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1. 发明专利

TWI249547B 被覆二氧化矽之聚合物粒子、其製造方法及其用途有权
简体标题：被覆二氧化硅之聚合物粒子、其制造方法及其用途
公开(公告)号：TWI249547B
公开(公告)日：2006-02-21
申请号：TW093107969
申请日：2004-03-24
申请人：積水化成品工業股份有限公司 SEKISUI PLASTICS CO., LTD.
发明人：野口雄司 NOGUCHI, YUUJI
IPC分类号： C08J
CPC分类号： C08J3/12 , C08F283/12 , C08J3/126 , C08J2329/08 , C08J2483/02 , Y10T428/10 , Y10T428/1036 , Y10T428/24942 , Y10T428/25 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993
摘要：一種被覆二氧化矽之聚合物粒子，係由聚合物粒子與二氧化矽被膜所構成，且該聚合物粒子係由聚合性乙烯基系單體形成，而該二氧化矽被膜被覆該聚合物粒子且使該聚合物粒子之表面露出，以具有開口率0.1~1且二氧化矽被膜之高度h及被覆二氧化矽之聚合物粒子之直徑D具有0.5≦h/D
简体摘要：一种被覆二氧化硅之聚合物粒子，系由聚合物粒子与二氧化硅被膜所构成，且该聚合物粒子系由聚合性乙烯基系单体形成，而该二氧化硅被膜被覆该聚合物粒子且使该聚合物粒子之表面露出，以具有开口率0.1~1且二氧化硅被膜之高度h及被覆二氧化硅之聚合物粒子之直径D具有0.5≦h/D<1的关系，又，该二氧化硅被膜系由聚烷氧基硅氧烷低聚物之缩合物形成。

2. 发明专利

TW200514811A 被覆防污膜之樹脂物品的製造方法审中-公开
简体标题：被覆防污膜之树脂物品的制造方法
公开(公告)号：TW200514811A
公开(公告)日：2005-05-01
申请号：TW093131829
申请日：2004-10-20
申请人：日本ARC股份有限公司 NIPPON ARC CO., LTD.
发明人：高橋康史 TAKAHASHI, KOJI , 寺西豊幸 TERANISHI, TOYOYUKI
IPC分类号： C08J
CPC分类号： C08J7/04 , C08J7/045 , C08J2483/02
摘要：本發明可以不必特殊裝置，於高生產效率提供，如防反射膜等透明樹脂基材之表面，以指紋、皮脂、汗、化妝品等污物的附著予以防止，而附著亦容易拭去之具有高耐擦傷性、耐候性的防污膜被覆之樹脂物品。設於透明樹脂基材表面，至少表面係氧化矽質的樹脂或無機氧化物之底層上，以含有烷氧化矽、含氟烷基之矽烷化合物及酸的塗液塗敷，經乾燥形成防污層得被覆防污膜之樹脂物品。
简体摘要：本发明可以不必特殊设备，于高生产效率提供，如防反射膜等透明树脂基材之表面，以指纹、皮脂、汗、化妆品等污物的附着予以防止，而附着亦容易拭去之具有高耐擦伤性、耐候性的防污膜被覆之树脂物品。设于透明树脂基材表面，至少表面系氧化硅质的树脂或无机氧化物之底层上，以含有烷氧化硅、含氟烷基之硅烷化合物及酸的涂液涂敷，经干燥形成防污层得被覆防污膜之树脂物品。

3. 发明专利

TWI483851B 氣體阻隔膜及其製備方法有权
简体标题：气体阻隔膜及其制备方法
公开(公告)号：TWI483851B
公开(公告)日：2015-05-11
申请号：TW102119503
申请日：2013-05-31
申请人： LG化學股份有限公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：柳相旭 , RYU, SANG UK , 金東烈 , KIM, DONG RYUL , 馬承樂 , MA, SEUNG LAC , 黃樯淵 , HWANG, JANG YEON , 文鍾敏 , MOON, JONG MIN
IPC分类号： B32B9/00 , B32B37/02
CPC分类号： C09D183/04 , B05D1/38 , B05D7/04 , B32B2307/7242 , B32B2457/202 , C08J7/045 , C08J2367/02 , C08J2483/02 , C08J2483/04 , Y10T428/265 , Y10T428/31663

4. 发明专利

TW201412556A 氣體阻隔膜及其製備方法审中-公开
简体标题：气体阻隔膜及其制备方法
公开(公告)号：TW201412556A
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：TW102119503
申请日：2013-05-31
申请人： LG化學公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：柳相旭 , RYU, SANG UK , 金東烈 , KIM, DONG RYUL , 馬承樂 , MA, SEUNG LAC , 黃樯淵 , HWANG, JANG YEON , 文鍾敏 , MOON, JONG MIN
IPC分类号： B32B9/00 , B32B37/02
CPC分类号： C09D183/04 , B05D1/38 , B05D7/04 , B32B2307/7242 , B32B2457/202 , C08J7/045 , C08J2367/02 , C08J2483/02 , C08J2483/04 , Y10T428/265 , Y10T428/31663
摘要：本發明係有關於一種具有優異的貼附性質之氣體阻隔膜，以及其製備方式。尤其，本發明藉由塗佈包括由有機矽烷表面改質之無機奈米顆粒之保護塗層於無機層上，以提供一種在惡劣的條件下，於無機層與保護塗層間具有優異貼附性質之氣體阻隔膜。
简体摘要：本发明系有关于一种具有优异的贴附性质之气体阻隔膜，以及其制备方式。尤其，本发明借由涂布包括由有机硅烷表面改质之无机奈米颗粒之保护涂层于无机层上，以提供一种在恶劣的条件下，于无机层与保护涂层间具有优异贴附性质之气体阻隔膜。

5. 发明专利

TW201206705A 積層薄膜以及成型體审中-公开
简体标题：积层薄膜以及成型体
公开(公告)号：TW201206705A
公开(公告)日：2012-02-16
申请号：TW100114046
申请日：2011-04-22
申请人：東麗股份有限公司
发明人：園田和衛 , 長田俊一 , 三村尚
IPC分类号： B32B , C08J
CPC分类号： B32B27/08 , B32B27/283 , B32B27/36 , B32B2250/24 , B32B2307/518 , C08J7/042 , C08J2475/04 , C08J2483/02 , Y10T428/265 , Y10T428/31565 , Y10T428/31616 , Y10T428/31663 , Y10T428/31786
摘要：本發明之第1積層薄膜為一種積層薄膜，係於基材薄膜之至少單側具有A層者，該A層具有(1)聚己內酯段、(2)聚矽氧烷段及/或聚二甲基矽氧烷段、(3)胺甲酸酯鍵結，且A層之玻璃轉移溫度為-30~0℃。本發明之第2積層薄膜為一種積層薄膜，係於基材薄膜之至少單側具有A層者，該A層具有(1)聚己內酯段、(2)聚矽氧烷段及/或聚二甲基矽氧烷段、(3)胺甲酸酯鍵結，且A層在溫度10℃之刮痕之回復時間為3秒以下。本發明之第3積層薄膜為一種積層薄膜，係於基材薄膜之至少單側具有B層者，該B層具有聚己內酯段與胺甲酸酯鍵結，且B層在80℃~150℃之平均裂斷延性為65%以上。本發明之積層薄膜具有良好的成型時追蹤性或自行復原性，及低溫時之自行復原性。本發明之積層薄膜可使用在同時需要成型性與自行復原性之用途。
简体摘要：本发明之第1积层薄膜为一种积层薄膜，系于基材薄膜之至少单侧具有A层者，该A层具有(1)聚己内酯段、(2)聚硅氧烷段及/或聚二甲基硅氧烷段、(3)胺甲酸酯键结，且A层之玻璃转移温度为-30~0℃。本发明之第2积层薄膜为一种积层薄膜，系于基材薄膜之至少单侧具有A层者，该A层具有(1)聚己内酯段、(2)聚硅氧烷段及/或聚二甲基硅氧烷段、(3)胺甲酸酯键结，且A层在温度10℃之刮痕之回复时间为3秒以下。本发明之第3积层薄膜为一种积层薄膜，系于基材薄膜之至少单侧具有B层者，该B层具有聚己内酯段与胺甲酸酯键结，且B层在80℃~150℃之平均裂断延性为65%以上。本发明之积层薄膜具有良好的成型时追踪性或自行复原性，及低温时之自行复原性。本发明之积层薄膜可使用在同时需要成型性与自行复原性之用途。

7. 发明专利

TWI377176B 氧化鈦塗佈劑及氧化鈦塗覆膜形成方法失效
简体标题：氧化钛涂布剂及氧化钛涂覆膜形成方法
公开(公告)号：TWI377176B
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：TW094130862
申请日：2005-09-08
申请人：東海旅客鐵道股份有限公司
发明人：上塚洋 , 志知哲也 , 大鹿航志 , 藤嶋昭 , 高木克彥
IPC分类号： C01G
CPC分类号： C09C1/36 , B01J35/004 , B82Y30/00 , C01P2004/20 , C01P2004/54 , C01P2004/61 , C01P2004/62 , C08J7/04 , C08J2483/02 , C08K3/22 , C08K7/00 , C09C1/0018 , C09C1/3661 , C09D1/00 , C09D7/61 , C09D7/70 , Y10T428/24413 , Y10T428/24942
摘要：〔課題〕提供一種塗佈劑、塗覆膜、塗覆膜的形成方法以及塗佈該塗覆膜的各種製品，可簡便地塗於廣大面積而形成塗覆膜，且化學安定性或物理安定性良好，並且可形成超薄膜。
〔解決手段〕藉由使用烷基胺與層狀鈦酸鹽進行離子交換處理，以得到含有鱗片狀的氧化鈦微粒子的塗佈劑，以及含有二氧化鈦奈米薄片與氧化矽或氧化鈦的溶膠溶液構成的塗佈劑。並且，塗裝後，以乾燥與加熱形成高配向性之鱗片狀氧化鈦微粒子所積層之具有微細構造的塗覆膜。
简体摘要：〔课题〕提供一种涂布剂、涂覆膜、涂覆膜的形成方法以及涂布该涂覆膜的各种制品，可简便地涂于广大面积而形成涂覆膜，且化学安定性或物理安定性良好，并且可形成超薄膜。〔解决手段〕借由使用烷基胺与层状钛酸盐进行离子交换处理，以得到含有鳞片状的氧化钛微粒子的涂布剂，以及含有二氧化钛奈米薄片与氧化硅或氧化钛的溶胶溶液构成的涂布剂。并且，涂装后，以干燥与加热形成高配向性之鳞片状氧化钛微粒子所积层之具有微细构造的涂覆膜。

8. 发明专利

TW200719982A 光學薄膜之處理方法、光學薄膜之處理裝置及光學薄膜之製造方法 METHOD OF TREATING OPTICAL FILM, APPARATUS OF TREATING OPTICAL FILM, AND METHOD OF MANUFACTURING OPTICAL FILM 审中-公开
简体标题：光学薄膜之处理方法、光学薄膜之处理设备及光学薄膜之制造方法 METHOD OF TREATING OPTICAL FILM, APPARATUS OF TREATING OPTICAL FILM, AND METHOD OF MANUFACTURING OPTICAL FILM
公开(公告)号：TW200719982A
公开(公告)日：2007-06-01
申请号：TW095125277
申请日：2006-07-11
申请人：柯尼卡美能達精密光學股份有限公司 KONICA MINOLTA OPTO, INC.
发明人：森永義章 MORINAGA, YOSHIAKI , 田中武志 TANAKA, TAKESHI , 中孝治 NAKAJIMA, KOJI
IPC分类号： B05D , G02B
CPC分类号： C08J7/02 , C08J7/047 , C08J2321/00 , C08J2483/02
摘要：本發明之目的係關於一種可改善在長條薄膜上塗佈防止反射層等之功能性層時易產生之橫紋、塗佈條紋等之塗佈障礙的光學薄膜之處理方法及光學薄膜之處理裝置。本發明之光學薄膜之處理方法,係以被液體潤濕之彈性體擦拭所搬運之長條薄膜後,除去該長條薄膜表面之液體,其特徵在於:該彈性體表面之靜摩擦係數為0.2以上0.9以下。
简体摘要：本发明之目的系关于一种可改善在长条薄膜上涂布防止反射层等之功能性层时易产生之横纹、涂布条纹等之涂布障碍的光学薄膜之处理方法及光学薄膜之处理设备。本发明之光学薄膜之处理方法,系以被液体润湿之弹性体擦拭所搬运之长条薄膜后,除去该长条薄膜表面之液体,其特征在于:该弹性体表面之静摩擦系数为0.2以上0.9以下。

9. 发明专利

TW200631899A 氧化鈦塗佈劑及氧化鈦塗覆膜形成方法失效
简体标题：氧化钛涂布剂及氧化钛涂覆膜形成方法
公开(公告)号：TW200631899A
公开(公告)日：2006-09-16
申请号：TW094130862
申请日：2005-09-08
申请人：東海旅客鐵路股份有限公司 CENTRAL JAPAN RAILWAY COMPANY
发明人：上塚洋 UETSUKA, HIROSHI , 志知哲也 SHICHI, TETSUYA , 大鹿航志 OSHIKA, KOJI , 藤昭 FUJISHIMA, AKIRA , 高木克彥 TAKAGI, KATSUHIKO
IPC分类号： C01G
CPC分类号： C09C1/36 , B01J35/004 , B82Y30/00 , C01P2004/20 , C01P2004/54 , C01P2004/61 , C01P2004/62 , C08J7/04 , C08J2483/02 , C08K3/22 , C08K7/00 , C09C1/0018 , C09C1/3661 , C09D1/00 , C09D7/61 , C09D7/70 , Y10T428/24413 , Y10T428/24942
摘要：〔課題〕提供一種塗佈劑、塗覆膜、塗覆膜的形成方法以及塗佈該塗覆膜的各種製品，可簡便地塗於廣大面積而形成塗覆膜，且化學安定性或物理安定性良好，並且可形成超薄膜。〔解決手段〕藉由使用烷基胺與層狀鈦酸鹽進行離子交換處理，以得到含有鱗片狀的氧化鈦微粒子的塗佈劑，以及含有二氧化鈦奈米薄片與氧化矽或氧化鈦的溶膠溶液構成的塗佈劑。並且，塗裝後，以乾燥與加熱形成高配向性之鱗片狀氧化鈦微粒子所積層之具有微細構造的塗覆膜。
简体摘要：〔课题〕提供一种涂布剂、涂覆膜、涂覆膜的形成方法以及涂布该涂覆膜的各种制品，可简便地涂于广大面积而形成涂覆膜，且化学安定性或物理安定性良好，并且可形成超薄膜。〔解决手段〕借由使用烷基胺与层状钛酸盐进行离子交换处理，以得到含有鳞片状的氧化钛微粒子的涂布剂，以及含有二氧化钛奈米薄片与氧化硅或氧化钛的溶胶溶液构成的涂布剂。并且，涂装后，以干燥与加热形成高配向性之鳞片状氧化钛微粒子所积层之具有微细构造的涂覆膜。

10. 发明专利

TW201410806A 包含矽氧烷化合物之抗反射塗敷組合物及使用其之抗反射膜审中-公开
简体标题：包含硅氧烷化合物之抗反射涂敷组合物及使用其之抗反射膜
公开(公告)号：TW201410806A
公开(公告)日：2014-03-16
申请号：TW102126975
申请日：2013-07-26
申请人：樂金華奧斯有限公司 , LG HAUSYS, LTD.
发明人：趙烘寬 , CHO, HONG-KWAN , 洪周希 , HONG, JOO-HEE , 金源國 , KIM, WON-KOOK
IPC分类号： C09D183/04 , C08K7/26 , G02B1/11 , G06F3/041
CPC分类号： C09D5/006 , C08G77/24 , C08J5/18 , C08J7/047 , C08J2367/02 , C08J2483/02 , C08J2483/04 , C08K7/26 , C09D183/02 , C09D183/04 , C09D183/06 , G02B1/11 , G02B1/111 , C09D183/08
摘要：本發明提供一種抗反射塗敷組合物，其能夠形成具有低折射率的塗敷層；以及提供一種利用該抗反射塗敷組合物製備的抗反射膜及該抗反射膜的製備方法。更具體地，本發明涉及一種使反射率最小化的抗反射膜及該抗反射膜的製備方法，其是使用具有氟烷基的有機矽烷與烷氧基矽烷進行反應以合成出矽氧烷化合物，並以該矽氧烷化合物作為黏結劑包含的抗反射塗敷組合物來形成抗反射膜的塗敷層。由於本發明利用該塗敷組合物製備的抗反射膜具有優異的抗反射效果，因此有望適用於觸控膜等多種顯示器設備。
简体摘要：本发明提供一种抗反射涂敷组合物，其能够形成具有低折射率的涂敷层；以及提供一种利用该抗反射涂敷组合物制备的抗反射膜及该抗反射膜的制备方法。更具体地，本发明涉及一种使反射率最小化的抗反射膜及该抗反射膜的制备方法，其是使用具有氟烷基的有机硅烷与烷氧基硅烷进行反应以合成出硅氧烷化合物，并以该硅氧烷化合物作为黏结剂包含的抗反射涂敷组合物来形成抗反射膜的涂敷层。由于本发明利用该涂敷组合物制备的抗反射膜具有优异的抗反射效果，因此有望适用于触摸膜等多种显示器设备。

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