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1. 发明专利

TW201439143A 高分子複合材料及其製造方法审中-公开
简体标题：高分子复合材料及其制造方法
公开(公告)号：TW201439143A
公开(公告)日：2014-10-16
申请号：TW102113109
申请日：2013-04-12
申请人：財團法人紡織產業綜合研究所 , TAIWAN TEXTILE RESEARCH INSTITUTE
发明人：魏麒書 , WEI, CHISHU , 林岩錫 , LIN, YENHSI , 楊佩芬 , YANG, PEIFEN , 林政助 , LIN, CHENGCHU
IPC分类号： C08G63/40 , C08G63/81 , C08J3/24 , C08K3/36
CPC分类号： C08G63/16 , C08G63/47 , C08G63/6858 , C08G63/87 , C08K3/36 , C08K5/053 , C08L31/04 , C08L33/08 , C08L67/02 , C08L67/06 , C08L67/07 , C08L83/00 , C08L2312/06 , C08L71/02
摘要：一種高分子複合材料，其組成至少包含多元醇以及相變化網狀交連聚合物，其中，該相變化網狀交連聚合物至少具有一離子基，該離子基和該多元醇之羥基具有氫鍵結合，該多元醇被包覆且分散於該光可硬化型相變化網狀交連聚合物之交連聚合結構中，而該多元醇之重量百分比組成係20~60%，該相變化網狀交連聚合物之重量百分比組成係40~80%。
简体摘要：一种高分子复合材料，其组成至少包含多元醇以及相变化网状交连聚合物，其中，该相变化网状交连聚合物至少具有一离子基，该离子基和该多元醇之羟基具有氢键结合，该多元醇被包覆且分散于该光可硬化型相变化网状交连聚合物之交连聚合结构中，而该多元醇之重量百分比组成系20~60%，该相变化网状交连聚合物之重量百分比组成系40~80%。

2. 发明专利

TWI495657B 高分子複合材料及其製造方法有权
简体标题：高分子复合材料及其制造方法
公开(公告)号：TWI495657B
公开(公告)日：2015-08-11
申请号：TW102113109
申请日：2013-04-12
申请人：財團法人紡織產業綜合研究所 , TAIWAN TEXTILE RESEARCH INSTITUTE
发明人：魏麒書 , WEI, CHISHU , 林岩錫 , LIN, YENHSI , 楊佩芬 , YANG, PEIFEN , 林政助 , LIN, CHENGCHU
IPC分类号： C08G63/40 , C08G63/81 , C08J3/24 , C08K3/36
CPC分类号： C08G63/16 , C08G63/47 , C08G63/6858 , C08G63/87 , C08K3/36 , C08K5/053 , C08L31/04 , C08L33/08 , C08L67/02 , C08L67/06 , C08L67/07 , C08L83/00 , C08L2312/06 , C08L71/02

3. 发明专利

TW200838938A 用於塗料及模製組成物的經不飽和環脂醯亞胺官能化之不飽和聚酯樹脂 RESINS OF UNSATURATED POLYESTERS FUNCTIONALIZED BY UNSATURATED CYCLOALIPHATIC IMIDES, FOR COATINGS AND MOULDING COMPOSITIONS 审中-公开
简体标题：用于涂料及模制组成物的经不饱和环脂酰亚胺官能化之不饱和聚酯树脂 RESINS OF UNSATURATED POLYESTERS FUNCTIONALIZED BY UNSATURATED CYCLOALIPHATIC IMIDES, FOR COATINGS AND MOULDING COMPOSITIONS
公开(公告)号：TW200838938A
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：TW096147651
申请日：2007-12-13
申请人：柯瑞山谷公司 CRAY VALLEY S.A.
发明人：羅西爾喬爾 ROUSSEL, JOEL
IPC分类号： C08L , C09D , H01B
CPC分类号： C08G63/6858 , C08G73/16
摘要：本發明有關一種不飽和聚酯樹脂組成物,其無任何非-反應性溶劑,其包含:(A)至少一不飽和聚酯,其得自:(A1)一酸組份,其包含至少一烯化不飽和環脂族酐及至少5 mol%之衣康酸及/或酐;及(A2)一多元醇組份,其包含至少一選自單羥基化及/或二羥基化之一級胺的羥基化之一級胺與至少一分支多元醇;及與:-該不飽和聚酯(A),其包含至少一衍生自該不飽和環脂族酐的烯化不飽和環脂族醯亞胺官能基;-該多元醇組份(A2),其無任何烷氧化結構;及-選擇之組份(A1)及(A2)的比例與平均官能度為可避免藉由交聯的任何膠化。更詳言之,此樹脂組成物更包含:(B)至少一單體性及/或寡聚性之反應性稀釋劑,其包含至少一烯化未飽和度,以可與該不飽和聚酯(A)的烯化未飽和度共聚合,且該稀釋劑(B)無任何烷氧化結構;及(C)可選擇地,至少一飽和之聚酯,亦即一在室溫為液態之具有飽和之主幹的聚酯,其帶有至少一端基(甲基)丙烯酸未飽和度。本發明亦有關製備該樹脂組成物的方法,一含有該樹脂組成物之可交聯組成物及在保護及/或電-絕緣塗料中的多種用於高抗熱性的使用,特別是電子工程域或於模製組成物。
简体摘要：本发明有关一种不饱和聚酯树脂组成物,其无任何非-反应性溶剂,其包含:(A)至少一不饱和聚酯,其得自:(A1)一酸组份,其包含至少一烯化不饱和环脂族酐及至少5 mol%之衣康酸及/或酐;及(A2)一多元醇组份,其包含至少一选自单羟基化及/或二羟基化之一级胺的羟基化之一级胺与至少一分支多元醇;及与:-该不饱和聚酯(A),其包含至少一衍生自该不饱和环脂族酐的烯化不饱和环脂族酰亚胺官能基;-该多元醇组份(A2),其无任何烷氧化结构;及-选择之组份(A1)及(A2)的比例与平均官能度为可避免借由交联的任何胶化。更详言之,此树脂组成物更包含:(B)至少一单体性及/或寡聚性之反应性稀释剂,其包含至少一烯化未饱和度,以可与该不饱和聚酯(A)的烯化未饱和度共聚合,且该稀释剂(B)无任何烷氧化结构;及(C)可选择地,至少一饱和之聚酯,亦即一在室温为液态之具有饱和之主干的聚酯,其带有至少一端基(甲基)丙烯酸未饱和度。本发明亦有关制备该树脂组成物的方法,一含有该树脂组成物之可交联组成物及在保护及/或电-绝缘涂料中的多种用于高抗热性的使用,特别是电子工程域或于模制组成物。

4. 发明专利

TW201809062A 聚酯彈性體审中-公开
简体标题：聚酯弹性体
公开(公告)号：TW201809062A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW105140064
申请日：2016-12-05
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：張勝隆 , CHANG, SHENG LUNG , 邱仁軍 , CHIU, JEN CHUN , 林志祥 , LIN, CHIH HSIANG , 陳孟歆 , CHEN, MENG HSIN , 陳建明 , CHEN, CHIEN MING , 陳志勇 , CHEN, CHUH YUNG , 林晏榛 , LIN, YEN CHEN
IPC分类号： C08G63/133 , C08G63/40 , C08G63/44 , C08G59/14 , C08G83/00
CPC分类号： C08L67/03 , C08G63/672 , C08G63/6858 , C08L67/025 , C08L77/12 , C08L2205/05 , C08L2207/04 , C08L2308/00
摘要：本揭露提供之聚酯彈性體，包括：(a)醯胺類寡聚物；(b)聚烷二醇；與(c)聚芳族二酸烷二醇酯的反應產物，其中：(a)醯胺類寡聚物之結構為：、、或上述之組合，其中R1係C4-8之烷撐基，R2係C4-8之烷撐基，且每一x各自獨立為10至20之整數；(b)聚烷二醇之結構為：，其中R3係C2-10之烷撐基，且y係20至30之整數；(c)聚芳族二酸烷二醇酯之結構為：、或上述之組合，其中Ar係、、或，R4係C2-6之烷撐基，且z係1至10之整數。
简体摘要：本揭露提供之聚酯弹性体，包括：(a)酰胺类寡聚物；(b)聚烷二醇；与(c)聚芳族二酸烷二醇酯的反应产物，其中：(a)酰胺类寡聚物之结构为：、、或上述之组合，其中R1系C4-8之烷撑基，R2系C4-8之烷撑基，且每一x各自独立为10至20之整数；(b)聚烷二醇之结构为：，其中R3系C2-10之烷撑基，且y系20至30之整数；(c)聚芳族二酸烷二醇酯之结构为：、或上述之组合，其中Ar系、、或，R4系C2-6之烷撑基，且z系1至10之整数。

5. 发明专利

TWI596133B 聚酯彈性體有权
简体标题：聚酯弹性体
公开(公告)号：TWI596133B
公开(公告)日：2017-08-21
申请号：TW105140064
申请日：2016-12-05
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：張勝隆 , CHANG, SHENG LUNG , 邱仁軍 , CHIU, JEN CHUN , 林志祥 , LIN, CHIH HSIANG , 陳孟歆 , CHEN, MENG HSIN , 陳建明 , CHEN, CHIEN MING , 陳志勇 , CHEN, CHUH YUNG , 林晏榛 , LIN, YEN CHEN
IPC分类号： C08G63/133 , C08G63/40 , C08G63/44 , C08G59/14 , C08G83/00
CPC分类号： C08L67/03 , C08G63/672 , C08G63/6858 , C08L67/025 , C08L77/12 , C08L2205/05 , C08L2207/04 , C08L2308/00

6. 发明专利

TW201518867A 含有具含氮環化合物之聚合物的光阻下層膜形成組成物审中-公开
简体标题：含有具含氮环化合物之聚合物的光阻下层膜形成组成物
公开(公告)号：TW201518867A
公开(公告)日：2015-05-16
申请号：TW103127254
申请日：2014-08-08
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：大西竜慈 , OHNISHI, RYUJI , 水落龍太 , MIZUOCHI, RYUTA , 西田登喜雄 , NISHITA, TOKIO , 境田康志 , SAKAIDA, YASUSHI , 坂本力丸 , SAKAMOTO, RIKIMARU
IPC分类号： G03F7/11 , C08G59/24 , H01L21/027
CPC分类号： C09D167/06 , C08G59/1438 , C08G59/26 , C08G63/58 , C08G63/6858 , C09D5/006 , G03F7/091 , H01L21/0276
摘要：提供可得到良好的阻劑形狀之焦點位置具有廣範圍之阻劑下層膜。含有由含二環氧基化合物(A)與含二羧基化合物(B)之反應而得到的直鏈狀聚合物之微影術用阻劑下層膜形成組成物。該直鏈狀聚合物為具有來自該含二環氧基化合物(A)或該含二羧基化合物(B)之下述(1)、(2)、及(3)：所表示之構造者。以含有分別具有式(1)及式(2)之構造的2種的含二環氧基化合物(A)與具有式(3)之構造的含二羧基化合物(B)之反應所得到的聚合物、或具有式(1)之構造的含二環氧基化合物(A)與各自具有式(2)及式(3)之構造的2種的含二羧基化合物(B)之反應所得到的聚合物者為佳。
简体摘要：提供可得到良好的阻剂形状之焦点位置具有广范围之阻剂下层膜。含有由含二环氧基化合物(A)与含二羧基化合物(B)之反应而得到的直链状聚合物之微影术用阻剂下层膜形成组成物。该直链状聚合物为具有来自该含二环氧基化合物(A)或该含二羧基化合物(B)之下述(1)、(2)、及(3)：所表示之构造者。以含有分别具有式(1)及式(2)之构造的2种的含二环氧基化合物(A)与具有式(3)之构造的含二羧基化合物(B)之反应所得到的聚合物、或具有式(1)之构造的含二环氧基化合物(A)与各自具有式(2)及式(3)之构造的2种的含二羧基化合物(B)之反应所得到的聚合物者为佳。

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