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    • 9. 发明专利
    • 接著劑組成物、接著板片、電子裝置及其製造方法
    • 接着剂组成物、接着板片、电子设备及其制造方法
    • TW201435026A
    • 2014-09-16
    • TW102143715
    • 2013-11-29
    • 琳得科股份有限公司LINTEC CORPORATION
    • 西嶋健太NISHIJIMA, KENTA永縄智史NAGANAWA, SATOSHI淵惠美FUCHI, EMI
    • C09J147/00C09J7/02H01L51/52
    • C09J7/02B32B37/12B32B37/182B32B2307/412B32B2457/206C09J7/383C09J123/22C09J2203/326C09J2205/114C09J2400/10C09J2409/00C09J2423/00C09J2467/005C09J2467/006H01L21/565H01L23/3121H01L23/564H01L51/5246H01L2924/0002H05B33/04H01L2924/00
    • 本發明係一種接著劑組成物,其係用於封裝電子裝置之接著劑組成物,含有:來自異戊二烯之反覆單位之含有率,對全反覆單位為0.1~99莫耳%之異丁烯.異戊二烯共聚物作為主要成分;一種接著板片,具有:剝離板片;及形成於該剝離板片上之接著劑層,其特徵在於:上述接著劑層係使用上述接著劑組成物所形成;一種接著板片,包括:氣體阻隔薄膜;及形成於上述氣體阻隔薄膜上之接著劑層,上述氣體阻隔薄膜,在於溫度40℃、相對濕度90%的環境下的水蒸氣穿透率為0.1g/m2/day以下,且全光線穿透率為80%以上者,上述接著劑層,係由包含異丁烯.異戊二烯共聚物作為主要成分之接著劑組成物所組成;及,一種電子裝置,其係將上述接著劑組成物及接著板片,用於作為有機EL元件等之封裝材。根據本發明,可提供又用於作為水分阻斷性優良,且,黏著力優良之接著劑層之形成材料之接著劑組成物、接著板片、電子裝置等。
    • 本发明系一种接着剂组成物,其系用于封装电子设备之接着剂组成物,含有:来自异戊二烯之反复单位之含有率,对全反复单位为0.1~99莫耳%之异丁烯.异戊二烯共聚物作为主要成分;一种接着板片,具有:剥离板片;及形成于该剥离板片上之接着剂层,其特征在于:上述接着剂层系使用上述接着剂组成物所形成;一种接着板片,包括:气体阻隔薄膜;及形成于上述气体阻隔薄膜上之接着剂层,上述气体阻隔薄膜,在于温度40℃、相对湿度90%的环境下的水蒸气穿透率为0.1g/m2/day以下,且全光线穿透率为80%以上者,上述接着剂层,系由包含异丁烯.异戊二烯共聚物作为主要成分之接着剂组成物所组成;及,一种电子设备,其系将上述接着剂组成物及接着板片,用于作为有机EL组件等之封装材。根据本发明,可提供又用于作为水分阻断性优良,且,黏着力优良之接着剂层之形成材料之接着剂组成物、接着板片、电子设备等。