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1. 发明专利

TWI419744B 收集與處理清洗引擎之廢水的系統及裝置有权
简体标题：收集与处理清洗发动机之废水的系统及设备
公开(公告)号：TWI419744B
公开(公告)日：2013-12-21
申请号：TW099107498
申请日：2005-05-20
申请人：生態服務股份有限公司 , ECOSERVICES, LLC
发明人：赫傑普凱羅喬瀚 , HJERPE, CARL-JOHAN , 阿斯普路得彼得 , ASPLUND, PETER
IPC分类号： B08B13/00 , B08B3/00
CPC分类号： F01D25/002 , B05B7/0093 , B05B7/166 , B05B7/26 , B05B12/002 , B08B3/003 , B08B3/02 , B08B3/026 , B08B3/08 , B08B3/10 , B08B9/00 , B08B9/093 , B60S3/044 , E03B1/042 , F05D2220/323

2. 实用新型

TW539237U 自動清洗研磨劑儲存桶之裝置失效
简体标题：自动清洗研磨剂存储桶之设备
公开(公告)号：TW539237U
公开(公告)日：2003-06-21
申请号：TW091205895
申请日：2002-04-29
申请人：南亞科技股份有限公司
发明人：陳志焜 , 蔡明發
IPC分类号： H01L
CPC分类号： B08B9/093
摘要：一種自動清洗研磨劑儲存桶之裝置，主要包括：一第一管路，用以伸入於一研磨劑儲存桶內部，其中該第一管路具有一末端部，且位於該研磨劑儲存桶內部。一第一噴嘴，位於該第一管路之該末端部上。一蓋子，用以蓋住該研磨劑儲存桶，其中該蓋子具有複數個第二噴嘴，且該等第二噴嘴朝向該研磨劑儲存桶表面。一第二管路，連接該等第二噴嘴。一控制裝置，用以使化學藥液、純水或乾燥氣體經由該第一管路與該第二管路，而從該第一噴嘴與該等第二噴嘴噴出。根據本創作的自動清洗研磨劑儲存桶之裝置，可以取代人工清洗研磨劑儲存桶。
简体摘要：一种自动清洗研磨剂存储桶之设备，主要包括：一第一管路，用以伸入于一研磨剂存储桶内部，其中该第一管路具有一末端部，且位于该研磨剂存储桶内部。一第一喷嘴，位于该第一管路之该末端部上。一盖子，用以盖住该研磨剂存储桶，其中该盖子具有复数个第二喷嘴，且该等第二喷嘴朝向该研磨剂存储桶表面。一第二管路，连接该等第二喷嘴。一控制设备，用以使化学药液、纯水或干燥气体经由该第一管路与该第二管路，而从该第一喷嘴与该等第二喷嘴喷出。根据本创作的自动清洗研磨剂存储桶之设备，可以取代人工清洗研磨剂存储桶。

3. 发明专利

TW201544253A 磨削輪及磨削室之洗淨方法审中-公开
简体标题：磨削轮及磨削室之洗净方法
公开(公告)号：TW201544253A
公开(公告)日：2015-12-01
申请号：TW104106996
申请日：2015-03-05
申请人：迪思科股份有限公司 , DISCO CORPORATION
发明人：津野貴彥 , TSUNO, TAKAHIKO
IPC分类号： B24B55/03
CPC分类号： B24B53/007 , B08B1/007 , B08B3/02 , B08B9/00 , B08B9/093 , B24D7/18
摘要：本發明之課題在於洗淨磨削裝置之磨削室以防止磨削屑附著於被加工物之被磨削面之情形。解決手段是將磨削輪做成以下的構成：具備環狀基台，於其下表面將磨削石配置成環狀，並具有於徑方向貫通內側面與外側面且在圓周方向上配置複數個的磨削水排出用貫通孔。又，貫通孔是形成為以預定間隔配置於圓周方向上並使磨削水往不同方向飛散。
简体摘要：本发明之课题在于洗净磨削设备之磨削室以防止磨削屑附着于被加工物之被磨削面之情形。解决手段是将磨削轮做成以下的构成：具备环状基台，于其下表面将磨削石配置成环状，并具有于径方向贯通内侧面与外侧面且在圆周方向上配置复数个的磨削水排出用贯通孔。又，贯通孔是形成为以预定间隔配置于圆周方向上并使磨削水往不同方向飞散。

4. 发明专利

TW201400199A 基板收納容器之沖洗裝置及沖洗方法审中-公开
简体标题：基板收纳容器之冲洗设备及冲洗方法
公开(公告)号：TW201400199A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW102103336
申请日：2013-01-29
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：貝瀬精一 , KAISE, SEIICHI , 雨宮繁樹 , AMEMIYA, SHIGEKI , 七崎玄一 , NANASAKI, GENICHI
IPC分类号： B08B3/02
CPC分类号： B08B9/093 , H01L21/67034 , H01L21/67389
摘要：本發明之基板收納容器之沖洗裝置具有：上部噴嘴，設於基板收納容器之開口的上方，朝向與基板收納容器相反之側往斜下方供應乾燥氣體，且乾燥氣體之供應遍及開口之寬度之全面；以及複數之側部噴嘴，分別設於基板收納容器之開口的左右側，從該開口之外側對基板收納容器之內部供應乾燥氣體。側部噴嘴所具備之長度在開口之高度以上，且於上下方向全體，依既定間隔形成有複數供應孔，以供應乾燥氣體。其中一邊側方的該側部噴嘴上所形成之各供應孔，與另一邊側方之側部噴嘴上所設置之各供應孔，交錯配置成不位於同一高度。
简体摘要：本发明之基板收纳容器之冲洗设备具有：上部喷嘴，设于基板收纳容器之开口的上方，朝向与基板收纳容器相反之侧往斜下方供应干燥气体，且干燥气体之供应遍及开口之宽度之全面；以及复数之侧部喷嘴，分别设于基板收纳容器之开口的左右侧，从该开口之外侧对基板收纳容器之内部供应干燥气体。侧部喷嘴所具备之长度在开口之高度以上，且于上下方向全体，依既定间隔形成有复数供应孔，以供应干燥气体。其中一边侧方的该侧部喷嘴上所形成之各供应孔，与另一边侧方之侧部喷嘴上所设置之各供应孔，交错配置成不位于同一高度。

5. 发明专利

TWI415207B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI415207B
公开(公告)日：2013-11-11
申请号：TW098138471
申请日：2009-11-12
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：林航之介 , HAYASHI, KONOSUKE
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/30
CPC分类号： H01L21/67051 , B08B3/024 , B08B9/0813 , B08B9/093 , B08B9/28 , F26B5/005 , H01L21/02057 , H01L21/67046 , H01L21/6708

6. 发明专利

TWI561316B 基板收納容器之沖洗裝置及沖洗方法有权
简体标题：基板收纳容器之冲洗设备及冲洗方法
公开(公告)号：TWI561316B
公开(公告)日：2016-12-11
申请号：TW102103336
申请日：2013-01-29
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：貝瀬精一 , KAISE, SEIICHI , 雨宮繁樹 , AMEMIYA, SHIGEKI , 七崎玄一 , NANASAKI, GENICHI
IPC分类号： B08B3/02
CPC分类号： B08B9/093 , H01L21/67034 , H01L21/67389

7. 发明专利

TW201350220A 淨化噴嘴單元，淨化裝置，裝載埠审中-公开
简体标题：净化喷嘴单元，净化设备，装载端口
公开(公告)号：TW201350220A
公开(公告)日：2013-12-16
申请号：TW101149563
申请日：2012-12-24
申请人：昕芙旎雅股份有限公司 , SINFONIA TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：夏目光夫 , NATSUME, MITSUO , 鈴木淳志 , SUZUKI, ATSUSHI
IPC分类号： B08B5/00 , B65G49/07
CPC分类号： B08B9/093 , H01L21/67393 , H01L21/67775
摘要：本發明的課題是在於提供一種淨化噴嘴單元，其係一面採用可進行預定的氣體環境的到達濃度高的淨化處理之底部淨化方式，一面可以簡單的控制來進行噴嘴本體的昇降動作，且可實現零件點數的削減及小型化。其解決手段是使淨化噴嘴單元(1)具備：噴嘴本體(2)，其係具備軀幹部(41)及突出至比軀幹部更側方的凸邊部(8)；及夾具(3)，其係具有添接於凸邊部(8)的向外面之側壁(31)及形成軀幹部(41)的向外面所添接的貫通孔32之底壁(33)，在夾具(3)形成連通至外部的通氣孔(30)，藉由調整形成於噴嘴本體(2)與夾具(3)之間且連通至通氣孔(30)的壓力調整空間(S)的壓力，構成可使噴嘴本體(2)對夾具(3)昇降移動。
简体摘要：本发明的课题是在于提供一种净化喷嘴单元，其系一面采用可进行预定的气体环境的到达浓度高的净化处理之底部净化方式，一面可以简单的控制来进行喷嘴本体的升降动作，且可实现零件点数的削减及小型化。其解决手段是使净化喷嘴单元(1)具备：喷嘴本体(2)，其系具备躯干部(41)及突出至比躯干部更侧方的凸边部(8)；及夹具(3)，其系具有添接于凸边部(8)的向外面之侧壁(31)及形成躯干部(41)的向外面所添接的贯通孔32之底壁(33)，在夹具(3)形成连通至外部的通气孔(30)，借由调整形成于喷嘴本体(2)与夹具(3)之间且连通至通气孔(30)的压力调整空间(S)的压力，构成可使喷嘴本体(2)对夹具(3)升降移动。

8. 发明专利

TW201043349A 收集與處理清洗引擎之廢水的系統及裝置 SYSTEM AND DEVICES FOR COLLECTING AND TREATING WASTE WATER FROM ENGINE WASHING 审中-公开
简体标题：收集与处理清洗发动机之废水的系统及设备 SYSTEM AND DEVICES FOR COLLECTING AND TREATING WASTE WATER FROM ENGINE WASHING
公开(公告)号：TW201043349A
公开(公告)日：2010-12-16
申请号：TW099107498
申请日：2005-05-20
申请人：燃氣渦輪效率公司
发明人：赫傑普凱羅喬瀚 , 阿斯普路得彼得
IPC分类号： B08B
CPC分类号： F01D25/002 , B05B7/0093 , B05B7/166 , B05B7/26 , B05B12/002 , B08B3/003 , B08B3/02 , B08B3/026 , B08B3/08 , B08B3/10 , B08B9/00 , B08B9/093 , B60S3/044 , E03B1/042 , F05D2220/323
摘要：本發明係有關於清洗引擎之領域,尤指使用諸如清潔劑加水或單純水之清洗液體者,且更具體地係有關於諸系統、裝置及一機動台車,其包括一可用於收集並處理來自引擎清洗作業之廢水的系統。該系統包括一用於在引擎清洗作業過程中收集廢液之收集裝置及一用於處理在該清洗作業過程中所收集到之廢液之處理裝置。根據一實施例,該系統被配置在一包括一配備有輪子之底盤的機動台車(50)上,以便在引擎(1)清洗作業期間可供用於一引擎(1)。該機動台車亦包括可相對於該引擎(1)用於調整液體分離設備(31)之垂直位置的調整設備(73)及/或用於調整液體收集設備(302、36)之垂直位置的調整設備。
简体摘要：本发明系有关于清洗发动机之领域,尤指使用诸如清洁剂加水或单纯水之清洗液体者,且更具体地系有关于诸系统、设备及一机动台车,其包括一可用于收集并处理来自发动机清洗作业之废水的系统。该系统包括一用于在发动机清洗作业过程中收集废液之收集设备及一用于处理在该清洗作业过程中所收集到之废液之处理设备。根据一实施例,该系统被配置在一包括一配备有轮子之底盘的机动台车(50)上,以便在发动机(1)清洗作业期间可供用于一发动机(1)。该机动台车亦包括可相对于该发动机(1)用于调整液体分离设备(31)之垂直位置的调整设备(73)及/或用于调整液体收集设备(302、36)之垂直位置的调整设备。

9. 发明专利

TWI610385B 基板處理方法及基板處理裝置有权
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TWI610385B
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW104101848
申请日：2015-01-20
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：山本真弘 , YAMAMOTO, MASAHIRO
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67276 , B08B1/002 , B08B3/04 , B08B9/093 , H01L21/02057 , H01L21/67051 , H01L21/67748 , H01L21/67766 , H01L21/67781 , H01L21/68707

10. 发明专利

TWI538746B 基板盒洗淨裝置（二）有权
简体标题：基板盒洗净设备（二）
公开(公告)号：TWI538746B
公开(公告)日：2016-06-21
申请号：TW102133900
申请日：2013-09-18
申请人：修谷魯電子機器股份有限公司 , HUGLE ELECTRONICS INC.
发明人：坂下俊也 , SAKASHITA, TOSHIYA
IPC分类号： B08B11/04 , B08B5/02
CPC分类号： B08B9/0826 , B08B3/02 , B08B3/04 , B08B3/08 , B08B9/093 , B08B9/205 , B08B9/283 , H01L21/67051 , H01L21/67057

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