专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW542946B 直接至數位立體照像及立體影像之獲取及再現系統之改進失效
简体标题：直接至数码三維照像及三維影像之获取及再现系统之改进
公开(公告)号：TW542946B
公开(公告)日：2003-07-21
申请号：TW090100197
申请日：2001-03-09
申请人：優特貝特責任有限公司
发明人：克勞倫斯E 湯瑪斯 , 葛雷格利R 漢生
IPC分类号： G03H
CPC分类号： G03H1/0406 , G01B9/021 , G03H1/02 , G03H1/0443 , G03H1/0866 , G03H1/0891 , G03H1/22 , G03H1/2249 , G03H1/2294 , G03H2001/0033 , G03H2001/005 , G03H2001/0066 , G03H2001/0088 , G03H2001/0456 , G03H2001/2263 , G03H2210/30 , G03H2222/18 , G03H2226/11
摘要：描述直接至數位立體照像及立體影像之獲取及再現系統之改進，一種離軸立體影像之記錄方法包含：分光雷射光束為物體光束及參考光束；反射該參考光束自參考光束反射鏡；反射該物體光束自照射分光鏡；透過物鏡通過該物體光束；反射該物體光束自物體；聚焦該參考光束及物體光束於數位記錄器之聚焦平面處以形成離軸立體影像；數位地記錄該離軸立體影像；以及根據傅立葉轉換來轉換該離軸立體影像以獲得一組結果。一種離軸立體影像之寫入方法包含：透過空間光線調變器來通過雷射光束；以及聚焦該雷射光束於光折射晶體之聚焦平面處而給與立體照像之繞射光柵圖型於該光折射晶體之上。一種離軸立體影像之再現方法包含：以再現光束來照射具有立體照像之繞射光柵的光折射晶體。
简体摘要：描述直接至数码三維照像及三維影像之获取及再现系统之改进，一种离轴三維影像之记录方法包含：分光激光光束为物体光束及参考光束；反射该参考光束自参考光束反射镜；反射该物体光束自照射分光镜；透过物镜通过该物体光束；反射该物体光束自物体；聚焦该参考光束及物体光束于数码记录器之聚焦平面处以形成离轴三維影像；数码地记录该离轴三維影像；以及根据傅里叶转换来转换该离轴三維影像以获得一组结果。一种离轴三維影像之写入方法包含：透过空间光线调制器来通过激光光束；以及聚焦该激光光束于光折射晶体之聚焦平面处而给与三維照像之绕射光栅图型于该光折射晶体之上。一种离轴三維影像之再现方法包含：以再现光束来照射具有三維照像之绕射光栅的光折射晶体。

2. 发明专利

TW200941151A 電腦所產生的全像及曝光設備 COMPUTER GENERATED HOLOGRAM AND EXPOSURE APPARATUS 失效
简体标题：电脑所产生的全像及曝光设备 COMPUTER GENERATED HOLOGRAM AND EXPOSURE APPARATUS
公开(公告)号：TW200941151A
公开(公告)日：2009-10-01
申请号：TW097149818
申请日：2008-12-19
申请人：佳能股份有限公司
发明人：松原功
IPC分类号： G03F , G06F , G02B
CPC分类号： G03H1/08 , G02B5/32 , G03F7/70158 , G03F7/70216 , G03F7/70566 , G03H1/0891 , G03H2001/2276 , G03H2001/303 , G03H2222/31 , G03H2223/20 , G03H2240/13 , G03H2240/15 , G03H2240/41 , G03H2240/55 , G03H2260/51
摘要：本發明提供了一種電腦所產生的全像，藉由將一相位分佈提供給入射光之波前，而在一預定平面上形成一光強度分佈，該全像包含被配置成改變該入射光的偏振狀態之一第一非等向性細胞及第二非等向性細胞、以及被配置成不改變該入射光的偏振狀態之一第一等向性細胞及第二等向性細胞，其中該第一非等向性細胞的光軸之方向不同於該第二非等向性細胞的光軸之方向，且該第一等向性細胞之厚度不同於該第二等向性細胞之厚度。
简体摘要：本发明提供了一种电脑所产生的全像，借由将一相位分布提供给入射光之波前，而在一预定平面上形成一光强度分布，该全像包含被配置成改变该入射光的偏振状态之一第一非等向性细胞及第二非等向性细胞、以及被配置成不改变该入射光的偏振状态之一第一等向性细胞及第二等向性细胞，其中该第一非等向性细胞的光轴之方向不同于该第二非等向性细胞的光轴之方向，且该第一等向性细胞之厚度不同于该第二等向性细胞之厚度。

3. 发明专利

TWI442198B 電腦產生的全像圖，曝光設備，及半導體裝置製造方法有权
简体标题：电脑产生的全像图，曝光设备，及半导体设备制造方法
公开(公告)号：TWI442198B
公开(公告)日：2014-06-21
申请号：TW097125579
申请日：2008-07-07
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：松原功 , MATSUBARA, ISAO
IPC分类号： G03H1/22 , G02B5/30
CPC分类号： G03H1/08 , G02B5/32 , G03F7/70108 , G03F7/70566 , G03H1/0244 , G03H1/0272 , G03H1/0891 , G03H1/2249 , G03H2001/0495 , G03H2001/2276 , G03H2210/20 , G03H2222/31 , G03H2223/20 , G03H2240/24 , G03H2240/41 , G03H2240/42 , G03H2240/43 , G03H2260/63 , G03H2270/52

4. 发明专利

TWI422983B 電腦所產生的全像及曝光設備失效
简体标题：电脑所产生的全像及曝光设备
公开(公告)号：TWI422983B
公开(公告)日：2014-01-11
申请号：TW097149818
申请日：2008-12-19
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：松原功 , MATSUBARA, ISAO
IPC分类号： G03F7/20 , G06F9/44 , G02B27/46 , G02B27/44
CPC分类号： G03H1/08 , G02B5/32 , G03F7/70158 , G03F7/70216 , G03F7/70566 , G03H1/0891 , G03H2001/2276 , G03H2001/303 , G03H2222/31 , G03H2223/20 , G03H2240/13 , G03H2240/15 , G03H2240/41 , G03H2240/55 , G03H2260/51

5. 发明专利

TW200912575A 電腦產生的全像,曝光設備,及半導體裝置製造方法 COMPUTER GENERATED HOLOGRAM, EXPOSURE APPARATUS, AND SEMICONDUCTOR DEVICE FABRICATION METHOD 审中-公开
简体标题：电脑产生的全像,曝光设备,及半导体设备制造方法 COMPUTER GENERATED HOLOGRAM, EXPOSURE APPARATUS, AND SEMICONDUCTOR DEVICE FABRICATION METHOD
公开(公告)号：TW200912575A
公开(公告)日：2009-03-16
申请号：TW097125579
申请日：2008-07-07
申请人：佳能股份有限公司 CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：松原功 MATSUBARA, ISAO
IPC分类号： G03H , G02B
CPC分类号： G03H1/08 , G02B5/32 , G03F7/70108 , G03F7/70566 , G03H1/0244 , G03H1/0272 , G03H1/0891 , G03H1/2249 , G03H2001/0495 , G03H2001/2276 , G03H2210/20 , G03H2222/31 , G03H2223/20 , G03H2240/24 , G03H2240/41 , G03H2240/42 , G03H2240/43 , G03H2260/63 , G03H2270/52
摘要：本發明提供一種電腦產生的全像,其藉由將一相位分佈授予入射光之一波前而在一預定平面上形成一光强度分佈,包含一各向異性層及一等向層,該各向異性層的第一方向中之線性偏振光的折射率不同於該各向異性層的第二方向中之線性偏振光的折射率,第二方向中之線性偏振光垂直於該第一方向中之該線性偏振光,該等向層的該第一方向中之該線性偏振光的折射率等於該等向層的該第二方向中之該線性偏振光的折射率。
简体摘要：本发明提供一种电脑产生的全像,其借由将一相位分布授予入射光之一波前而在一预定平面上形成一光强度分布,包含一各向异性层及一等向层,该各向异性层的第一方向中之线性偏振光的折射率不同于该各向异性层的第二方向中之线性偏振光的折射率,第二方向中之线性偏振光垂直于该第一方向中之该线性偏振光,该等向层的该第一方向中之该线性偏振光的折射率等于该等向层的该第二方向中之该线性偏振光的折射率。

6. 发明专利

TW478032B 雷射描繪裝置及雷射描繪方法、以及原版全息圖像及其製造方法失效
简体标题：激光描绘设备及激光描绘方法、以及原版全息图像及其制造方法
公开(公告)号：TW478032B
公开(公告)日：2002-03-01
申请号：TW089123230
申请日：2000-11-03
申请人：精工愛普生股份有限公司
发明人：長公夫 , 加瀨谷浩康 , 宮前章
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/001 , G03F7/2022 , G03F7/70383 , G03F7/704 , G03H1/0244 , G03H1/08 , G03H1/0891 , G03H2001/0478 , G03H2001/085 , G03H2001/2271 , G03H2001/2297 , G03H2222/18 , G03H2240/42 , G03H2260/63 , G03H2270/22 , G03H2270/52
摘要：本發明係關於被使用於半導體製造或全息圖像製造等之各種微細加工處理之雷射描繪技術。又，本發明係關於再生彩色3次元圖像用之原版全息圖像及其製造技術。本發明之雷射描繪裝置係具備：被處理構件被載置，使該構件旋轉用之轉盤，以及直線之滑動器，以及成為光源之雷射光，以及被搭載於滑動器，於其板聚光雷射光，形成雷射光點用之光學系，以及使雷射光點之光強度變化用之光調製器。藉由轉盤一邊使被處理構件旋轉，一邊使被搭載於滑動器之光學系移動，在被處理構件上以指定之圖案進行雷射描繪，可以高精度而且短時間描繪在深度方向具有微細之灰階之圖案。
简体摘要：本发明系关于被使用于半导体制造或全息图像制造等之各种微细加工处理之激光描绘技术。又，本发明系关于再生彩色3次元图像用之原版全息图像及其制造技术。本发明之激光描绘设备系具备：被处理构件被载置，使该构件旋转用之转盘，以及直线之滑动器，以及成为光源之激光光，以及被搭载于滑动器，于其板聚光激光光，形成激光光点用之光学系，以及使激光光点之光强度变化用之光调制器。借由转盘一边使被处理构件旋转，一边使被搭载于滑动器之光学系移动，在被处理构件上以指定之图案进行激光描绘，可以高精度而且短时间描绘在深度方向具有微细之灰阶之图案。

7. 发明专利

TW201719234A 全像顯示器审中-公开
简体标题：全像显示器
公开(公告)号：TW201719234A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW105136033
申请日：2011-07-06
申请人：喜瑞爾工業公司 , SEEREAL TECHNOLOGIES S. A.
发明人：費德勒杰拉爾德 , FUETTERER, GERALD
IPC分类号： G02B27/09 , G02F1/29 , G02B5/32 , G02F1/313 , G03H1/22
CPC分类号： G03H1/0248 , G02B5/32 , G02B6/0046 , G02B27/0037 , G02F1/13342 , G02F1/133524 , G02F1/133621 , G02F1/136277 , G02F2201/02 , G03H1/0891 , G03H1/2205 , G03H1/2286 , G03H1/2294 , G03H1/30 , G03H2001/0224 , G03H2001/2236 , G03H2001/2239 , G03H2001/2242 , G03H2001/2292 , G03H2222/12 , G03H2222/22 , G03H2222/34 , G03H2223/12 , G03H2223/14 , G03H2223/16 , G03H2223/19 , G03H2223/22 , G03H2223/23 , G03H2225/11 , G03H2227/03
摘要：本發明係一種全像顯示器，具有照明裝置、放大單元(VE)、以及光調變器(SLM)，其中照明裝置具有至少一光源及光準直單元(LCU)，其中光準直單元(LCU)的作用是將該至少一光源發出的光準直，並產生光源光線的光波場，其中該光波場具有可預先給定之平面波光譜，其中放大單元(VE)在光傳播方向上位於光準直單元之後，其中放大單元(VE)具有透射型體積全像圖(VH)，該透射型體積全像圖的設置及構成方式使得光波場與體積全像圖(VH)的透射交互作用能夠實現光學變形光波場的擴展，其中光調變器(SLM)在光傳播方向上係設置在光學變形放大單元(VE)的前面或後面。
简体摘要：本发明系一种全像显示器，具有照明设备、放大单元(VE)、以及光调制器(SLM)，其中照明设备具有至少一光源及光准直单元(LCU)，其中光准直单元(LCU)的作用是将该至少一光源发出的光准直，并产生光源光线的光波场，其中该光波场具有可预先给定之平面波光谱，其中放大单元(VE)在光传播方向上位于光准直单元之后，其中放大单元(VE)具有透射型体积全像图(VH)，该透射型体积全像图的设置及构成方式使得光波场与体积全像图(VH)的透射交互作用能够实现光学变形光波场的扩展，其中光调制器(SLM)在光传播方向上系设置在光学变形放大单元(VE)的前面或后面。

8. 发明专利

TWI391989B 全像，產生方法，及曝光設備有权
简体标题：全像，产生方法，及曝光设备
公开(公告)号：TWI391989B
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：TW097150077
申请日：2008-12-22
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：松原功 , MATSUBARA, ISAO
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G03H1/08
CPC分类号： G03H1/08 , G03F7/70108 , G03F7/70566 , G03H1/0891 , G03H2001/0478 , G03H2001/2276 , G03H2001/303 , G03H2222/31 , G03H2223/20 , G03H2240/13 , G03H2240/15 , G03H2240/41 , G03H2240/55 , G03H2260/51

9. 发明专利

TW200943382A 電腦所產生的全像，產生方法，及曝光設備 COMPUTER GENERATED HOLOGRAM, GENERATION METHOD, AND EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
简体标题：电脑所产生的全像，产生方法，及曝光设备 COMPUTER GENERATED HOLOGRAM, GENERATION METHOD, AND EXPOSURE APPARATUS
公开(公告)号：TW200943382A
公开(公告)日：2009-10-16
申请号：TW097150077
申请日：2008-12-22
申请人：佳能股份有限公司
发明人：松原功
IPC分类号： H01L , G03F , G03H
CPC分类号： G03H1/08 , G03F7/70108 , G03F7/70566 , G03H1/0891 , G03H2001/0478 , G03H2001/2276 , G03H2001/303 , G03H2222/31 , G03H2223/20 , G03H2240/13 , G03H2240/15 , G03H2240/41 , G03H2240/55 , G03H2260/51
摘要：本發明提供了一種電腦所產生的全像，藉由將一相位分佈提供給入射光之波前，而在一預定平面上形成一光強度分佈，該全像包含：複數個非等向性細胞，每一非等向性細胞包含被配置成改變該入射光的偏振狀態之一非等向性介質；以及複數個等向性細胞，每一等向性細胞包含被配置成不改變該入射光的偏振狀態之一等向性介質，其中沿著該入射光的第一方向之一線性偏振光成分在該預定平面上形成一第一光強度分佈，且沿著垂直於該入射光的第一方向之第二方向之一線性偏振光成分在該預定平面上形成不同於該第一光強度分佈之一第二光強度分佈。
简体摘要：本发明提供了一种电脑所产生的全像，借由将一相位分布提供给入射光之波前，而在一预定平面上形成一光强度分布，该全像包含：复数个非等向性细胞，每一非等向性细胞包含被配置成改变该入射光的偏振状态之一非等向性介质；以及复数个等向性细胞，每一等向性细胞包含被配置成不改变该入射光的偏振状态之一等向性介质，其中沿着该入射光的第一方向之一线性偏振光成分在该预定平面上形成一第一光强度分布，且沿着垂直于该入射光的第一方向之第二方向之一线性偏振光成分在该预定平面上形成不同于该第一光强度分布之一第二光强度分布。

10. 发明专利

TW200745798A 製造偏極化全像片之方法及裝置 METHOD AND APPARATUS FOR THE PRODUCTION OF POLARIZATION HOLOGRAMS 审中-公开
简体标题：制造偏极化全像片之方法及设备 METHOD AND APPARATUS FOR THE PRODUCTION OF POLARIZATION HOLOGRAMS
公开(公告)号：TW200745798A
公开(公告)日：2007-12-16
申请号：TW096104541
申请日：2007-02-08
申请人：拜耳創新有限公司 BAYER INNOVATION GMBH
发明人：亞斯福 ASFOUR, JEAN-MICHEL , 司辰德 SCHNEIDER, STEPHAN , 艾戴瑪 EBERHARD, DIETMAR , 瑞沃根 RIEDEL, WOLFGANG , 吉多明 GIEL, DOMINIK , 維戴芬 VOELKENING, STEPHAN , 君哈德 JUENGERMANN, HARDY
IPC分类号： G03H , G02B
CPC分类号： G03H1/08 , G03H1/0891 , G03H2001/0016 , G03H2001/0478 , G03H2001/085 , G03H2001/2276 , G03H2222/31 , G03H2222/34 , G03H2225/24 , G03H2225/36 , G03H2240/26 , G03H2260/35 , G03H2260/51
摘要：本發明係關於製造偏極化全像片之方法、製造偏極化全像片之裝置、及使用根據本發明之偏極化全像片作為資料儲存、安全特性、或執行習用的光學功能之繞射光學元件。
简体摘要：本发明系关于制造偏极化全像片之方法、制造偏极化全像片之设备、及使用根据本发明之偏极化全像片作为数据存储、安全特性、或运行习用的光学功能之绕射光学组件。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式