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    • 8. 发明专利
    • 具有雜環之碘鹽 HETEROCYCLIC RING-CONTAINING IODONIUM SALT
    • 具有杂环之碘盐 HETEROCYCLIC RING-CONTAINING IODONIUM SALT
    • TWI249077B
    • 2006-02-11
    • TW094106894
    • 2002-10-16
    • 和光純藥工業股份有限公司 WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
    • 石原正巳 ISHIHARA, MASAMI浦野洋治 URANO, YOJI高橋昌弘 TAKAHASHI, MASAHIRO
    • G03FC07D
    • C07D311/16C07D311/86C08G59/68C08G65/105C08G2650/16G03F7/0045G03F7/029G03F7/0382G03F7/0392
    • 本發明係提供一種有關作為例如陽離子性光聚合起始劑、化學增幅光阻用酸產生劑等有用之通式[35]所示之具有雜環之碘鹽:
      [35]
      (式中,R26及R27分別各自表示可經鹵素原子或低級烷基取代之芳基、下述通式[2]或通式[3]所示之基;而A3為鹵素原子、源自無機強酸、有機酸或者通式[4]所示化合物之陰離子;惟R26及R27至少一方為通式[2]或通式[3]所示之基、又R26及R27僅任意一方為通式[2]或通式[3]所示之基之情況下,A3為源自通式[36]
      HM3F6 [36]
      (式中,M3表示磷原子、砷原子或銻原子)所示之無機強酸、有機酸或者通式[4]所示化合物之陰離子);
      [2]
      (式中,R3及R4分別各自表示鹵素原子、可經鹵素原子或芳基取代之烷基、可經鹵素原子或低級烷基取代之芳基,X2表示氧原子或硫原子,i為0至4之整數,j為0至3之整數)
      [3]
      (式中,R3及R6分別各自表示鹵素原子、可經鹵素原子或芳基取代之烷基、可經鹵素原子或低級烷基取代之芳基,X3及X4分別各自表示氧原子或硫原子,p為0至2之整數,q為0至3之整數),
      HM1(R7)4 [4]
      (式中,M1表示硼原子或鎵原子,R7表示可經選自鹵代低級烷基、鹵素原子、硝基及氰基之取代基所取代之芳基)。
    • 本发明系提供一种有关作为例如阳离子性光聚合起始剂、化学增幅光阻用酸产生剂等有用之通式[35]所示之具有杂环之碘盐: [35] (式中,R26及R27分别各自表示可经卤素原子或低级烷基取代之芳基、下述通式[2]或通式[3]所示之基;而A3为卤素原子、源自无机强酸、有机酸或者通式[4]所示化合物之阴离子;惟R26及R27至少一方为通式[2]或通式[3]所示之基、又R26及R27仅任意一方为通式[2]或通式[3]所示之基之情况下,A3为源自通式[36] HM3F6 [36] (式中,M3表示磷原子、砷原子或锑原子)所示之无机强酸、有机酸或者通式[4]所示化合物之阴离子); [2] (式中,R3及R4分别各自表示卤素原子、可经卤素原子或芳基取代之烷基、可经卤素原子或低级烷基取代之芳基,X2表示氧原子或硫原子,i为0至4之整数,j为0至3之整数) [3] (式中,R3及R6分别各自表示卤素原子、可经卤素原子或芳基取代之烷基、可经卤素原子或低级烷基取代之芳基,X3及X4分别各自表示氧原子或硫原子,p为0至2之整数,q为0至3之整数), HM1(R7)4 [4] (式中,M1表示硼原子或镓原子,R7表示可经选自卤代低级烷基、卤素原子、硝基及氰基之取代基所取代之芳基)。