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1. 发明专利

TW200825641A 應用於雷射印表機之光學掃描裝置 LASER SCANNING UNIT FOR A LASER PRINTER 失效
简体标题：应用于激光打印机之光学扫描设备 LASER SCANNING UNIT FOR A LASER PRINTER
公开(公告)号：TW200825641A
公开(公告)日：2008-06-16
申请号：TW095147109
申请日：2006-12-15
申请人：光寶科技股份有限公司 LITE-ON TECHNOLOGY CORP.
发明人：蘇振旗 SU, JENN CHYI , 林勇杉 LIN, YUNG SHAN , 馬進達 MA, CHIN TA
IPC分类号： G03G , G02B
CPC分类号： G02B26/12 , B41J2/471 , G03G15/04036 , G03G15/0435 , G03G15/32
摘要：一種應用於一雷射印表機之光學掃描裝置,其包含有一支撐座,連接於一機殼,一光學系統模組,直接安裝於該支撐座上,用來依據一列印資料產生相對應之一雷射光,一光學掃描器模組,其係鎖固於該支撐座上,用來反射該光學系統模組所產生之該雷射光,一曲面透鏡,用來使該光學掃描器模組所反射之該雷射光以等線速度行進,以及一反射鏡模組,直接安裝於該支撐座上,用來反射該曲面透鏡所傳來之該雷射光至一有機感光導體。
简体摘要：一种应用于一激光打印机之光学扫描设备,其包含有一支撑座,连接于一机壳,一光学系统模块,直接安装于该支撑座上,用来依据一打印数据产生相对应之一激光光,一光学扫描仪模块,其系锁固于该支撑座上,用来反射该光学系统模块所产生之该激光光,一曲面透镜,用来使该光学扫描仪模块所反射之该激光光以等线速度行进,以及一反射镜模块,直接安装于该支撑座上,用来反射该曲面透镜所传来之该激光光至一有机感光导体。

2. 发明专利

TW201346331A 用於發射雷射光束之光學模組审中-公开
简体标题：用于发射激光光束之光学模块
公开(公告)号：TW201346331A
公开(公告)日：2013-11-16
申请号：TW102108565
申请日：2013-03-12
申请人：三星顯示器有限公司 , SAMSUNG DISPLAY CO., LTD.
发明人：金佖奎 , KIM, PIL-KYU , 韓圭完 , HAN, GYOO-WAN , 柳濟吉 , RYU, JE-KIL , 金兌龍 , KIM, TAE-YONG , 金碩煥 , KIM, SEOK-HWAN , 金成坤 , KIM, SUNG-GON
IPC分类号： G02B26/08 , B23K26/04
CPC分类号： G02B26/0816 , B41J2/471 , G02B26/105
摘要：一種用於發射雷射光束之光學模組，包含鏡座；耦接鏡座之中心的旋轉軸；耦接鏡座之一端的振動構件，振動構件係以前後方向振動鏡座之該端；固定至鏡座的鏡子，其係藉由與鏡座執行相對於旋轉軸的往復旋轉而發射雷射光束；以及配置在鏡座之第一側與第二側中的至少一側上的砝碼。砝碼係插設於旋轉軸與第一側與第二側的至少一側之間，以補償鏡子之同心度偏差。
简体摘要：一种用于发射激光光束之光学模块，包含镜座；耦接镜座之中心的旋转轴；耦接镜座之一端的振动构件，振动构件系以前后方向振动镜座之该端；固定至镜座的镜子，其系借由与镜座运行相对于旋转轴的往复旋转而发射激光光束；以及配置在镜座之第一侧与第二侧中的至少一侧上的砝码。砝码系插设于旋转轴与第一侧与第二侧的至少一侧之间，以补偿镜子之同心度偏差。

3. 发明专利

TWI287392B 光柵掃描顯示系統 RASTER SCANNING DISPLAY SYSTEM 失效
简体标题：光栅扫描显示系统 RASTER SCANNING DISPLAY SYSTEM
公开(公告)号：TWI287392B
公开(公告)日：2007-09-21
申请号：TW094127901
申请日：2005-08-16
申请人： LG電子股份有限公司 LG ELECTRONICS INC.
发明人：池昌炫 CHANG-HYEON JI , 李泳柱 YOUNG-JOO YEE , 李時衡 SEE-HYUNG LEE
IPC分类号： H04N
CPC分类号： G02B26/085 , B41J2/465 , B41J2/471 , G02B26/0841 , G02B26/101 , G02B26/105
摘要：本發明揭示一種光柵掃描顯示系統。此光柵掃描顯示系統包括微鏡單元與電鍍鏡單元。此微鏡單元在兩個水平方向中旋轉，且藉由將入射光線反射而形成水平光線。此電鍍鏡單元在兩個垂直方向中旋轉，且藉由將水平光線反射而形成二度空間掃描區。
简体摘要：本发明揭示一种光栅扫描显示系统。此光栅扫描显示系统包括微镜单元与电镀镜单元。此微镜单元在两个水平方向中旋转，且借由将入射光线反射而形成水平光线。此电镀镜单元在两个垂直方向中旋转，且借由将水平光线反射而形成二度空间扫描区。

4. 发明专利

TW200722298A 影像處理方法及影像處理設備 METHOD FOR IMAGE PROCESSING AND IMAGE PROCESSING APPARATUS 审中-公开
简体标题：影像处理方法及影像处理设备 METHOD FOR IMAGE PROCESSING AND IMAGE PROCESSING APPARATUS
公开(公告)号：TW200722298A
公开(公告)日：2007-06-16
申请号：TW095129673
申请日：2006-08-11
申请人：理光股份有限公司 RICOH COMPANY, LTD.
发明人：川原真哉 KAWAHARA, SHINYA , 堀田吉彥 HOTTA, YOSHIHIKO , 新井智 ARAI, SATOSHI
IPC分类号： B41M
CPC分类号： B41J2/471 , B41J2/315 , B41J2/4753
摘要：本發明的目的是要提供一種影像處理方法及影像處理設備,其等可透過形成高密度均勻的影像及在短時間內均勻地抹除掉影像而能以高速度重覆地進行高對比影像的形成及抹除,並能抑制熱可逆性記錄媒體因為重覆地形成及抹除影像而致的劣化。本發明的影像處理方法包含有一影像可形成在一熱可逆性記錄媒體上而其中透明度及色調之任一者係隨著雷射光束照射所致之加熱的溫度而可逆地變化的影像形成步驟,以及一形成在該熱可逆性記錄媒體上的影像可因雷射光束照射至該熱可逆性記錄媒體上所致之加熱而被抹除掉的影像抹除步驟中至少任一者,以及在大約垂直於該影像形成步驟及影像抹除步驟中至少任一者內的所照射之雷射光束之移動方向的方向上的截面上的光線强度分佈內中心點光線照射强度是等於或小於周邊光線照射强度。
简体摘要：本发明的目的是要提供一种影像处理方法及影像处理设备,其等可透过形成高密度均匀的影像及在短时间内均匀地抹除掉影像而能以高速度重复地进行高对比影像的形成及抹除,并能抑制热可逆性记录媒体因为重复地形成及抹除影像而致的劣化。本发明的影像处理方法包含有一影像可形成在一热可逆性记录媒体上而其中透明度及色调之任一者系随着激光光束照射所致之加热的温度而可逆地变化的影像形成步骤,以及一形成在该热可逆性记录媒体上的影像可因激光光束照射至该热可逆性记录媒体上所致之加热而被抹除掉的影像抹除步骤中至少任一者,以及在大约垂直于该影像形成步骤及影像抹除步骤中至少任一者内的所照射之激光光束之移动方向的方向上的截面上的光线强度分布内中心点光线照射强度是等于或小于周边光线照射强度。

5. 发明专利

TW200523576A 掃描裝置、雷射投影裝置、及光學裝置失效
简体标题：扫描设备、激光投影设备、及光学设备
公开(公告)号：TW200523576A
公开(公告)日：2005-07-16
申请号：TW093115678
申请日：2004-06-01
申请人：精工愛普生股份有限公司 SEIKO EPSON CORPORATION
发明人：米窪政敏 YONEKUBO, MASATOSHI
IPC分类号： G02B
CPC分类号： H04N9/3129 , B41J2/471 , G02B26/105
摘要：〔課題〕提供有可以簡便地得到大的掃描範圍之掃描裝置、雷射投影裝置、及光學裝置。〔解決手段〕特徵為；具有，掃描雷射光的掃描部之電流計面鏡102、與射入從電流計面鏡102的雷射光之掃描光學系統100；掃描光學系統100係，順著從電流計面鏡102側，由具有正的折射能力之第1鏡群G1與第2鏡群G2所成；電流計面鏡102係，設置於射入第1鏡群G1的雷射光之側的焦點位置附近；第1鏡群G1與第2鏡群G2係，配置射出第1鏡群G1的雷射光之側的焦點位置與射入第2鏡群G2的雷射光之側的焦點位置為大略一致；第1鏡群G1的焦點距離除以第2鏡群G2的焦點距離之絕對值大於1。
简体摘要：〔课题〕提供有可以简便地得到大的扫描范围之扫描设备、激光投影设备、及光学设备。〔解决手段〕特征为；具有，扫描激光光的扫描部之电流计面镜102、与射入从电流计面镜102的激光光之扫描光学系统100；扫描光学系统100系，顺着从电流计面镜102侧，由具有正的折射能力之第1镜群G1与第2镜群G2所成；电流计面镜102系，设置于射入第1镜群G1的激光光之侧的焦点位置附近；第1镜群G1与第2镜群G2系，配置射出第1镜群G1的激光光之侧的焦点位置与射入第2镜群G2的激光光之侧的焦点位置为大略一致；第1镜群G1的焦点距离除以第2镜群G2的焦点距离之绝对值大于1。

6. 发明专利

TW365581B 於電子照相影像形成裝置內校正或啓動雷射之方法失效
简体标题：于电子照相影像形成设备内校正或启动激光之方法
公开(公告)号：TW365581B
公开(公告)日：1999-08-01
申请号：TW087104211
申请日：1998-04-01
申请人：利盟國際股份有限公司
发明人：大衛布萊恩蘭格 , 克雷格普門布希 , 菲利浦布朗懷特 , 塞羅斯布拉夫德克拉克
IPC分类号： B41J
CPC分类号： G06K15/1209 , B41J2/471 , G03G15/0435 , G03G2215/025 , G03G2215/0402 , H04N1/40037
摘要：本發明說明一種利用於印刷媒體上產生一個印刷圖樣之電子照相成像裝置中校正雷射的方法。本發明提供一種可選擇性充能的雷射輸出光束。一種轉動式光學裝置與雷射結合而形成一個可移動的雷射光束投射路徑。光學裝置的轉動導致投射路徑通過一個與光導滾筒重疊的掃描線。這個光學裝置在開始轉動時具有轉動加速性，因此在轉動速度增快的時侯具有一個斜坡上升週期。一個安全區域在掃描線的部份位置形成，但不會與光導滾筒的圖樣區域重疊。當投射路徑位於安全區域時，雷射被充能與校正。校正的動作是在光學裝置轉動中的斜坡上升週期內進行的。
简体摘要：本发明说明一种利用于印刷媒体上产生一个印刷图样之电子照相成像设备中校正激光的方法。本发明提供一种可选择性充能的激光输出光束。一种转动式光学设备与激光结合而形成一个可移动的激光光束投射路径。光学设备的转动导致投射路径通过一个与光导滚筒重叠的扫描线。这个光学设备在开始转动时具有转动加速性，因此在转动速度增快的时侯具有一个斜坡上升周期。一个安全区域在扫描线的部份位置形成，但不会与光导滚筒的图样区域重叠。当投射路径位于安全区域时，激光被充能与校正。校正的动作是在光学设备转动中的斜坡上升周期内进行的。

7. 发明专利

TWI477930B 用於雷射印刷應用之微機電鏡系統失效
简体标题：用于激光印刷应用之微机电镜系统
公开(公告)号：TWI477930B
公开(公告)日：2015-03-21
申请号：TW097103150
申请日：2008-01-28
申请人：米拉迪亞公司 , MIRADIA, INC.
发明人：楊曉 , XIAO YANG , 威廉史賓瑟渥雷三世 , WILLIAM SPENCER WORLEY III , 陳東敏 , DONGMIN CHEN , 王葉 , YE WANG
IPC分类号： G03G15/00 , G02B26/08 , B81B7/02
CPC分类号： G02B26/0841 , B41J2/471 , G02B26/105

8. 发明专利

TWI347270B 非接觸式可重寫感熱標籤之記錄方法 METHOD FOR RECORDING INFORMATION INTO REWRITABLE THERMAL LABEL OF THE NON-CONTACT TYPE 失效
简体标题：非接触式可重写感热标签之记录方法 METHOD FOR RECORDING INFORMATION INTO REWRITABLE THERMAL LABEL OF THE NON-CONTACT TYPE
公开(公告)号：TWI347270B
公开(公告)日：2011-08-21
申请号：TW095110846
申请日：2006-03-29
申请人：琳得科股份有限公司
发明人：歌川哲之 , 岩淵弘晃 , 西川健彥 , 飯野智諭 , 野田直司 , 水谷薰
IPC分类号： B41M
CPC分类号： B41J2/355 , B41J2/32 , B41J2/471 , B41J2/4753
摘要：【課題】提供一種非接觸式可重寫感熱標籤之記錄方法，因為係非接觸式，所以即使是重複進行資訊之記錄、抹除，亦不會對記錄材料之記錄面造成損傷而可重複使用1000次以上。
【解決方式】使用光掃描裝置，在照射收歛於該非接觸式可重寫感熱標籤之雷射光束並進行既定之描繪時，不進行雷射光之振盪並連續驅動該光掃描裝置，而僅在雷射光振盪時所設想之雷射光束的軌跡(虛擬雷射光束)實質上進行等速運動的情況，使雷射光振盪，並掃描雷射光，以進行描繪。
简体摘要：【课题】提供一种非接触式可重写感热标签之记录方法，因为系非接触式，所以即使是重复进行信息之记录、抹除，亦不会对记录材料之记录面造成损伤而可重复使用1000次以上。【解决方式】使用光扫描设备，在照射收敛于该非接触式可重写感热标签之激光光束并进行既定之描绘时，不进行激光光之振荡并连续驱动该光扫描设备，而仅在激光光振荡时所设想之激光光束的轨迹(虚拟激光光束)实质上进行等速运动的情况，使激光光振荡，并扫描激光光，以进行描绘。

9. 发明专利

TWI346048B 高速雷射打標機 MACHINE DE MARQUAGE LASER A HAUTE CADENCE 失效
简体标题：高速激光打标机 MACHINE DE MARQUAGE LASER A HAUTE CADENCE
公开(公告)号：TWI346048B
公开(公告)日：2011-08-01
申请号：TW096108550
申请日：2007-03-13
申请人：資料卡股份有限公司
发明人：伯斯班諾特 , 普多克斯多明尼奎 , 貝爾特佛列德利克 , 鮑德龍派翠克
IPC分类号： B41J , B23K
CPC分类号： B23K26/0838 , B23K26/032 , B23K26/0342 , B23K26/0344 , B23K26/064 , B23K26/0643 , B23K26/0648 , B23K26/0673 , B23K26/082 , B23K26/127 , B41J2/471 , B42D25/41
摘要：本發明提供一種基材81的雷射打標機5，該基材81可特別由包括積體電路80的塑膠卡片8所組成，該雷射打標機5包括：一雷射室59，包括用以對一內部傳輸裝置上之基材進行打標的至少兩個插槽52a、52b、52a’、52b’，該內部傳輸裝置將在該雷射室內之該基材81由第一插槽52a、52a’移至第二插槽52b、52b’；一位置編碼器9，用以檢測每一基材的移動，並產生相對於該雷射室內之插槽52a、52b、52a’、52b’的各基材位置的位置資料；以及一雷射打標器50，產生一雷射光束509，並包括光學元件，根據定位資料，允許將該雷射光束509偏轉至在兩個插槽52a、52b，52a’、52b’之間移動的可移動打標區域，且該可移動打標區域包含欲打標的基材81；以及一傳輸裝置2，係位於該雷射室的外部，用以將基材81傳送至雷射室59內以及將基材81移出該雷射室59外。
简体摘要：本发明提供一种基材81的激光打标机5，该基材81可特别由包括集成电路80的塑胶卡片8所组成，该激光打标机5包括：一激光室59，包括用以对一内部传输设备上之基材进行打标的至少两个插槽52a、52b、52a’、52b’，该内部传输设备将在该激光室内之该基材81由第一插槽52a、52a’移至第二插槽52b、52b’；一位置编码器9，用以检测每一基材的移动，并产生相对于该激光室内之插槽52a、52b、52a’、52b’的各基材位置的位置数据；以及一激光打标器50，产生一激光光束509，并包括光学组件，根据定位数据，允许将该激光光束509偏转至在两个插槽52a、52b，52a’、52b’之间移动的可移动打标区域，且该可移动打标区域包含欲打标的基材81；以及一传输设备2，系位于该激光室的外部，用以将基材81发送至激光室59内以及将基材81移出该激光室59外。

10. 发明专利

TW200627059A 經標記之物件及其製造方法 MARKED ARTICLE AND METHOD OF MAKING THE SAME 审中-公开
简体标题：经标记之对象及其制造方法 MARKED ARTICLE AND METHOD OF MAKING THE SAME
公开(公告)号：TW200627059A
公开(公告)日：2006-08-01
申请号：TW094134078
申请日：2005-09-29
申请人：奇異電器公司 GENERAL ELECTRIC COMPANY
发明人：大衛B 安吉爾 ENGEL, DAVID B. , 大衛G 蓋斯可林 GASCOYNE, DAVID G. , 凡迪塔派-帕蘭傑皮 PAI-PARANJAPE, VANDITA , 雷狄斯勞夫A 普特雷歐 POTYRAILO, RADISLAV A. , 菲力普史考特藍 SCHOTTLAND, PHILIPPE , 米卡沙奇史堤華施 SZE, MICAH SAKIESTEWA , 馬可B 威斯紐戴爾 WISNUDEL, MARC B.
IPC分类号： G03C
CPC分类号： B41M5/267 , B41J2/471 , Y10S430/146
摘要：本發明提供一種標記一熱塑性物件之方法，其可包含：將一熱塑性材料與一光標記添加劑相組合以形成一組合物；將該組合物形成為一具有一最大光學吸收波長之物件；及用一具有小於或等於約200 mW之功率之裝置，在一標記波長下照射該物件之至少一部分以形成一光標記。該光標記可具有一當沿一主軸量測時大於或等於約10微米之尺寸。該光標記亦可具有一大於或等於該最大光學吸收波長之約±100 nm的標記吸收波長，且可具有一光譜吸收曲線。
简体摘要：本发明提供一种标记一热塑性对象之方法，其可包含：将一热塑性材料与一光标记添加剂相组合以形成一组合物；将该组合物形成为一具有一最大光学吸收波长之对象；及用一具有小于或等于约200 mW之功率之设备，在一标记波长下照射该对象之至少一部分以形成一光标记。该光标记可具有一当沿一主轴量测时大于或等于约10微米之尺寸。该光标记亦可具有一大于或等于该最大光学吸收波长之约±100 nm的标记吸收波长，且可具有一光谱吸收曲线。

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