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1. 发明专利

TWI570055B 製備低維度材料之方法、製得的低維度材料及含彼之太陽能電池裝置有权
简体标题：制备低维度材料之方法、制得的低维度材料及含彼之太阳能电池设备
公开(公告)号：TWI570055B
公开(公告)日：2017-02-11
申请号：TW102138955
申请日：2013-10-28
申请人：中央研究院 , ACADEMIA SINICA
发明人：朱治偉 , CHU, CHIH WEI , 伊伯漢 , IBRAHEM, MOHAMMED AZIZ
IPC分类号： B82Y30/00 , B02C17/00 , B05D7/24 , H01L31/02
CPC分类号： C01G41/00 , C01B19/007 , C01B32/19 , C01B2204/32 , C01G39/02 , C01G39/06 , C01P2002/72 , C01P2002/82 , C01P2004/03 , C01P2004/16 , C01P2004/24 , C01P2004/61 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , H01L51/42 , H01L51/4273 , H01L2251/308 , Y02E10/549

2. 发明专利

TWI540209B 自含錸物質回收錸和其它金屬之方法有权
简体标题：自含铼物质回收铼和其它金属之方法
公开(公告)号：TWI540209B
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：TW100107868
申请日：2011-03-09
申请人：世界資源公司 , WORLD RESOURCES COMPANY , WRC世界資源有限公司 , WRC WORLD RESOURCES COMPANY GMBH
发明人：路德瑞茲艾伯哈德 , LUEDERITZ, EBERHARD , 許雷格爾烏爾利希R , SCHLEGEL, ULRICH R. , 哈爾平彼得T , HALPIN, PETER T. , 許內克戴爾L , SCHNECK, DALE L.
IPC分类号： C22B7/00 , C01G47/00
CPC分类号： C22B61/00 , C01G39/02 , C01G47/00 , C22B3/44 , C22B7/007 , Y02P10/234

3. 发明专利

TW201144451A 自含錸物質回收錸和其它金屬之方法 A METHOD FOR RECOVERING RHENIUM AND OTHER METALS FROM RHENIUM-BEARING MATERIALS 审中-公开
简体标题：自含铼物质回收铼和其它金属之方法 A METHOD FOR RECOVERING RHENIUM AND OTHER METALS FROM RHENIUM-BEARING MATERIALS
公开(公告)号：TW201144451A
公开(公告)日：2011-12-16
申请号：TW100107868
申请日：2011-03-09
申请人：世界資源公司 , WRC世界資源有限公司
发明人：路德瑞茲艾伯哈德 , 許雷格爾烏爾利希R , 哈爾平彼得T , 許內克戴爾L
IPC分类号： C22B , C01G
CPC分类号： C22B61/00 , C01G39/02 , C01G47/00 , C22B3/44 , C22B7/007 , Y02P10/234
摘要：本發明係關於一種自含錸(Re)物質回收Re及其他金屬的方法，作為例示性方法包括以下步驟：(i)將含Re物質添加至浸濾漿料中；(ii)調節該漿料之pH值以獲得呈金屬鹽溶液中之可溶性形式的Re及不可溶殘餘物；(iii)過濾該金屬鹽溶液以移除該等不可溶殘餘物；(iv)使Re自該金屬鹽溶液中選擇性沈澱；(v)自該金屬鹽溶液過濾出該Re沈澱物，得到Re濾餅；(vi)調配及乾燥該Re濾餅，得到硫化錸產物；(vii)將該硫化錸產物與含有Re之鉬(Mo)濃縮物組合，得到Mo/Re濃縮物；(viii)焙燒該Mo/Re濃縮物，得到氧化鉬產物及含有Re之煙道氣；及(ix)處理該含有Re之煙道氣，得到過錸酸銨。
简体摘要：本发明系关于一种自含铼(Re)物质回收Re及其他金属的方法，作为例示性方法包括以下步骤：(i)将含Re物质添加至浸滤浆料中；(ii)调节该浆料之pH值以获得呈金属盐溶液中之可溶性形式的Re及不可溶残余物；(iii)过滤该金属盐溶液以移除该等不可溶残余物；(iv)使Re自该金属盐溶液中选择性沈淀；(v)自该金属盐溶液过滤出该Re沈淀物，得到Re滤饼；(vi)调配及干燥该Re滤饼，得到硫化铼产物；(vii)将该硫化铼产物与含有Re之钼(Mo)浓缩物组合，得到Mo/Re浓缩物；(viii)焙烧该Mo/Re浓缩物，得到氧化钼产物及含有Re之烟道气；及(ix)处理该含有Re之烟道气，得到过铼酸铵。

4. 发明专利

TW201041894A 可作為陰極活性物質之金屬化合物之合成 SYNTHESIS OF METAL COMPOUNDS USEFUL AS CATHODE ACTIVE MATERIALS 审中-公开
简体标题：可作为阴极活性物质之金属化合物之合成 SYNTHESIS OF METAL COMPOUNDS USEFUL AS CATHODE ACTIVE MATERIALS
公开(公告)号：TW201041894A
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：TW099118434
申请日：2003-05-16
申请人：華倫斯工業技術公司
发明人：巴克傑洛米 , 賽狄 M 雅西賽狄 , 史沃爾傑佛瑞 , 東明
IPC分类号： C07F
CPC分类号： C01B25/45 , C01B25/445 , C01B32/05 , C01G39/00 , C01G39/02 , H01M4/0471 , H01M4/485 , H01M4/505 , H01M4/525 , H01M4/5825
摘要：本發明之活性物質含有至少一種鹼金屬與至少一種其他可被氧化至較高氧化狀態之金屬。因此，較佳之其他金屬選自過渡金屬(界定為週期表之族4-11)所組成之群，以及含有其他非過渡金屬如錫、鉍及鉛。活性物質可以單步驟反應或多步驟反應合成。在合成反應之至少一個步驟中，還原碳用作原料。在一態樣中，還原碳係由元素碳，較佳呈微粒狀如石墨、非晶碳、碳黑等提供。在另一態樣中，還原碳亦可由有機前驅物質，或由元素碳與有機前驅物質之混合物提供。
简体摘要：本发明之活性物质含有至少一种碱金属与至少一种其他可被氧化至较高氧化状态之金属。因此，较佳之其他金属选自过渡金属(界定为周期表之族4-11)所组成之群，以及含有其他非过渡金属如锡、铋及铅。活性物质可以单步骤反应或多步骤反应合成。在合成反应之至少一个步骤中，还原碳用作原料。在一态样中，还原碳系由元素碳，较佳呈微粒状如石墨、非晶碳、碳黑等提供。在另一态样中，还原碳亦可由有机前驱物质，或由元素碳与有机前驱物质之混合物提供。

5. 发明专利

TW201638016A 金屬聚酸及金屬聚酸之製造方法审中-公开
简体标题：金属聚酸及金属聚酸之制造方法
公开(公告)号：TW201638016A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW105110262
申请日：2016-03-31
申请人： JX金屬股份有限公司 , JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION
发明人：河村寿文 , KAWAMURA, TOSHIFUMI
IPC分类号： C01G31/00 , C01G39/00 , C01G41/00 , C01B21/20 , C25B1/00 , C25B15/02
CPC分类号： C01G41/02 , C01B21/0821 , C01G31/02 , C01G39/02 , C25B1/00
摘要：提供一種新穎之金屬聚酸及金屬聚酸之製造方法。一種金屬聚酸，其特徵在於：由組成式：MxOy(式中，M為鎢、鉬或釩，4≦x≦1000，2.5≦y/x≦7)表示。
简体摘要：提供一种新颖之金属聚酸及金属聚酸之制造方法。一种金属聚酸，其特征在于：由组成式：MxOy(式中，M为钨、钼或钒，4≦x≦1000，2.5≦y/x≦7)表示。

6. 发明专利

TW201515990A 製備低維度材料之方法审中-公开
简体标题：制备低维度材料之方法
公开(公告)号：TW201515990A
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW102138955
申请日：2013-10-28
申请人：中央研究院 , ACADEMIA SINICA
发明人：朱治偉 , CHU, CHIH WEI , 伊伯漢 , IBRAHEM, MOHAMMED AZIZ
IPC分类号： B82Y30/00 , B02C17/00 , B05D7/24 , H01L31/02
CPC分类号： C01G41/00 , C01B19/007 , C01B32/19 , C01B2204/32 , C01G39/02 , C01G39/06 , C01P2002/72 , C01P2002/82 , C01P2004/03 , C01P2004/16 , C01P2004/24 , C01P2004/61 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , H01L51/42 , H01L51/4273 , H01L2251/308 , Y02E10/549
摘要：本發明提供一種製備低維度材料之方法，其包括將初始待研磨材料與有機溶劑混合形成混合物，以球磨法(bead milling)對該混合物中之待研磨材料進行研磨，獲得包含低維度之該材料及該有機溶劑之懸浮液，及移除該懸浮液中之有機溶劑，獲得該低維度材料。
简体摘要：本发明提供一种制备低维度材料之方法，其包括将初始待研磨材料与有机溶剂混合形成混合物，以球磨法(bead milling)对该混合物中之待研磨材料进行研磨，获得包含低维度之该材料及该有机溶剂之悬浮液，及移除该悬浮液中之有机溶剂，获得该低维度材料。

7. 发明专利

TWI473759B 含有金屬鹽之組成物、基板及基板之製造方法有权
简体标题：含有金属盐之组成物、基板及基板之制造方法
公开(公告)号：TWI473759B
公开(公告)日：2015-02-21
申请号：TW099127640
申请日：2010-08-19
申请人：第一工業製藥股份有限公司 , DAI-ICHI KOGYO SEIYAKU CO., LTD.
发明人：齊藤恭輝 , SAITO, YASUTERU , 池直樹 , IKE, NAOKI
IPC分类号： C01B13/18 , C09D1/00 , C09D7/12 , B05D3/02
CPC分类号： C01G25/02 , C01G3/00 , C01G3/02 , C01G9/00 , C01G9/02 , C01G15/00 , C01G19/02 , C01G23/04 , C01G33/00 , C01G37/027 , C01G39/02 , C01G49/02 , C01G53/04 , C01P2004/03 , C01P2006/82 , C23C18/1216 , C23C18/1283

8. 发明专利

TW201119936A 含有金屬鹽之組成物、基板及基板之製造方法审中-公开
简体标题：含有金属盐之组成物、基板及基板之制造方法
公开(公告)号：TW201119936A
公开(公告)日：2011-06-16
申请号：TW099127640
申请日：2010-08-19
申请人：第一工業製藥股份有限公司
发明人：齊藤恭輝 , 池直樹
IPC分类号： C01B , C09D , B05D
CPC分类号： C01G25/02 , C01G3/00 , C01G3/02 , C01G9/00 , C01G9/02 , C01G15/00 , C01G19/02 , C01G23/04 , C01G33/00 , C01G37/027 , C01G39/02 , C01G49/02 , C01G53/04 , C01P2004/03 , C01P2006/82 , C23C18/1216 , C23C18/1283
摘要：本發明之目的係提供一種含有金屬鹽之組成物,其可使用大部分的金屬原料且可使用於形成與濺鍍法相同程度之緻密且均勻之金屬氧化物被膜,以及提供一種使用該含有金屬鹽之組成物所得之於表面形成有金屬複合物膜之基板、和將該基板進一步加熱所得之於表面形成有金屬複合物膜之基板。進而本發明之目的係提供一種於表面形成有此種金屬複合物膜之基板之製造方法。本發明中係於塗佈法中使用一種含有金屬鹽之組成物塗佈於基板,該含有金屬鹽之組成物係含有金屬鹽、具有順式構造之多元羧酸、溶劑,且相對於金屬鹽之多元羧酸的莫耳比為0.5以上、4.0以下,水分含量為0.05重量%以上。其後進行二段階之加熱處理。
简体摘要：本发明之目的系提供一种含有金属盐之组成物,其可使用大部分的金属原料且可使用于形成与溅镀法相同程度之致密且均匀之金属氧化物被膜,以及提供一种使用该含有金属盐之组成物所得之于表面形成有金属复合物膜之基板、和将该基板进一步加热所得之于表面形成有金属复合物膜之基板。进而本发明之目的系提供一种于表面形成有此种金属复合物膜之基板之制造方法。本发明中系于涂布法中使用一种含有金属盐之组成物涂布于基板,该含有金属盐之组成物系含有金属盐、具有顺式构造之多元羧酸、溶剂,且相对于金属盐之多元羧酸的莫耳比为0.5以上、4.0以下,水分含量为0.05重量%以上。其后进行二段阶之加热处理。

9. 发明专利

TW448132B 具有毫微級結構之氧化物及氫氧化物及其合成方法失效
简体标题：具有毫微级结构之氧化物及氢氧化物及其合成方法
公开(公告)号：TW448132B
公开(公告)日：2001-08-01
申请号：TW086117328
申请日：1998-02-06
申请人：康乃狄格大學 , 魯格斯.新澤西州立大學
发明人：蕭東山 , 彼得.史塔特 , 巴拿.凱爾 , 陳惠敏 , 王梅東
IPC分类号： C01F , B01J
CPC分类号： B82Y30/00 , C01B13/34 , C01G1/02 , C01G3/02 , C01G9/02 , C01G23/04 , C01G25/02 , C01G31/02 , C01G39/02 , C01G41/02 , C01G45/00 , C01G45/02 , C01G49/02 , C01G51/04 , C01G53/00 , C01G53/04 , C01P2002/01 , C01P2002/52 , C01P2002/72 , C01P2002/77 , C01P2004/03 , C01P2004/04 , C01P2004/10 , C01P2004/12 , C01P2004/16 , C01P2004/32 , C01P2004/50 , C01P2004/61 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C01P2006/11 , C01P2006/12 , C01P2006/14 , C01P2006/16 , C01P2006/17 , C01P2006/20 , C04B35/62231 , Y10T428/249924 , Y10T428/2913 , Y10T428/2927 , Y10T428/298 , Y10T428/2982
摘要：一種用於毫微級結構材料的化學合成方法，其係可大量生產，由一反應物溶液霧化噴入一先驅溶液中以形成一毫微級結構氧化物或氫氧化物沉澱物構成。沉澱物經熱處理之後緊接著超音波處理，或超音波處理後緊接著熱處理。此方法可生產毫微級結構摻雜與末摻雜的氫氧化物、二氧化錳及三氧化二釔安定化二氧化鋯。稀罕形態的超結構可以得到，其係包括清晰的圓柱或毫微級棒柱在內，與氫氧化物及二氧化錳的新穎結構一樣，其係由毫微級結構纖維的組合，毫微級結構纖維與毫微級結構顆的凝聚物之組合，以及毫微結構纖維與毫微級結構顆的組合構成。這些新穎的結構具有高滲透速率與高密度活性基，使其變得特別適用於觸媒的應用。
简体摘要：一种用于毫微级结构材料的化学合成方法，其系可大量生产，由一反应物溶液雾化喷入一先驱溶液中以形成一毫微级结构氧化物或氢氧化物沉淀物构成。沉淀物经热处理之后紧接着超音波处理，或超音波处理后紧接着热处理。此方法可生产毫微级结构掺杂与末掺杂的氢氧化物、二氧化锰及三氧化二钇安定化二氧化锆。稀罕形态的超结构可以得到，其系包括清晰的圆柱或毫微级棒柱在内，与氢氧化物及二氧化锰的新颖结构一样，其系由毫微级结构纤维的组合，毫微级结构纤维与毫微级结构颗的凝聚物之组合，以及毫微结构纤维与毫微级结构颗的组合构成。这些新颖的结构具有高渗透速率与高密度活性基，使其变得特别适用于触媒的应用。

10. 发明专利

TWI551648B 鉬化合物粉體、預浸體及疊層板有权
简体标题：钼化合物粉体、预浸体及叠层板
公开(公告)号：TWI551648B
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW101134694
申请日：2012-09-21
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：宮平哲郎 , MIYAHIRA, TETSURO , 加藤禎啟 , KATO, YOSHIHIRO , 小柏尊明 , OGASHIWA, TAKAAKI , 高橋博史 , TAKAHASHI, HIROSHI
IPC分类号： C08L63/04 , C08K9/02 , C08K3/00 , C08J5/24 , B32B15/088 , H05K1/03
CPC分类号： H05K1/0373 , B32B27/20 , C01G39/00 , C01G39/02 , C01P2004/61 , C01P2004/62 , C01P2004/84 , C08J5/24 , C08K3/22 , C08K9/02 , C08K2003/2255 , C08L63/00 , C08L71/12 , C09C1/0003 , H05K2201/0224 , Y10T428/24893 , Y10T428/256

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