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    • 3. 发明专利
    • 插入光源
    • TW201717711A
    • 2017-05-16
    • TW105124373
    • 2016-07-29
    • 日立金屬股份有限公司HITACHI METALS, LTD.
    • 北村英男KITAMURA, HIDEO荒川雅美ARAKAWA, MASAMI
    • H05H7/04
    • H05H7/04H01F7/0221H01F7/0278H05H7/08H05H13/04H05H2007/046H05H2007/087
    • 本發明使補償彈簧機構所產生之反作用力不會對精密之間隙驅動造成影響。 插入光源具備:第1磁鐵列M1與第2磁鐵列M2,其隔著間隙而彼此相向;磁鐵支承體1、2,其安裝且支承磁鐵列;間隙驅動機構50,其用以沿著垂直方向驅動第1磁鐵支承體1、第2磁鐵支承體2,以變更間隙的大小;驅動連動機構,其用以連結間隙驅動機構50與磁鐵支承體1、2;補償彈簧機構40,其將作用於第1磁鐵列M1與第2磁鐵列M2之間的吸引力抵銷;彈簧連動機構,其連結補償彈簧機構40與磁鐵支承體1、2;第1支承框架30,其支承間隙驅動機構50;第2支承框架20,其支承補償彈簧機構40;以及共通基座10,其載置於載置面;第1支承框架30與第2支承框架20分別單獨地結合於共通基座10。
    • 本发明使补偿弹簧机构所产生之反作用力不会对精密之间隙驱动造成影响。 插入光源具备:第1磁铁列M1与第2磁铁列M2,其隔着间隙而彼此相向;磁铁支承体1、2,其安装且支承磁铁列;间隙驱动机构50,其用以沿着垂直方向驱动第1磁铁支承体1、第2磁铁支承体2,以变更间隙的大小;驱动连动机构,其用以链接间隙驱动机构50与磁铁支承体1、2;补偿弹簧机构40,其将作用于第1磁铁列M1与第2磁铁列M2之间的吸引力抵销;弹簧连动机构,其链接补偿弹簧机构40与磁铁支承体1、2;第1支承框架30,其支承间隙驱动机构50;第2支承框架20,其支承补偿弹簧机构40;以及共通基座10,其载置于载置面;第1支承框架30与第2支承框架20分别单独地结合于共通基座10。
    • 5. 发明专利
    • 永久磁鐵式磁場發生裝置
    • 永久磁铁式磁场发生设备
    • TWI367509B
    • 2012-07-01
    • TW094101896
    • 2005-01-21
    • 信越化學工業股份有限公司
    • 樋口大
    • H01F
    • H01F7/0278G01R33/383
    • 本發明是達成高磁場均勻性與低相位差角作為目的。依本發明,提供一種磁場發生裝置,屬於包含配置成環狀的複數永久磁鐵片,在環的內部空間實質上發生一方向的磁場的永久磁鐵式磁場發生裝置,其特徵為:各永久磁鐵片的起磁方向在環的半周進行一旋轉,各永久磁鐵片實質上具有相同強度的磁力,該永久磁鐵片配置成朝該環的中心軸形成凹凸,或是該永久磁鐵片朝該中心軸具有凹凸的形狀。
    • 本发明是达成高磁场均匀性与低相位差角作为目的。依本发明,提供一种磁场发生设备,属于包含配置成环状的复数永久磁铁片,在环的内部空间实质上发生一方向的磁场的永久磁铁式磁场发生设备,其特征为:各永久磁铁片的起磁方向在环的半周进行一旋转,各永久磁铁片实质上具有相同强度的磁力,该永久磁铁片配置成朝该环的中心轴形成凹凸,或是该永久磁铁片朝该中心轴具有凹凸的形状。