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1. 发明专利

TW200837327A 側邊精密量測之干涉量測法 INTERFEROMETRY FOR LATERAL METROLOGY 审中-公开
简体标题：侧边精密量测之干涉量测法 INTERFEROMETRY FOR LATERAL METROLOGY
公开(公告)号：TW200837327A
公开(公告)日：2008-09-16
申请号：TW097101787
申请日：2008-01-17
申请人：賽格股份有限公司 ZYGO CORPORATION
发明人：塞維爾柯隆納迪雷加 DE LEGA, XAVIER COLONNA , 羅伯特史多納 STONER, ROBERT , 彼得J DE古魯特 DE GROOT, PETER J.
IPC分类号： G01B
CPC分类号： G01B9/02063 , G01B9/02057 , G01B9/02087 , G01B9/0209
摘要：一種方法被揭露,其包括:使用一掃瞄干涉系統,在包括一掩埋表面的物體之不同的掃瞄位置產生一序列的相位移干涉影像;根據物體之序列的相位移干涉影像確認對應於掩埋表面的最佳聚焦的位置之掃瞄位置,並且根據相位移干涉影像及掃瞄位置產生一最終影像,其中,在最終影像中的干涉條紋相對於在相位移干涉影像中的干涉條紋被減少。
简体摘要：一种方法被揭露,其包括:使用一扫瞄干涉系统,在包括一掩埋表面的物体之不同的扫瞄位置产生一串行的相位移干涉影像;根据物体之串行的相位移干涉影像确认对应于掩埋表面的最佳聚焦的位置之扫瞄位置,并且根据相位移干涉影像及扫瞄位置产生一最终影像,其中,在最终影像中的干涉条纹相对于在相位移干涉影像中的干涉条纹被减少。

2. 发明专利

TWI416272B 表面形狀量測設備、曝光設備以及裝置製造方法有权
简体标题：表面形状量测设备、曝光设备以及设备制造方法
公开(公告)号：TWI416272B
公开(公告)日：2013-11-21
申请号：TW098106000
申请日：2009-02-25
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：山口涉 , YAMAGUCHI, WATARU , 松本隆宏 , MATSUMOTO, TAKAHIRO , 稻秀樹 , INA, HIDEKI
IPC分类号： G03F7/20 , G01B11/30 , G01B11/24
CPC分类号： G01B11/2441 , G01B9/02063 , G01B9/02072 , G01B9/0209 , G01B11/0608 , G01B2290/70 , G03F9/7026 , G03F9/7049

3. 发明专利

TWI420068B 側邊精密量測之干涉量測法有权
简体标题：侧边精密量测之干涉量测法
公开(公告)号：TWI420068B
公开(公告)日：2013-12-21
申请号：TW097101787
申请日：2008-01-17
申请人：賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人：塞維爾柯隆納迪雷加 , DE LEGA, XAVIER COLONNA , 羅伯特史多納 , STONER, ROBERT , 彼得 J. DE 古魯特 , DE GROOT, PETER J.
IPC分类号： G01B11/24 , G01B11/14 , G01B9/02
CPC分类号： G01B9/02063 , G01B9/02057 , G01B9/02087 , G01B9/0209

4. 发明专利

TW200947142A 表面形狀量測設備、曝光設備以及裝置製造方法 SURFACE SHAPE MEASURING APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
简体标题：表面形状量测设备、曝光设备以及设备制造方法 SURFACE SHAPE MEASURING APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TW200947142A
公开(公告)日：2009-11-16
申请号：TW098106000
申请日：2009-02-25
申请人：佳能股份有限公司
发明人：山口涉 , 松本隆宏 , 稻秀樹
IPC分类号： G03F , G01B
CPC分类号： G01B11/2441 , G01B9/02063 , G01B9/02072 , G01B9/0209 , G01B11/0608 , G01B2290/70 , G03F9/7026 , G03F9/7049
摘要：一種表面形狀量測設備，包括照射系統及光接收系統。照射系統將來自光源的寬頻帶光分裂為量測光及參考光，照射量測光使其傾斜地進入膜的表面，以及照射參考光使其傾斜地進入參考鏡。光接收系統使藉由膜之表面所反射的量測光以及藉由參考鏡所反射的參考光彼此組合，以及將組合的光導至光電轉換元件。於膜之表面的量測光之入射角以及於參考鏡之參考光的入射角各者皆大於布魯斯特（Brewster）角。進入基材之表面的量測光中包括的s極化光以及p極化光對於光電轉換元件具有相同的強度。
简体摘要：一种表面形状量测设备，包括照射系统及光接收系统。照射系统将来自光源的宽带带光分裂为量测光及参考光，照射量测光使其倾斜地进入膜的表面，以及照射参考光使其倾斜地进入参考镜。光接收系统使借由膜之表面所反射的量测光以及借由参考镜所反射的参考光彼此组合，以及将组合的光导至光电转换组件。于膜之表面的量测光之入射角以及于参考镜之参考光的入射角各者皆大于布鲁斯特（Brewster）角。进入基材之表面的量测光中包括的s极化光以及p极化光对于光电转换组件具有相同的强度。

5. 实用新型

TW523085U 干涉儀連續變焦成像裝置失效
简体标题：干涉仪连续变焦成像设备
公开(公告)号：TW523085U
公开(公告)日：2003-03-01
申请号：TW091204718
申请日：2002-04-11
申请人：光群雷射科技股份有限公司
发明人：歐陽盟 , 薛新國 , 曾新淼 , 郭世炫 , 劉信烓 , 簡義本 , 鍾錦銘
IPC分类号： G01B
CPC分类号： G01B9/02012 , G01B9/02057 , G01B9/02063 , G01B2290/70 , G02B27/283
摘要：本創作係提供一種干涉儀連續變焦成像裝置，包括參考平面及測試平面之二反射光互相干涉產生干涉圖形；一準直裝置將該干涉圖形之平行光轉換為收斂光，並經光學路徑調整功能手段導引至一偏振分光稜鏡組，進而引導至一連續變焦裝置，其係用以調整該干涉條紋之收斂光的放大倍率並輸出一物影像，再將該物影像成像於電耦合元件上。本創作係可改善干涉條紋品質，且無使用旋轉擴散器，故具有減少元件、降低成本縮小體積之特性；另外，本創作亦利用連動裝置連接連續變焦裝置與衰減片，以達到自動調光與操作便利之特性者。
简体摘要：本创作系提供一种干涉仪连续变焦成像设备，包括参考平面及测试平面之二反射光互相干涉产生干涉图形；一准直设备将该干涉图形之平行光转换为收敛光，并经光学路径调整功能手段导引至一偏振分光棱镜组，进而引导至一连续变焦设备，其系用以调整该干涉条纹之收敛光的放大倍率并输出一物影像，再将该物影像成像于电耦合组件上。本创作系可改善干涉条纹品质，且无使用旋转扩散器，故具有减少组件、降低成本缩小体积之特性；另外，本创作亦利用连动设备连接连续变焦设备与衰减片，以达到自动调光与操作便利之特性者。

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