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1. 发明专利

TW201040289A 自開採礦石及其它含金屬原料材料回收金屬及金屬化合物之方法 PROCESS FOR RECOVERING METALS AND METAL COMPOUNDS FROM MINED ORE AND OTHER METAL-BEARING RAW SOURCE MATERIALS 审中-公开
简体标题：自开采矿石及其它含金属原料材料回收金属及金属化合物之方法 PROCESS FOR RECOVERING METALS AND METAL COMPOUNDS FROM MINED ORE AND OTHER METAL-BEARING RAW SOURCE MATERIALS
公开(公告)号：TW201040289A
公开(公告)日：2010-11-16
申请号：TW099113644
申请日：2010-04-29
申请人：世界資源公司
发明人：哈爾平彼得T , 許雷格爾烏爾利希R , 許內克戴爾L
IPC分类号： C22B
CPC分类号： C22B7/006 , C01G37/02 , C01G45/02 , C22B3/44 , C22B7/008 , C22B23/0453 , C22B34/32 , C22C19/03 , C22C19/07 , Y02P10/234
摘要：揭露一種自開採礦石和其他含金屬原料材料選擇性回收金屬的方法。該方法係關於使水介質與含金屬礦石及/或其他原料材料混合，該含金屬礦石及/或其他原料材料含有呈不可溶形式的第一金屬、在含Cr材料中之不可溶性及/或可溶性的Cr作為第二金屬以及有機和無機化合物，以獲得含有呈不可溶形式的第一金屬、不可溶性及/或可溶性的Cr化合物及該有機和無機化合物之泥漿；將泥漿的pH值調整至對Cr氧化作用而言最理想的範圍以將Cr轉化成不可溶形式；視情況添加第一氧化劑至泥漿以使有機和無機化合物氧化；選擇性地藉由添加足以獲得呈可溶形式的Cr之瀝取劑的量來瀝取Cr，而同時第一金屬呈不可溶形式殘留在泥漿中；過濾該泥漿以獲得含有呈不可溶形式的第一金屬之濾餅及含有呈可溶形式的Cr之濾液；以及回收該含有呈不可溶形式的第一金屬之濾餅及/或含有呈可溶形式的Cr之濾液。
简体摘要：揭露一种自开采矿石和其他含金属原料材料选择性回收金属的方法。该方法系关于使水介质与含金属矿石及/或其他原料材料混合，该含金属矿石及/或其他原料材料含有呈不可溶形式的第一金属、在含Cr材料中之不可溶性及/或可溶性的Cr作为第二金属以及有机和无机化合物，以获得含有呈不可溶形式的第一金属、不可溶性及/或可溶性的Cr化合物及该有机和无机化合物之泥浆；将泥浆的pH值调整至对Cr氧化作用而言最理想的范围以将Cr转化成不可溶形式；视情况添加第一氧化剂至泥浆以使有机和无机化合物氧化；选择性地借由添加足以获得呈可溶形式的Cr之沥取剂的量来沥取Cr，而同时第一金属呈不可溶形式残留在泥浆中；过滤该泥浆以获得含有呈不可溶形式的第一金属之滤饼及含有呈可溶形式的Cr之滤液；以及回收该含有呈不可溶形式的第一金属之滤饼及/或含有呈可溶形式的Cr之滤液。

2. 发明专利

TWI496894B 自開採礦石及其它含金屬原料材料回收金屬及金屬化合物之方法有权
简体标题：自开采矿石及其它含金属原料材料回收金属及金属化合物之方法
公开(公告)号：TWI496894B
公开(公告)日：2015-08-21
申请号：TW099113644
申请日：2010-04-29
申请人：世界資源公司 , WORLD RESOURCES COMPANY
发明人：哈爾平彼得T , HALPIN, PETER T. , 許雷格爾烏爾利希R , SCHLEGEL, ULRICH R. , 許內克戴爾L , SCHNECK, DALE L.
IPC分类号： C22B3/22 , C22B3/20 , C22B3/42 , C22B3/44
CPC分类号： C22B7/006 , C01G37/02 , C01G45/02 , C22B3/44 , C22B7/008 , C22B23/0453 , C22B34/32 , C22C19/03 , C22C19/07 , Y02P10/234

3. 发明专利

TWI378076B 氫氧化鉻，其製造方法，使用此氫氧化鉻之三價鉻含有液及鉻電鍍法失效
简体标题：氢氧化铬，其制造方法，使用此氢氧化铬之三价铬含有液及铬电镀法
公开(公告)号：TWI378076B
公开(公告)日：2012-12-01
申请号：TW097112626
申请日：2008-04-08
申请人：日本化學工業股份有限公司 , 星野重夫 , 真保良吉
发明人：星野重夫 , 真保良吉 , 田中保之
IPC分类号： C01G , C25D
CPC分类号： C01G37/02 , B82Y30/00 , C01P2004/03 , C01P2004/04 , C01P2004/51 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C01P2006/80 , C25D3/06 , C25D21/14 , Y10T428/2982
摘要：本發明之氫氧化鉻，其特徵在於：藉由以粒度分布測定裝置所測定之體積平均粒徑D50和以掃描型電子顯微鏡圖像所測定之平均粒徑D之比值D50/D來表示之凝集度成為10以上、未滿70，平均粒徑D成為40~200nm。該氫氧化鉻係藉由在反應液溫0℃以上、未滿50℃之條件下，於無機鹼水溶液，添加包含三價鉻之水溶液，而適當地得到氫氧化鉻。作為無機鹼係最好是使用鹼金屬之氫氧化物。
简体摘要：本发明之氢氧化铬，其特征在于：借由以粒度分布测定设备所测定之体积平均粒径D50和以扫描型电子显微镜图像所测定之平均粒径D之比值D50/D来表示之凝集度成为10以上、未满70，平均粒径D成为40~200nm。该氢氧化铬系借由在反应液温0℃以上、未满50℃之条件下，于无机碱水溶液，添加包含三价铬之水溶液，而适当地得到氢氧化铬。作为无机碱系最好是使用碱金属之氢氧化物。

4. 发明专利

TW200911699A 氫氧化鉻,其製造方法,使用此氫氧化鉻之三價鉻含有液及鉻電鍍法失效
简体标题：氢氧化铬,其制造方法,使用此氢氧化铬之三价铬含有液及铬电镀法
公开(公告)号：TW200911699A
公开(公告)日：2009-03-16
申请号：TW097112626
申请日：2008-04-08
申请人：日本化學工業股份有限公司 NIPPON CHEMICAL INDUSTRIAL CO., LTD. , 星野重夫 SHIGEO HOSHINO , 真保良吉 RYOKICHI SHIMPO
发明人：星野重夫 SHIGEO HOSHINO , 真保良吉 RYOKICHI SHIMPO , 田中保之 YASUYUKI TANAKA
IPC分类号： C01G , C25D
CPC分类号： C01G37/02 , B82Y30/00 , C01P2004/03 , C01P2004/04 , C01P2004/51 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C01P2006/80 , C25D3/06 , C25D21/14 , Y10T428/2982
摘要：本發明之氫氧化鉻,其特徵在於:藉由以粒度分布測定裝置所測定之體積平均粒徑D50和以掃描型電子顯微鏡圖像所測定之平均粒徑D之比値D50/D來表示之凝集度成為10以上、未滿70,平均粒徑D成為40~200nm。該氫氧化鉻係藉由在反應液溫0℃以上、未滿50℃之條件下,於無機鹼水溶液,添加包含三價鉻之水溶液,而適當地得到氫氧化鉻。作為無機鹼係最好是使用鹼金屬之氫氧化物。
简体摘要：本发明之氢氧化铬,其特征在于:借由以粒度分布测定设备所测定之体积平均粒径D50和以扫描型电子显微镜图像所测定之平均粒径D之比値D50/D来表示之凝集度成为10以上、未满70,平均粒径D成为40~200nm。该氢氧化铬系借由在反应液温0℃以上、未满50℃之条件下,于无机碱水溶液,添加包含三价铬之水溶液,而适当地得到氢氧化铬。作为无机碱系最好是使用碱金属之氢氧化物。

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