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1. 发明专利

TW201504750A 用於判定物件上之缺陷位置之系統及方法，座標量測單元及用於座標量測單元之電腦程式审中-公开
简体标题：用于判定对象上之缺陷位置之系统及方法，座标量测单元及用于座标量测单元之电脑进程
公开(公告)号：TW201504750A
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW103118159
申请日：2014-05-23
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：羅西克勞斯迪特爾 , ROETH, KLAUS-DIETER , 丹尼斯帕納穆罕默德 , DANESHPANAH, MOHAMMED , 布特納爾亞歷山德爾 , BUETTNER, ALEXANDER , 席吉尼爾艾波 , SEZGINER, APO , 威格納馬克 , WAGNER, MARK
IPC分类号： G03F1/84 , G01N21/88
CPC分类号： G01B11/005 , G01N21/8806 , G01N2201/06113 , G01N2201/0691 , G01N2201/0697 , G03F1/22 , G03F1/84
摘要：本發明揭示用於判定物件上之缺陷位置之一種系統、一種方法及一種座標量測儀。一介面經提供使得來自檢驗裝置之對齊及座標資訊可發送至該座標量測儀。一特殊照明及偵測配置係與複數個光學元件一起使用以自在未圖案化物件上之缺陷獲得一信號。該照明及偵測配置之光源係用於提供一部分同調光束之一雷射光源。一電腦自由該偵測器陣列所提供之資料及來自該檢驗裝置之該物件之該對齊及座標資訊計算在該物件上之該缺陷之一位置。
简体摘要：本发明揭示用于判定对象上之缺陷位置之一种系统、一种方法及一种座标量测仪。一界面经提供使得来自检验设备之对齐及座标信息可发送至该座标量测仪。一特殊照明及侦测配置系与复数个光学组件一起使用以自在未图案化对象上之缺陷获得一信号。该照明及侦测配置之光源系用于提供一部分同调光束之一激光光源。一电脑自由该侦测器数组所提供之数据及来自该检验设备之该对象之该对齐及座标信息计算在该对象上之该缺陷之一位置。

2. 发明专利

TWI588489B 氣體感測裝置、系統及相關方法有权
简体标题：气体传感设备、系统及相关方法
公开(公告)号：TWI588489B
公开(公告)日：2017-06-21
申请号：TW104138966
申请日：2015-11-24
申请人：英特爾股份有限公司 , INTEL CORPORATION
发明人：艾漢亞里凱爾 , AL-HEMYARI, KADHAIR
IPC分类号： G01N7/16
CPC分类号： G01L7/026 , G01B11/161 , G01N21/1702 , G01N33/0016 , G01N2021/1704 , G01N2201/0221 , G01N2201/062 , G01N2201/0691

3. 发明专利

TWI329737B 評估半導體晶圓之方法和相關設備 METHOD FOR EVALUATING A SEMICONDUCTOR WAFER AND RELATED APPARATUS 有权
简体标题：评估半导体晶圆之方法和相关设备 METHOD FOR EVALUATING A SEMICONDUCTOR WAFER AND RELATED APPARATUS
公开(公告)号：TWI329737B
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：TW092126060
申请日：2003-09-22
申请人：半導體物理實驗室公司
发明人：伯頓彼得G , 克魯斯G 強納森 , 培頓艾瑞克
IPC分类号： G01N , H01L
CPC分类号： H01L22/34 , G01N21/21 , G01N21/9501 , G01N21/95607 , G01N2021/8416 , G01N2201/0691 , G01R31/311 , H01L2924/0002 , H01L2924/3011 , H01L2924/00
摘要：任何半導體晶圓製程皆可改成以晶圓製程之外加步驟的方式監控摻雜層之側向陡峭。於一具體實例中，包含一或多個摻雜區域之測試結構係形成在晶圓製品中(例如，同時具有一或多個電晶體)，以及量測該測試結構之一或多個尺寸，上述係用以評估該晶圓之其他摻雜區域的側向陡峭程度，例如同時形成之電晶體。測試結構中的摻雜區域，可以是彼此間具有固定空隙間隔，或是相鄰摻雜區域之間具有不同間隙。再者，在單一晶圓中亦可形成許多測試結構，在各個測試結構中，摻雜區域具有固定的空隙間隔，而不同測試結構則具有不同的空隙間隔。
简体摘要：任何半导体晶圆制程皆可改成以晶圆制程之外加步骤的方式监控掺杂层之侧向陡峭。于一具体实例中，包含一或多个掺杂区域之测试结构系形成在晶圆制品中(例如，同时具有一或多个晶体管)，以及量测该测试结构之一或多个尺寸，上述系用以评估该晶圆之其他掺杂区域的侧向陡峭程度，例如同时形成之晶体管。测试结构中的掺杂区域，可以是彼此间具有固定空隙间隔，或是相邻掺杂区域之间具有不同间隙。再者，在单一晶圆中亦可形成许多测试结构，在各个测试结构中，掺杂区域具有固定的空隙间隔，而不同测试结构则具有不同的空隙间隔。

4. 发明专利

TWI586955B 在線型濃度計及濃度檢測方法有权
简体标题：在线型浓度计及浓度检测方法
公开(公告)号：TWI586955B
公开(公告)日：2017-06-11
申请号：TW103125860
申请日：2014-07-29
申请人：國立大學法人德島大學 , THE UNIVERSITY OF TOKUSHIMA , 富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：出口祥啓 , DEGUCHI, YOSHIHIRO , 永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 山路道雄 , YAMAJI, MICHIO
IPC分类号： G01N21/33
CPC分类号： G01N21/5907 , G01N21/33 , G01N2021/3148 , G01N2021/5969 , G01N2021/8411 , G01N2021/8578 , G01N2201/0627 , G01N2201/0691

5. 发明专利

TW200407539A 擴散層之側向擴散測定方法 MEASUREMENT OF LATERAL DIFFUSION OF DIFFUSED LAYERS 审中-公开
简体标题：扩散层之侧向扩散测定方法 MEASUREMENT OF LATERAL DIFFUSION OF DIFFUSED LAYERS
公开(公告)号：TW200407539A
公开(公告)日：2004-05-16
申请号：TW092126060
申请日：2003-09-22
申请人：伯瑟交叉公司 BOXER CROSS INC. , 高級微裝置公司 ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
发明人：伯頓彼得G BORDEN, PETER G. , 克魯斯G 强納森 KLUTH, G. JONATHAN , 培頓艾瑞克 PATON, ERIC
IPC分类号： G01N , H01L
CPC分类号： H01L22/34 , G01N21/21 , G01N21/9501 , G01N21/95607 , G01N2021/8416 , G01N2201/0691 , G01R31/311 , H01L2924/0002 , H01L2924/3011 , H01L2924/00
摘要：任何半導體晶圓製程皆可改成以晶圓製程之外加步驟的方式監控摻雜層之側向陡峭。於一具體實例中，包含一或多個摻雜區域之測試結構係形成在晶圓製品中(例如，同時具有一或多個電晶體)，以及量測該測試結構之一或多個尺寸，上述係用以評估該晶圓之其他摻雜區域的側向陡峭程度，例如同時形成之電晶體。測試結構中的摻雜區域，可以是彼此間具有固定空隙間隔，或是相鄰摻雜區域之間具有不同間隙。再者，在單一晶圓中亦可形成許多測試結構，在各個測試結構中，摻雜區域具有固定的空隙間隔，而不同測試結構則具有不同的空隙間隔。
简体摘要：任何半导体晶圆制程皆可改成以晶圆制程之外加步骤的方式监控掺杂层之侧向陡峭。于一具体实例中，包含一或多个掺杂区域之测试结构系形成在晶圆制品中(例如，同时具有一或多个晶体管)，以及量测该测试结构之一或多个尺寸，上述系用以评估该晶圆之其他掺杂区域的侧向陡峭程度，例如同时形成之晶体管。测试结构中的掺杂区域，可以是彼此间具有固定空隙间隔，或是相邻掺杂区域之间具有不同间隙。再者，在单一晶圆中亦可形成许多测试结构，在各个测试结构中，掺杂区域具有固定的空隙间隔，而不同测试结构则具有不同的空隙间隔。

6. 发明专利

TW201632861A 氣體感測裝置、系統及相關方法审中-公开
简体标题：气体传感设备、系统及相关方法
公开(公告)号：TW201632861A
公开(公告)日：2016-09-16
申请号：TW104138966
申请日：2015-11-24
申请人：英特爾股份有限公司 , INTEL CORPORATION
发明人：艾漢亞里凱爾 , AL-HEMYARI, KADHAIR
IPC分类号： H01J37/28
CPC分类号： G01L7/026 , G01B11/161 , G01N21/1702 , G01N33/0016 , G01N2021/1704 , G01N2201/0221 , G01N2201/062 , G01N2201/0691
摘要：提供了一種氣體感測裝置，包含：外殼，其具有可操作來接收及容納至少一測試氣體的內部腔室；光子熱源，其係定位來將光子能量輸送到內部腔室中；以及壓力感測器，其功能性地耦接到內部腔室且可操作來檢測內部腔室中的壓力變化。
简体摘要：提供了一种气体传感设备，包含：外壳，其具有可操作来接收及容纳至少一测试气体的内部腔室；光子热源，其系定位来将光子能量输送到内部腔室中；以及压力传感器，其功能性地耦接到内部腔室且可操作来检测内部腔室中的压力变化。

7. 发明专利

TW201520532A 在線型濃度計及濃度檢測方法审中-公开
简体标题：在线型浓度计及浓度检测方法
公开(公告)号：TW201520532A
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW103125860
申请日：2014-07-29
申请人：國立大學法人德島大學 , THE UNIVERSITY OF TOKUSHIMA , 富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：出口祥啓 , DEGUCHI, YOSHIHIRO , 永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 山路道雄 , YAMAJI, MICHIO
IPC分类号： G01N21/33
CPC分类号： G01N21/5907 , G01N21/33 , G01N2021/3148 , G01N2021/5969 , G01N2021/8411 , G01N2021/8578 , G01N2201/0627 , G01N2201/0691
摘要：本發明係提供在有機原料流體的供給系等中使用之濃度計的構造的簡單化、小型化，謀求產品成本的降低，可高精度、高感度且進行再現性高的濃度測定的濃度計。本發明係由以下構件所構成：光源部，係發出具有相位差之至少兩種波長的混成光；檢測部，係具備將來自光源部的混成光射入至檢測器本體之流體通路內的光射入部，及對透射流體通路內之混成光進行受光的至少兩個光檢測部；運算處理部，係對來自光檢測部之至少兩個波長的檢測訊號分別進行頻率解析，並且運算與在前述各檢測訊號的至少3個頻率區域之消光度對應的強度，並根據該各檢測訊號的至少3個頻率區域的消光度強度，運算流體通路內的流體濃度；及記錄顯示部，係記錄及顯示在運算處理部之流體濃度的運算值。
简体摘要：本发明系提供在有机原料流体的供给系等中使用之浓度计的构造的简单化、小型化，谋求产品成本的降低，可高精度、高感度且进行再现性高的浓度测定的浓度计。本发明系由以下构件所构成：光源部，系发出具有相位差之至少两种波长的混成光；检测部，系具备将来自光源部的混成光射入至检测器本体之流体通路内的光射入部，及对透射流体通路内之混成光进行受光的至少两个光检测部；运算处理部，系对来自光检测部之至少两个波长的检测信号分别进行频率解析，并且运算与在前述各检测信号的至少3个频率区域之消光度对应的强度，并根据该各检测信号的至少3个频率区域的消光度强度，运算流体通路内的流体浓度；及记录显示部，系记录及显示在运算处理部之流体浓度的运算值。

8. 发明专利

TW540225B 以調制光束感測影像之方法及其裝置有权
简体标题：以调制光束传感影像之方法及其设备
公开(公告)号：TW540225B
公开(公告)日：2003-07-01
申请号：TW090132615
申请日：2001-12-27
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：林耀明 , 葉迎春 , 紀智偉 , 王浩偉
IPC分类号： H04N
CPC分类号： G01N21/27 , G01N2201/0691
摘要：一種以調制光束感測影像之方法，其包括下列步驟：將調制光束照射於一待測物上並產生一調制光訊號；上述調制光訊號入射一感光元件，且該感光元件將上述調制光訊號轉換成一交流影像訊號；以及上述交流影像訊號通過一交流/直流轉換電路，且該交流/直流轉換電路根據上述調制光束之調制頻率，將交流影像訊號轉換並輸出一直流影像訊號。藉由此方法可有效防止環境光的干擾及系統的電子雜訊。
简体摘要：一种以调制光束传感影像之方法，其包括下列步骤：将调制光束照射于一待测物上并产生一调制光信号；上述调制光信号入射一感光组件，且该感光组件将上述调制光信号转换成一交流影像信号；以及上述交流影像信号通过一交流/直流转换电路，且该交流/直流转换电路根据上述调制光束之调制频率，将交流影像信号转换并输出一直流影像信号。借由此方法可有效防止环境光的干扰及系统的电子噪声。

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