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    • 8. 发明专利
    • 含有Co或Fe之濺鍍靶
    • 含有Co或Fe之溅镀靶
    • TW201443262A
    • 2014-11-16
    • TW103103460
    • 2014-01-29
    • JX日鑛日石金屬股份有限公司JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION
    • 荒川篤俊ARAKAWA, ATSUTOSHI高見英生TAKAMI, HIDEO中村祐一郎NAKAMURA, YUICHIRO
    • C23C14/34C23C14/06C22C1/05C22C19/07B22F1/00B22F3/14
    • C22C19/07C22C32/0026C22C33/02C22C38/00C22C38/002C23C14/3414
    • 本發明為一種濺鍍靶,該濺鍍靶係由非磁性材粒子分散於含有Co或Fe之磁性材中的材料構成的燒結體濺鍍靶,其特徵在於:於該靶中之研磨面所觀察到的組織,係由平均粒徑1.8μm以下之非磁性材粒子與分散有該非磁性材粒子之含有Co或Fe的金屬相及金屬粒構成,當以位於該非磁性材粒子外緣上任意2點之距離的最大值為最大徑,以平行之2條直線夾持該粒子時2直線間之距離的最小值為最小徑之情形時,其最大徑與最小徑之差在0.7μm以下的非磁性材粒子佔該靶中之研磨面所觀察到之組織內的非磁性材粒子的60%以上,且,當以位於該金屬粒外緣上任意2點之距離的最大值為最大徑,以平行之2條直線夾持該金屬粒時2直線間之距離的最小值為最小徑之情形時,其最大徑與最小徑之和在30μm以上的金屬粒,於1mm2視野內,平均存在1個以上,可抑制因非磁性材料造成之異常放電(為濺鍍時產生顆粒之原因)。
    • 本发明为一种溅镀靶,该溅镀靶系由非磁性材粒子分散于含有Co或Fe之磁性材中的材料构成的烧结体溅镀靶,其特征在于:于该靶中之研磨面所观察到的组织,系由平均粒径1.8μm以下之非磁性材粒子与分散有该非磁性材粒子之含有Co或Fe的金属相及金属粒构成,当以位于该非磁性材粒子外缘上任意2点之距离的最大值为最大径,以平行之2条直线夹持该粒子时2直线间之距离的最小值为最小径之情形时,其最大径与最小径之差在0.7μm以下的非磁性材粒子占该靶中之研磨面所观察到之组织内的非磁性材粒子的60%以上,且,当以位于该金属粒外缘上任意2点之距离的最大值为最大径,以平行之2条直线夹持该金属粒时2直线间之距离的最小值为最小径之情形时,其最大径与最小径之和在30μm以上的金属粒,于1mm2视野内,平均存在1个以上,可抑制因非磁性材料造成之异常放电(为溅镀时产生颗粒之原因)。