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1. 发明专利

TWI535579B 多層體有权
简体标题：多层体
公开(公告)号：TWI535579B
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：TW099130573
申请日：2010-09-10
申请人： OVD基尼格蘭股份公司 , OVD KINEGRAM AG
发明人：許林安德烈亞斯 , SCHILLING, ANDREAS , 湯普欽偉恩羅勃特 , TOMPKIN, WAYNE ROBERT , 漢森阿辛 , HANSEN, ACHIM
IPC分类号： B44F5/00 , B42D25/29 , G02B3/00
CPC分类号： B42D25/45 , B42D25/21 , B42D25/29 , B42D25/324 , B42D25/328 , B42D25/342 , B42D2033/04 , B42D2033/10 , B42D2033/14 , B42D2033/18 , B42D2035/44 , G02B3/005 , G02B3/0056

2. 发明专利

TW201109743A 光學元件及其製造方法 OPTICAL ELEMENT AND METHOD FOR PREPARING IT 审中-公开
简体标题：光学组件及其制造方法 OPTICAL ELEMENT AND METHOD FOR PREPARING IT
公开(公告)号：TW201109743A
公开(公告)日：2011-03-16
申请号：TW099119788
申请日：2010-06-18
申请人：凸版印刷股份有限公司
发明人：屋鋪一尋 , 澤村力 , 梅崎浩司 , 久保章
IPC分类号： G02B
CPC分类号： B05D5/063 , B42D25/29 , B42D25/324 , B42D25/328 , B42D2033/18 , B42D2033/24 , G02B5/1842 , G02B5/32 , Y10T428/24612
摘要：提供一種可使反射層以穩定且高度位置精度形成的光學技術。本發明之光學元件包含:起伏構造形成層;由折射率與該起伏構造形成層之材料不同的第1材料所構成之第1層;與該第1材料不同之第2材料所構成,被覆該第1層,在該第2區域之位置中該第2材料之量相對於該第2區域之表觀上面積之比為零,又與該第2副區域之位置中該第2材料之量相對於該第2副區域之表觀上面積之比相比較為更小的第2層。
简体摘要：提供一种可使反射层以稳定且高度位置精度形成的光学技术。本发明之光学组件包含:起伏构造形成层;由折射率与该起伏构造形成层之材料不同的第1材料所构成之第1层;与该第1材料不同之第2材料所构成,被覆该第1层,在该第2区域之位置中该第2材料之量相对于该第2区域之表观上面积之比为零,又与该第2副区域之位置中该第2材料之量相对于该第2副区域之表观上面积之比相比较为更小的第2层。

3. 发明专利

TW541438B 防止偽造/變造用材料失效
简体标题：防止伪造/变造用材料
公开(公告)号：TW541438B
公开(公告)日：2003-07-11
申请号：TW090115562
申请日：2001-06-27
申请人：資生堂股份有限公司
发明人：和田正良 , 木村朝
IPC分类号： B41M , B32B , G02B , G02F
CPC分类号： G02B5/128 , B42D25/00 , B42D25/29 , B42D2033/18 , G02B5/136 , Y10T428/24802 , Y10T428/24868 , Y10T428/24884 , Y10T428/24901 , Y10T428/25 , Y10T428/2993 , Y10T428/2995 , Y10T428/2996 , Y10T428/2998
摘要：本發明之目的在於使用回歸反射材的防止偽造/變造用材料中，提供一種經改善對材料上部加工的防止偽造/變造效果的防止偽造/變造用材料。
為達成該目的，有關本發明的防止偽造/變造用材料，係使入射光往略入射光進入方向反饋的回歸反射材、及在前述回歸反射材上積層透明薄膜而使用的材料，其特徵為：
於前述回歸反射材與前述透明薄膜層之間，具備有由較前述透明薄膜的光透射性為低的材料所形成的低透射率層，而前述低透射率層之光之透射率在420nm至700nm之波長領域之光時，為45％以上者。
简体摘要：本发明之目的在于使用回归反射材的防止伪造/变造用材料中，提供一种经改善对材料上部加工的防止伪造/变造效果的防止伪造/变造用材料。为达成该目的，有关本发明的防止伪造/变造用材料，系使入射光往略入射光进入方向反馈的回归反射材、及在前述回归反射材上积层透明薄膜而使用的材料，其特征为：于前述回归反射材与前述透明薄膜层之间，具备有由较前述透明薄膜的光透射性为低的材料所形成的低透射率层，而前述低透射率层之光之透射率在420nm至700nm之波长领域之光时，为45％以上者。

4. 发明专利

TWI509374B 由全息圖及變色墨水所形成之安全裝置有权
简体标题：由全息图及变色墨水所形成之安全设备
公开(公告)号：TWI509374B
公开(公告)日：2015-11-21
申请号：TW096116288
申请日：2007-05-08
申请人：唯亞威方案公司 , VIAVI SOLUTIONS INC.
发明人：羅傑W 菲利普 , PHILLIPS, ROGER W. , 艾倫納泰格 , TAGUER, ELENA
IPC分类号： G03H1/04 , G03H1/08
CPC分类号： B42D25/29 , B42D25/328 , B42D2033/18 , B42D2035/24 , G03H1/0256

5. 发明专利

TW201109193A 多層體 MEHRSCHICHTKOERPER 审中-公开
简体标题：多层体 MEHRSCHICHTKOERPER
公开(公告)号：TW201109193A
公开(公告)日：2011-03-16
申请号：TW099130573
申请日：2010-09-10
申请人： OVD基尼格蘭股份公司
发明人：許林安德烈亞斯 , 湯普欽偉恩羅勃特 , 漢森阿辛
IPC分类号： B44F , B42D , G02B
CPC分类号： B42D25/45 , B42D25/21 , B42D25/29 , B42D25/324 , B42D25/328 , B42D25/342 , B42D2033/04 , B42D2033/10 , B42D2033/14 , B42D2033/18 , B42D2035/44 , G02B3/005 , G02B3/0056
摘要：一種多層體(1)(2)(3)(4)(5)(6)(7),具有一透明的第一層(13)及一第二層(12);該第一層中在一第一範圍(31)中形成多數微透鏡(21),這些微透鏡依一種微透鏡網格排列,該第二層設在第一層(13)下方且相對於第一層(13)設在固定位置。第二層(12)有數微圖(22),該微圖依一微圖網格排列,且至少與該微透鏡網格的微透鏡(21)局部地重疊以產生一種第一光學變化資訊,其中該微圖網格的網格寬度(42)和微透鏡網格的網格寬度(41)各至少在一空間方向係小於300微米。(圖2)
简体摘要：一种多层体(1)(2)(3)(4)(5)(6)(7),具有一透明的第一层(13)及一第二层(12);该第一层中在一第一范围(31)中形成多数微透镜(21),这些微透镜依一种微透镜网格排列,该第二层设在第一层(13)下方且相对于第一层(13)设在固定位置。第二层(12)有数微图(22),该微图依一微图网格排列,且至少与该微透镜网格的微透镜(21)局部地重叠以产生一种第一光学变化信息,其中该微图网格的网格宽度(42)和微透镜网格的网格宽度(41)各至少在一空间方向系小于300微米。(图2)

6. 发明专利

TW200805011A 由全息圖及變色墨水所形成之安全裝置 A SECURITY DEVICE FORMED BY A HOLOGRAM AND A COLOR SHIFTING INK 审中-公开
简体标题：由全息图及变色墨水所形成之安全设备 A SECURITY DEVICE FORMED BY A HOLOGRAM AND A COLOR SHIFTING INK
公开(公告)号：TW200805011A
公开(公告)日：2008-01-16
申请号：TW096116288
申请日：2007-05-08
申请人： JDS尤尼費斯公司 JDS UNIPHASE CORPORATION
发明人：羅傑W 菲利普 PHILLIPS, ROGER W. , 艾倫納泰格 TAGUER, ELENA
IPC分类号： G03H
CPC分类号： B42D25/29 , B42D25/328 , B42D2033/18 , B42D2035/24 , G03H1/0256
摘要：本發明提供一種在一物件上形成一標籤之方法,其包含以下步驟:使用光學可變墨水塗佈該物件之一表面,及使用一透光性黏著劑在該光學可變墨水上將一經圖案化結構黏結至該物件。該經圖案化結構允許光穿過其中而傳播,且可為一包含以下各物中之一者之繞射結構:一半透明反射層、一高折射率層及一經圖案化反射性塗層。在一實施例中,將一全息圖熱燙印至一印刷有變色墨水之紙幣或紙質文件上。
简体摘要：本发明提供一种在一对象上形成一标签之方法,其包含以下步骤:使用光学可变墨水涂布该对象之一表面,及使用一透光性黏着剂在该光学可变墨水上将一经图案化结构黏结至该对象。该经图案化结构允许光穿过其中而传播,且可为一包含以下各物中之一者之绕射结构:一半透明反射层、一高折射率层及一经图案化反射性涂层。在一实施例中,将一全息图热烫印至一印刷有变色墨水之纸币或纸质文档上。

7. 发明专利

TWI569893B 光學效應層、包括光學效應層之安全文件、產生光學效應層之方法、以及光學效應層之用途有权
简体标题：光学效应层、包括光学效应层之安全文档、产生光学效应层之方法、以及光学效应层之用途
公开(公告)号：TWI569893B
公开(公告)日：2017-02-11
申请号：TW102116048
申请日：2013-05-06
申请人：西克帕控股有限公司 , SICPA HOLDING SA
发明人：迪加特皮爾 , DEGOTT, PIERRE , 史密特馬修 , SCHMID, MATHIEU , 德斯普蘭得克洛德亞蘭 , DESPLAND, CLAUDE-ALAIN , 埃莫若辛革塞德里克 , AMERASINGHE, CEDRIC
IPC分类号： B05D3/14 , B05D5/06 , B41M3/00 , B42D15/00
CPC分类号： G02F1/09 , B05D3/20 , B05D5/06 , B05D5/065 , B41M3/14 , B42D25/00 , B42D25/20 , B42D25/24 , B42D25/29 , B42D25/30 , B42D25/369 , B42D25/378 , B42D25/40 , B42D2033/16 , B42D2033/18 , B42D2033/20 , B42D2035/20 , C09D11/037 , G02B5/0257 , G02B5/08 , G02F1/0036 , G02F1/21 , G02F2001/094 , G02F2001/213

8. 发明专利

TW201703878A 產生光學效應層的裝置及方法审中-公开
简体标题：产生光学效应层的设备及方法
公开(公告)号：TW201703878A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW105132689
申请日：2013-05-06
申请人：西克帕控股有限公司 , SICPA HOLDING SA
发明人：迪加特皮爾 , DEGOTT,PIERRE , 史密特馬修 , SCHMID,MATHIEU , 德斯普蘭得克洛德亞蘭 , DESPLAND,CLAUDE-ALAIN , 埃莫若辛革塞德里克 , AMERASINGHE,CEDRIC
IPC分类号： B05D3/00 , B05D5/06 , B42D25/00
CPC分类号： G02F1/09 , B05D3/20 , B05D5/06 , B05D5/065 , B41M3/14 , B42D25/00 , B42D25/20 , B42D25/24 , B42D25/29 , B42D25/30 , B42D25/369 , B42D25/378 , B42D25/40 , B42D2033/16 , B42D2033/18 , B42D2033/20 , B42D2035/20 , C09D11/037 , G02B5/0257 , G02B5/08 , G02F1/0036 , G02F1/21 , G02F2001/094 , G02F2001/213
摘要：本發明涉及圖形元件領域、並且是針對一光學效應層(OEL)、用於產生它的一種裝置和一種方法。本發明解決了提供一光學效應的問題，該光學效應本身易於檢測並且在視角相對於該OEL變化時在一定延伸的長度上展現出多個圖像特徵的一視角依賴性表觀運動。此目的藉由提供一種OEL來實現，該OEL包含至少部分透明的一黏合劑材料和分散於該層內的多個顆粒。每個顆粒具有各向異性反射率並且可以為磁性或可磁化的。該等顆粒的定向形成了在該OEL之延伸表面內的一定長度上延伸的一定向圖案，這樣使得在所述OEL的大致上垂直於所述延伸表面的並且沿著所述第一方向x的一第一截面中，在(i)沿著與所述第一截面相交的那些非球形顆粒的對應截面形狀內所觀察到的最長尺寸的一條直線與(ii)所述第一方向x之間的角局部平均值根據一位置(P)沿著所述第一方向的一函數(θ)而變化，該函數是所述位置的一單調遞增或遞減第一函數(θ1 )與所述位置的一交變第二函數(θ2 )之和。還揭露了用於產生該OEL的多種裝置的不同態樣和一種方法。
简体摘要：本发明涉及图形组件领域、并且是针对一光学效应层(OEL)、用于产生它的一种设备和一种方法。本发明解决了提供一光学效应的问题，该光学效应本身易于检测并且在视角相对于该OEL变化时在一定延伸的长度上展现出多个图像特征的一视角依赖性表观运动。此目的借由提供一种OEL来实现，该OEL包含至少部分透明的一黏合剂材料和分散于该层内的多个颗粒。每个颗粒具有各向异性反射率并且可以为磁性或可磁化的。该等颗粒的定向形成了在该OEL之延伸表面内的一定长度上延伸的一定向图案，这样使得在所述OEL的大致上垂直于所述延伸表面的并且沿着所述第一方向x的一第一截面中，在(i)沿着与所述第一截面相交的那些非球形颗粒的对应截面形状内所观察到的最长尺寸的一条直线与(ii)所述第一方向x之间的角局部平均值根据一位置(P)沿着所述第一方向的一函数(θ)而变化，该函数是所述位置的一单调递增或递减第一函数(θ1 )与所述位置的一交变第二函数(θ2 )之和。还揭露了用于产生该OEL的多种设备的不同态样和一种方法。

9. 发明专利

TWI425253B 光學元件及其製造方法有权
简体标题：光学组件及其制造方法
公开(公告)号：TWI425253B
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW099119788
申请日：2010-06-18
申请人：凸版印刷股份有限公司 , TOPPAN PRINTING CO., LTD.
发明人：屋鋪一尋 , YASHIKI, KAZUHIRO , 澤村力 , SAWAMURA, CHIKARA , 梅崎浩司 , UMEZAKI, KOJI , 久保章 , KUBO, AKIRA
IPC分类号： G02B5/08
CPC分类号： B05D5/063 , B42D25/29 , B42D25/324 , B42D25/328 , B42D2033/18 , B42D2033/24 , G02B5/1842 , G02B5/32 , Y10T428/24612

10. 发明专利

TW201400197A 光學效應層审中-公开
简体标题：光学效应层
公开(公告)号：TW201400197A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW102116048
申请日：2013-05-06
申请人：西克帕控股有限公司 , SICPA HOLDING SA
发明人：迪加特皮爾 , DEGOTT, PIERRE , 史密特馬修 , SCHMID, MATHIEU , 德斯普蘭得克洛德亞蘭 , DESPLAND, CLAUDE-ALAIN , 埃莫若辛革塞德里克 , AMERASINGHE, CEDRIC
IPC分类号： B05D3/14 , B05D5/06 , B41M3/00 , B42D15/00
CPC分类号： G02F1/09 , B05D3/20 , B05D5/06 , B05D5/065 , B41M3/14 , B42D25/00 , B42D25/20 , B42D25/24 , B42D25/29 , B42D25/30 , B42D25/369 , B42D25/378 , B42D25/40 , B42D2033/16 , B42D2033/18 , B42D2033/20 , B42D2035/20 , C09D11/037 , G02B5/0257 , G02B5/08 , G02F1/0036 , G02F1/21 , G02F2001/094 , G02F2001/213
摘要：本發明涉及圖形元件領域、並且是針對一光學效應層(OEL)、用於產生它的一種裝置和一種方法。本發明解決了提供一光學效應的問題，該光學效應本身易於檢測並且在視角相對於該OEL變化時在一定延伸的長度上展現出多個圖像特徵的一視角依賴性表觀運動。此目的藉由提供一種OEL來實現，該OEL包含至少部分透明的一黏合劑材料和分散於該層內的多個顆粒。每個顆粒具有各向異性反射率並且可以為磁性或可磁化的。該等顆粒的定向形成了在該OEL之延伸表面內的一定長度上延伸的一定向圖案，這樣使得在所述OEL的大致上垂直於所述延伸表面的並且沿著所述第一方向x的一第一截面中，在(i)沿著與所述第一截面相交的那些非球形顆粒的對應截面形狀內所觀察到的最長尺寸的一條直線與(ii)所述第一方向x之間的角局部平均值根據一位置(P)沿著所述第一方向的一函數(θ)而變化，該函數是所述位置的一單調遞增或遞減第一函數(θ1)與所述位置的一交變第二函數(θ2)之和。還揭露了用於產生該OEL的多種裝置的不同態樣和一種方法。
简体摘要：本发明涉及图形组件领域、并且是针对一光学效应层(OEL)、用于产生它的一种设备和一种方法。本发明解决了提供一光学效应的问题，该光学效应本身易于检测并且在视角相对于该OEL变化时在一定延伸的长度上展现出多个图像特征的一视角依赖性表观运动。此目的借由提供一种OEL来实现，该OEL包含至少部分透明的一黏合剂材料和分散于该层内的多个颗粒。每个颗粒具有各向异性反射率并且可以为磁性或可磁化的。该等颗粒的定向形成了在该OEL之延伸表面内的一定长度上延伸的一定向图案，这样使得在所述OEL的大致上垂直于所述延伸表面的并且沿着所述第一方向x的一第一截面中，在(i)沿着与所述第一截面相交的那些非球形颗粒的对应截面形状内所观察到的最长尺寸的一条直线与(ii)所述第一方向x之间的角局部平均值根据一位置(P)沿着所述第一方向的一函数(θ)而变化，该函数是所述位置的一单调递增或递减第一函数(θ1)与所述位置的一交变第二函数(θ2)之和。还揭露了用于产生该OEL的多种设备的不同态样和一种方法。

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