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1. 发明专利

TWI376151B 利用具有交錯像素之多晶片掃描成像器 SCANNING IMAGER EMPLOYING MULTIPLE CHIPS WITH STAGGERED PIXELS 失效
简体标题：利用具有交错像素之多芯片扫描成像器 SCANNING IMAGER EMPLOYING MULTIPLE CHIPS WITH STAGGERED PIXELS
公开(公告)号：TWI376151B
公开(公告)日：2012-11-01
申请号：TW096140820
申请日：2007-10-30
申请人：潘諾維森影像有限公司
发明人：傑佛瑞J 查諾斯基 , 凱坦V 克瑞 , 麥可裘尼爾 , 湯瑪斯波尼 , 劉立
IPC分类号： H04N , H01L
CPC分类号： H04N5/2254 , H01L27/14603 , H01L27/14621 , H01L27/14627 , H04N1/1911 , H04N1/1917 , H04N5/3692 , H04N9/045 , H04N2201/0081
摘要：本發明揭示一種固態成像系統，其具有採用第一及第二像素系列(191、192、193)的至少一個CMOS成像器(190)，其中一系列之像素關於另一系列之像素偏移，即交錯。可將多個成像器以端對端方式排列，而且採用跳接線(48)連接該等像素輸出導體或分別使該等像素饋送至用於各系列之一共同輸出放大器(160、161)，以最小化晶片至晶片偏移電壓。該等像素可沿對角彼此偏移，並且可構造一彩色成像器，其中橫跨該成像區域沿對角配置彩色條帶濾波器。此配置最小化顏色串擾。將一微透鏡陣列(200、210、210'、211)定位成各微透鏡覆蓋複數個該等像素。可沿一對角線對準各微透鏡下方之該等像素。該相同微透鏡下方之該等不同像素可具有不同整合時間，以增加該(等)成像器之動態範圍。
简体摘要：本发明揭示一种固态成像系统，其具有采用第一及第二像素系列(191、192、193)的至少一个CMOS成像器(190)，其中一系列之像素关于另一系列之像素偏移，即交错。可将多个成像器以端对端方式排列，而且采用跳接线(48)连接该等像素输出导体或分别使该等像素馈送至用于各系列之一共同输出放大器(160、161)，以最小化芯片至芯片偏移电压。该等像素可沿对角彼此偏移，并且可构造一彩色成像器，其中横跨该成像区域沿对角配置彩色条带滤波器。此配置最小化颜色串扰。将一微透镜数组(200、210、210'、211)定位成各微透镜覆盖复数个该等像素。可沿一对角线对准各微透镜下方之该等像素。该相同微透镜下方之该等不同像素可具有不同集成时间，以增加该(等)成像器之动态范围。

2. 发明专利

TWI356552B 面射雷射二極體、面射雷射二極體陣列、光掃描設備及影像形成設備 SURFACE-EMISSION LASER DIODE, SURFACE-EMISSION LASER DIODE ARRAY, OPTICAL SCANNING APPARATUS AND IMAGE FORMING APPARATUS 有权
简体标题：面射激光二极管、面射激光二极管数组、光扫描设备及影像形成设备 SURFACE-EMISSION LASER DIODE, SURFACE-EMISSION LASER DIODE ARRAY, OPTICAL SCANNING APPARATUS AND IMAGE FORMING APPARATUS
公开(公告)号：TWI356552B
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：TW096130360
申请日：2007-08-16
申请人：理光股份有限公司
发明人：伊藤彰浩 , 佐藤俊一
IPC分类号： H01S
CPC分类号： H01S5/18322 , B82Y20/00 , H01S5/18311 , H01S5/18338 , H01S5/18355 , H01S5/3202 , H01S5/34313 , H01S5/423 , H01S2304/00 , H04N1/1135 , H04N1/1912 , H04N1/1917
摘要：一垂直空腔面射雷射結構的面射雷射二極體包含一基板及一平台結構形成在該基板上，該平台結構中包含有一電流侷限結構，其中該電流侷限結構包含有一導電電流侷限區及一絕緣區，包圍住該導電電流侷限區，該絕緣區係為形成該導電電流侷限區之半導體材料的氧化物，及其中該電流侷限區的中心在垂直於雷射振盪方向的一平面中，係偏移開平台結構的中心。
简体摘要：一垂直空腔面射激光结构的面射激光二极管包含一基板及一平台结构形成在该基板上，该平台结构中包含有一电流局限结构，其中该电流局限结构包含有一导电电流局限区及一绝缘区，包围住该导电电流局限区，该绝缘区系为形成该导电电流局限区之半导体材料的氧化物，及其中该电流局限区的中心在垂直于激光振荡方向的一平面中，系偏移开平台结构的中心。

3. 发明专利

TW200833082A 利用具有交錯像素之多晶片掃描成像器 SCANNING IMAGER EMPLOYING MULTIPLE CHIPS WITH STAGGERED PIXELS 失效
简体标题：利用具有交错像素之多芯片扫描成像器 SCANNING IMAGER EMPLOYING MULTIPLE CHIPS WITH STAGGERED PIXELS
公开(公告)号：TW200833082A
公开(公告)日：2008-08-01
申请号：TW096140820
申请日：2007-10-30
申请人：潘諾維森影像有限公司 PANAVISION IMAGING LLC
发明人：傑佛瑞J 查諾斯基 ZARNOWSKI, JEFFREY J. , 凱坦V 克瑞 KARIA, KETAN V. , 麥可裘尼爾 JOYNER, MICHAEL , 湯瑪斯波尼 POONNEN, THOMAS , 劉立 LIU, LI
IPC分类号： H04N , H01L
CPC分类号： H04N5/2254 , H01L27/14603 , H01L27/14621 , H01L27/14627 , H04N1/1911 , H04N1/1917 , H04N5/3692 , H04N9/045 , H04N2201/0081
摘要：本發明揭示一種固態成像系統,其具有採用第一及第二像素系列(191、192、193)的至少一個CMOS成像器(190),其中一系列之像素關於另一系列之像素偏移,即交錯。可將多個成像器以端對端方式排列,而且採用跳接線(48)連接該等像素輸出導體或分別使該等像素饋送至用於各系列之一共同輸出放大器(160、161),以最小化晶片至晶片偏移電壓。該等像素可沿對角彼此偏移,並且可構造一彩色成像器,其中橫跨該成像區域沿對角配置彩色條帶濾波器。此配置最小化顏色串擾。將一微透鏡陣列(200、210、210'、211)定位成各微透鏡覆蓋複數個該等像素。可沿一對角線對準各微透鏡下方之該等像素。該相同微透鏡下方之該等不同像素可具有不同整合時間,以增加該(等)成像器之動態範圍。
简体摘要：本发明揭示一种固态成像系统,其具有采用第一及第二像素系列(191、192、193)的至少一个CMOS成像器(190),其中一系列之像素关于另一系列之像素偏移,即交错。可将多个成像器以端对端方式排列,而且采用跳接线(48)连接该等像素输出导体或分别使该等像素馈送至用于各系列之一共同输出放大器(160、161),以最小化芯片至芯片偏移电压。该等像素可沿对角彼此偏移,并且可构造一彩色成像器,其中横跨该成像区域沿对角配置彩色条带滤波器。此配置最小化颜色串扰。将一微透镜数组(200、210、210'、211)定位成各微透镜覆盖复数个该等像素。可沿一对角线对准各微透镜下方之该等像素。该相同微透镜下方之该等不同像素可具有不同集成时间,以增加该(等)成像器之动态范围。

4. 发明专利

TW200816585A 面射雷射二極體、面射雷射二極體陣列、光掃描設備及影像形成設備 SURFACE-EMISSION LASER DIODE, SURFACE-EMISSION LASER DIODE ARRAY, OPTICAL SCANNING APPARATUS AND IMAGE FORMING APPARATUS 审中-公开
简体标题：面射激光二极管、面射激光二极管数组、光扫描设备及影像形成设备 SURFACE-EMISSION LASER DIODE, SURFACE-EMISSION LASER DIODE ARRAY, OPTICAL SCANNING APPARATUS AND IMAGE FORMING APPARATUS
公开(公告)号：TW200816585A
公开(公告)日：2008-04-01
申请号：TW096130360
申请日：2007-08-16
申请人：理光股份有限公司 RICOH COMPANY, LTD.
发明人：伊藤彰浩 ITOH, AKIHIRO , 佐藤俊一 SATO, SHUNICHI
IPC分类号： H01S
CPC分类号： H01S5/18322 , B82Y20/00 , H01S5/18311 , H01S5/18338 , H01S5/18355 , H01S5/3202 , H01S5/34313 , H01S5/423 , H01S2304/00 , H04N1/1135 , H04N1/1912 , H04N1/1917
摘要：一垂直空腔面射雷射結構的面射雷射二極體包含一基板及一平台結構形成在該基板上,該平台結構中包含有一電流侷限結構,其中該電流侷限結構包含有一導電電流侷限區及一絕緣區,包圍住該導電電流侷限區,該絕緣區係為形成該導電電流侷限區之半導體材料的氧化物,及其中該電流侷限區的中心在垂直於雷射振盪方向的一平面中,係偏移開平台結構的中心。
简体摘要：一垂直空腔面射激光结构的面射激光二极管包含一基板及一平台结构形成在该基板上,该平台结构中包含有一电流局限结构,其中该电流局限结构包含有一导电电流局限区及一绝缘区,包围住该导电电流局限区,该绝缘区系为形成该导电电流局限区之半导体材料的氧化物,及其中该电流局限区的中心在垂直于激光振荡方向的一平面中,系偏移开平台结构的中心。

5. 发明专利

TW458898B 使用一噴墨印表機中之一印刷頭以印刷於一印刷物上之方法失效
简体标题：使用一喷墨打印机中之一印刷头以印刷于一印刷物上之方法
公开(公告)号：TW458898B
公开(公告)日：2001-10-11
申请号：TW087103759
申请日：1998-03-24
申请人：利盟國際股份有限公司
发明人：約翰菲利浦伯拉斯 , 亞德摩哈林詹姆斯三世
IPC分类号： B41J
CPC分类号： G06K15/105 , B41J2/2132 , B41J11/42 , H04N1/12 , H04N1/1911 , H04N1/1917 , H04N2201/046
摘要：本發明係指一種在一印刷物上印刷之方法，其中一重覆定位誤差係誘發於一紙張輸送系統中，以令相關於紙張輸送系統之諧波誤差呈無定向、偏曲或重新分配。印刷物在噴墨印表機中利用紙張輸送系統而以一前行方向前行至一暫存位置，印刷頭中之一第一子組可位址噴墨細孔組係用於在暫存位置印刷於印刷物上。印刷物隨後依一相反方向移動一預定距離，印刷物再次以前行方向前進且利用紙張輸送系統而重覆定位於暫存位置，該印刷頭中之一第二子組可位址噴墨細孔組用於在暫存位置印刷於重覆定位之印刷物上。
简体摘要：本发明系指一种在一印刷物上印刷之方法，其中一重复定位误差系诱发于一纸张输送系统中，以令相关于纸张输送系统之谐波误差呈无定向、偏曲或重新分配。印刷物在喷墨打印机中利用纸张输送系统而以一前行方向前行至一暂存位置，印刷头中之一第一子组可位址喷墨细孔组系用于在暂存位置印刷于印刷物上。印刷物随后依一相反方向移动一预定距离，印刷物再次以前行方向前进且利用纸张输送系统而重复定位于暂存位置，该印刷头中之一第二子组可位址喷墨细孔组用于在暂存位置印刷于重复定位之印刷物上。

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