKI , 艾斯愛德蒙 , ELCE, EDMUND
IPC分类号： C07C39/17 , C07C43/178 , C07C309/77 , G03F7/039
摘要：依照本發明之具體實施例提供降烷型安定物材料、由此安定物材料所衍生的降烷型光活性化合物、及包含此降烷型光活性化合物與PBO或PNB樹脂之一的鹼溶性正色調聚合物組成物。
简体摘要：依照本发明之具体实施例提供降烷型安定物材料、由此安定物材料所衍生的降烷型光活性化合物、及包含此降烷型光活性化合物与PBO或PNB树脂之一的碱溶性正色调聚合物组成物。

9. 发明专利

TWI643843B 含五碳環衍生物聚胺酯之製備方法有权
简体标题：含五碳环衍生物聚胺酯之制备方法
公开(公告)号：TWI643843B
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：TW106126996
申请日：2017-08-10
申请人：國家中山科學研究院 , NATIONAL CHUNG-SHAN INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
发明人：蘇文炯 , SU, WEN CHIUNG , 吳建欣 , WU, CHIEN HSIN , 林玉如 , LIN, YU RU , 戴憲弘 , DAI, SHENG HONG , 鄭如忠 , CHEN, RU JONG
IPC分类号： C07C4/22 , C07C37/14 , C07C39/17 , C08G18/10 , C08G18/42 , C08G18/32 , C08G18/76

10. 发明专利

TW201835146A 包接化合物及其製造方法以及其用途审中-公开
简体标题：包接化合物及其制造方法以及其用途
公开(公告)号：TW201835146A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW106126240
申请日：2017-08-03
申请人：日商大阪瓦斯化學股份有限公司 , OSAKA GAS CHEMICALS CO., LTD.
发明人：山形憲一 , YAMAGATA, KENICHI , 田慎一郎 , TSUKADA, SHINICHIRO , 安田祐一郎 , YASUDA, YUICHIRO
IPC分类号： C08G59/56 , C07D233/56 , C07D233/58 , C07C39/17
摘要：本發明之包接化合物係含有式(1)所示具有酚性羥基之具有9,9-雙芳基茀骨架之化合物作為主體，並含有式(2)所示具有含複數氮原子之5或6員雜環或其縮合雜環之化合物作為客體。前述包接化合物可用作為環氧樹脂之硬化劑及/或硬化促進劑。 (式中，Ar1、Ar2、Z1及Z2係表示單環式或縮合多環式芳烴環；R1、R2、R3及R4係表示取代基；n1及n2係表示0至4之整數，n1及n2中至少一者為1以上之整數；m1、m2、p1及p2係分別相同或相異且表示0至4之整數； R5係表示氫原子、烷基、氰基乙基，三-烷基等，R6至R8係表示氫原子、烷基、芳基等，R5與R6可互相鍵結而形成環；q表示0或1至3之整數；實線與虛線之雙重線係表示單鍵或雙鍵。)
简体摘要：本发明之包接化合物系含有式(1)所示具有酚性羟基之具有9,9-双芳基茀骨架之化合物作为主体，并含有式(2)所示具有含复数氮原子之5或6员杂环或其缩合杂环之化合物作为客体。前述包接化合物可用作为环氧树脂之硬化剂及/或硬化促进剂。 (式中，Ar1、Ar2、Z1及Z2系表示单环式或缩合多环式芳烃环；R1、R2、R3及R4系表示取代基；n1及n2系表示0至4之整数，n1及n2中至少一者为1以上之整数；m1、m2、p1及p2系分别相同或相异且表示0至4之整数； R5系表示氢原子、烷基、氰基乙基，三-烷基等，R6至R8系表示氢原子、烷基、芳基等，R5与R6可互相键结而形成环；q表示0或1至3之整数；实线与虚线之双重线系表示单键或双键。)

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